专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

简体标题：制备咯烷酮化合物除草剂及其中间产物之方法

公开(公告)号：TW400325B

公开(公告)日：2000-08-01

申请号：TW085105811

申请日：1996-05-16

申请人：捷利康公司

发明人：艾安.里查.瑪蘇繆 , 約翰.麥克.可斯 , 凱文.詹姆士.傑蘭 , 洛塞.馬汀.艾里斯 , 雪音.哈頓.摩拉 , 史帝芬.克里斯多福.史密斯

IPC分类号： C07D

CPC分类号： C07D207/273

摘要：本發明係關於通式II化合物之製備:CC Ⅱ其中， Rl是氫或Cl-Cl0烴基或具3至8個環原子的雜環基團，其中的每一者都可視情況所須地被鹵素(即，氯、溴、氟或碘)、羥基、SO2NR^aR^b(其中，R^a和R^b分別是H或Cl-C6烷基)、SiR^c3(其中，R^c是Cl-C4烷基或苯基)、氫基、硝基、胺基、一-和二烷基胺基(其中的烷基具l或6或更多個碳原子)、醯胺基、Cl-C6烷氧基、Cl-C6鹵烷氧基、Cl-C6烷基硫代、Cl-G6烷基亞硫醯基、Cl-C6洗基磺醯基、羧塞、羧醯胺基(與基團中的N原子相接者可能是氫或視情況所須之經取代的低碳烴類)、其烷氧基具l至6或更多個碳原子的烷氧羰基或芳基(如:苯基)所取代; R2、R3、R4和R5分別是氫或Cl-C4烷基; A是芳族或雜芳族環系統，它可視情況所須地被一或多種取代基所取代，其取代基選自:鹵素或Cl-Cl0烴基、-O(Cl- Cl0烴基)、-S(Cl-Cl0烴基)、-SO(Cl-Cl0烴基)或 S02(Cl-Cl0烴基)、氰基、硝基、SCN、SiR^c3(其中的每個R^c分別是Cl-C4烷基或苯基)、COR7、CR7NOR8、 NHOH、ONR7R8、SF5、COOR7、S02NR7R8、OR9或 NRl0Rll;且其中的環氮原子可以被四級化或氧化;或者，基團A的任兩個取代基可併成稠合的5-或6-員、飽和或部分飽和碳環或雜環，其中，任何碳或四級氮原子可以被前面所提到之用於A的任何基團所取代，或者，環碳原子可被氧化; R7和R8分別是氫或Cl-Cl0烴基; R9是氫、Cl-Cl0烴基、S02(Cl-Cl0烴基)、CHO、 CO(Cl-Cl烴基)、COO(Cl-Cl0烴基)或CONR7R8; Rl0和Rll分別是氫、C1-Cl0烴基、O(Cl-Cl0烴基)、 S02(Cl，Cl0烴基)、CHO、CO(Cl-Cl0烴基)、COO(Cl- Cl0烴基)或CONR7R8;基團A中所提到的烴基可視情況所須地被鹵素(即，氯、溴、氟或碘)、羥基、S02NR^aR^b(其中，R^a和R^b分別是H或 Cl-C6烷基)、氰基、硝基、胺基、一-和二烷基胺基(其中的基具l至6或更多個碳原子)、醯胺基、Cl-C6烷氧基、Cl- C6鹵烷氧基、Cl-C6烷基硫代、Cl-C6烷基亞硫醯基、C1- C6烷基磺醯基、羧基、羧醯胺基(與基團中的N原子相接者可能是氫或視情況所須之經取代的低碳烴類)、其烷氧基具 l至6或更多個碳原子的烷氧羰基或芳基(如:苯基)所取代; R21是氫、鹵素、OH或OCONHRl，其中，Rl如前面所定義者;此方法包含於鹼性條件下，將通式III的化合物加以環化:CC Ⅲ其中,A、R2、R3、R4、R5和R21如通式II中所定義者, R25是離去基,如:鹵素原子。
相關之英國專利申請案第9510744.7號係於1995年5月26日提出申請。

简体摘要：本发明系关于通式II化合物之制备:CC Ⅱ其中， Rl是氢或Cl-Cl0烃基或具3至8个环原子的杂环基团，其中的每一者都可视情况所须地被卤素(即，氯、溴、氟或碘)、羟基、SO2NR^aR^b(其中，R^a和R^b分别是H或Cl-C6烷基)、SiR^c3(其中，R^c是Cl-C4烷基或苯基)、氢基、硝基、胺基、一-和二烷基胺基(其中的烷基具l或6或更多个碳原子)、酰胺基、Cl-C6烷氧基、Cl-C6卤烷氧基、Cl-C6烷基硫代、Cl-G6烷基亚硫酰基、Cl-C6洗基磺酰基、羧塞、羧酰胺基(与基团中的N原子相接者可能是氢或视情况所须之经取代的低碳烃类)、其烷氧基具l至6或更多个碳原子的烷氧羰基或芳基(如:苯基)所取代; R2、R3、R4和R5分别是氢或Cl-C4烷基; A是芳族或杂芳族环系统，它可视情况所须地被一或多种取代基所取代，其取代基选自:卤素或Cl-Cl0烃基、-O(Cl- Cl0烃基)、-S(Cl-Cl0烃基)、-SO(Cl-Cl0烃基)或 S02(Cl-Cl0烃基)、氰基、硝基、SCN、SiR^c3(其中的每个R^c分别是Cl-C4烷基或苯基)、COR7、CR7NOR8、 NHOH、ONR7R8、SF5、COOR7、S02NR7R8、OR9或 NRl0Rll;且其中的环氮原子可以被四级化或氧化;或者，基团A的任两个取代基可并成稠合的5-或6-员、饱和或部分饱和碳环或杂环，其中，任何碳或四级氮原子可以被前面所提到之用于A的任何基团所取代，或者，环碳原子可被氧化; R7和R8分别是氢或Cl-Cl0烃基; R9是氢、Cl-Cl0烃基、S02(Cl-Cl0烃基)、CHO、 CO(Cl-Cl烃基)、COO(Cl-Cl0烃基)或CONR7R8; Rl0和Rll分别是氢、C1-Cl0烃基、O(Cl-Cl0烃基)、 S02(Cl，Cl0烃基)、CHO、CO(Cl-Cl0烃基)、COO(Cl- Cl0烃基)或CONR7R8;基团A中所提到的烃基可视情况所须地被卤素(即，氯、溴、氟或碘)、羟基、S02NR^aR^b(其中，R^a和R^b分别是H或 Cl-C6烷基)、氰基、硝基、胺基、一-和二烷基胺基(其中的基具l至6或更多个碳原子)、酰胺基、Cl-C6烷氧基、Cl- C6卤烷氧基、Cl-C6烷基硫代、Cl-C6烷基亚硫酰基、C1- C6烷基磺酰基、羧基、羧酰胺基(与基团中的N原子相接者可能是氢或视情况所须之经取代的低碳烃类)、其烷氧基具 l至6或更多个碳原子的烷氧羰基或芳基(如:苯基)所取代; R21是氢、卤素、OH或OCONHRl，其中，Rl如前面所定义者;此方法包含于碱性条件下，将通式III的化合物加以环化:CC Ⅲ其中,A、R2、R3、R4、R5和R21如通式II中所定义者, R25是离去基,如:卤素原子。相关之英国专利申请案第9510744.7号系于1995年5月26日提出申请。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式