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1. 发明专利

TW201827148A 脈衝寬度控制器审中-公开
简体标题：脉冲宽度控制器
公开(公告)号：TW201827148A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW107101767
申请日：2013-09-23
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT,THEODORE P.
IPC分类号： B23K26/0622 , H01S3/139
摘要：茲揭示一種熱處理系統之脈衝寬度控制器。脈衝電磁輻射經導引通過轉動式波片至偏振分光鏡，該偏振分光鏡之反射及透射係依據該波片之相位角度。由該偏振分光鏡透射之輻射被導引至光電路，該光電路經傳遞時間後使該輻射返回該偏振分光鏡。第二轉動式波片擺設於該光電路中。該偏振分光鏡依據該第二轉動式波片之相位角度反射及透射該返回輻射。第二脈衝寬度控制器可巢套於該光電路中，且該光電路可巢套任何數量之脈衝寬度控制器。
简体摘要：兹揭示一种热处理系统之脉冲宽度控制器。脉冲电磁辐射经导引通过转动式波片至偏振分光镜，该偏振分光镜之反射及透射系依据该波片之相位角度。由该偏振分光镜透射之辐射被导引至光电路，该光电路经传递时间后使该辐射返回该偏振分光镜。第二转动式波片摆设于该光电路中。该偏振分光镜依据该第二转动式波片之相位角度反射及透射该返回辐射。第二脉冲宽度控制器可巢套于该光电路中，且该光电路可巢套任何数量之脉冲宽度控制器。

2. 发明专利

TWI613464B 用於減少斑點、伸展脈衝、並使光束均勻化之設備有权
简体标题：用于减少斑点、伸展脉冲、并使光束均匀化之设备
公开(公告)号：TWI613464B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW103100522
申请日：2014-01-07
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：李濟平 , LI, JIPING , 杭特亞倫穆爾 , HUNTER, AARON MUIR , 亞當布魯斯E , ADAMS, BRUCE E. , 霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN, DOUGLAS E. , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS, SAMUEL C. , 馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT, THEODORE P. , 莫非特史帝夫 , MOFFATT, STEPHEN
IPC分类号： G02B27/09 , G02B27/48 , H01L21/268
CPC分类号： G02B3/0037 , G02B27/48

3. 发明专利

TWI612712B 繞射光學元件及用於圖案化薄膜電化學元件的方法有权
简体标题：绕射光学组件及用于图案化薄膜电化学组件的方法
公开(公告)号：TWI612712B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW102138504
申请日：2013-10-24
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：宋道因 , SONG, DAOYING , 郭B 里奧 , KWAK, B. LEO , 亞當布魯斯E , ADAMS, BRUCE E. , 馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT, THEODORE P.
IPC分类号： H01M14/00 , H01M2/10
CPC分类号： G02B27/4233 , B23K26/362 , G02F1/153 , H01M4/0402 , H01M2010/0495 , H01M2220/30

4. 发明专利

TW201605138A 掃描脈衝退火裝置及方法审中-公开
简体标题：扫描脉冲退火设备及方法
公开(公告)号：TW201605138A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104120336
申请日：2015-06-24
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：杭特亞倫穆爾 , HUNTER, AARON MUIR , 沙德阿邁凱 , SADE, AMIKAM , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS, SAMUEL C. , 霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN, DOUGLAS E. , 亞當布魯斯E , ADAMS, BRUCE E. , 馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT, THEODORE P. , 莫非特史帝夫 , MOFFATT, STEPHEN
IPC分类号： H01S3/11 , H01L21/324
CPC分类号： B23K26/70 , B23K26/0066 , B23K26/0622 , B23K26/0732 , B23K26/082 , B23K26/083 , B23K26/352 , H01L21/268 , H01L21/67115
摘要：一種用於熱處理基板的裝置、系統及方法。脈衝電磁能量來源可以至少100Hz的一速率產生脈衝。可移動基板支撐件可相對於電磁能量脈衝移動基板。可設置光學系統於能量來源及可移動基板支撐件之間，且可包含將電磁能量脈衝塑形成一矩形剖面的組件。控制器可命令該電磁能量來源以一選擇的脈衝率產生能量脈衝。該控制器也可命令該可移動基板支撐件以一選擇的速度在平行於該矩形剖面的一選擇的邊緣之方向上掃描，使得沿著平行於該選擇的邊緣之一線上的每個點接收一預先決定數量的電磁能量脈衝。
简体摘要：一种用于热处理基板的设备、系统及方法。脉冲电磁能量来源可以至少100Hz的一速率产生脉冲。可移动基板支撑件可相对于电磁能量脉冲移动基板。可设置光学系统于能量来源及可移动基板支撑件之间，且可包含将电磁能量脉冲塑形成一矩形剖面的组件。控制器可命令该电磁能量来源以一选择的脉冲率产生能量脉冲。该控制器也可命令该可移动基板支撑件以一选择的速度在平行于该矩形剖面的一选择的边缘之方向上扫描，使得沿着平行于该选择的边缘之一在线的每个点接收一预先决定数量的电磁能量脉冲。

5. 发明专利

TW201330133A 用於基材處理的雷射反射儀审中-公开
简体标题：用于基材处理的激光反射仪
公开(公告)号：TW201330133A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101143102
申请日：2012-11-19
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT, THEODORE P.
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/428 , B23K26/034 , B23K26/06 , B23K26/0626 , B23K26/127 , H01L21/0231 , H01L21/268 , H01L21/324
摘要：本發明的實施例關於用於在基材處理系統中控制雷射裝置以及與雷射裝置的運用相關的安全特徵的方法與設備。一個實施例中，提供一種用於處理基材的方法。該系統包括：腔室，具有處理空間；第一雷射裝置，發射第一波長的射束進入該處理空間；以及第二雷射裝置，發射第二波長的射束進入該處理空間，其中該第二波長與該第一波長不同，且該第二雷射裝置包含濾片，該濾片適於衰減該第一波長與該第二波長之一者或兩者。
简体摘要：本发明的实施例关于用于在基材处理系统中控制激光设备以及与激光设备的运用相关的安全特征的方法与设备。一个实施例中，提供一种用于处理基材的方法。该系统包括：腔室，具有处理空间；第一激光设备，发射第一波长的射束进入该处理空间；以及第二激光设备，发射第二波长的射束进入该处理空间，其中该第二波长与该第一波长不同，且该第二激光设备包含滤片，该滤片适于衰减该第一波长与该第二波长之一者或两者。

6. 发明专利

TWI653690B 光纖陣列線路產生器有权
简体标题：光纤数组线路产生器
公开(公告)号：TWI653690B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW103141466
申请日：2014-11-28
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN, DOUGLAS E. , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS, SAMUEL C. , 杭特亞倫穆依爾 , HUNTER, AARON MUIR , 馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT, THEODORE P. , 凱德拉雅狄瓦卡N , KEDLAYA, DIWAKAR N.
IPC分类号： H01L21/324

7. 发明专利

TWI579940B 用於基材處理的雷射反射儀有权
简体标题：用于基材处理的激光反射仪
公开(公告)号：TWI579940B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW101143102
申请日：2012-11-19
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT, THEODORE P.
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/428 , B23K26/034 , B23K26/06 , B23K26/0626 , B23K26/127 , H01L21/0231 , H01L21/268 , H01L21/324

8. 发明专利

TW201526114A 光纖陣列線路產生器审中-公开
简体标题：光纤数组线路产生器
公开(公告)号：TW201526114A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW103141466
申请日：2014-11-28
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN, DOUGLAS E. , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS, SAMUEL C. , 杭特亞倫穆依爾 , HUNTER, AARON MUIR , 馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT, THEODORE P. , 凱德拉雅狄瓦卡N , KEDLAYA, DIWAKAR N.
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： B23K26/0648 , B23K26/0608 , B23K26/0738 , H01L21/67115
摘要：本案說明書所述實施例係關於基板的快速熱處理。光纖耦接雷射二極體陣列設置於光學系統中，光學系統經配置以產生在基板表面上的均勻輻照圖案。複數個個別可控制雷射二極體經由複數個光纖而與一或多個透鏡光學耦接。光纖耦接雷射二極體陣列產生高斯輻射分佈，其經透鏡散焦而產生均勻強度影像。在一個實施例中，場光闌(field stop)設置於光學系統內。
简体摘要：本案说明书所述实施例系关于基板的快速热处理。光纤耦接激光二极管数组设置于光学系统中，光学系统经配置以产生在基板表面上的均匀辐照图案。复数个个别可控制激光二极管经由复数个光纤而与一或多个透镜光学耦接。光纤耦接激光二极管数组产生高斯辐射分布，其经透镜散焦而产生均匀强度影像。在一个实施例中，场光阑(field stop)设置于光学系统内。

9. 发明专利

TW201421170A 繞射光學元件及用於圖案化薄膜電化學元件的方法审中-公开
简体标题：绕射光学组件及用于图案化薄膜电化学组件的方法
公开(公告)号：TW201421170A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102138504
申请日：2013-10-24
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：宋道因 , SONG, DAOYING , 郭B 里奧 , KWAK, B. LEO , 亞當布魯斯E , ADAMS, BRUCE E. , 馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT, THEODORE P.
IPC分类号： G03F7/20 , H01L31/18 , G02B5/18
CPC分类号： G02B27/4233 , B23K26/362 , G02F1/153 , H01M4/0402 , H01M2010/0495 , H01M2220/30
摘要：一種製造電化學元件的方法，包含以下步驟：在基板上沉積包括電極和相應集電器的元件層及電解質層；及藉由雷射光束入射在繞射光學元件上所產生的雷射光圖案直接圖案化該元件層之至少一者，該雷射光圖案在單一雷射照射中直接圖案化至少一整個元件。該雷射直接圖案化除其他之外可以包括：在已經沉積所有的主動層之後晶片圖案化薄膜電化學元件；從相應的集電器選擇性剝蝕陰極/陽極材料；及從集電器選擇性剝蝕電解質材料。此外，可以藉由入射於繞射光學元件上的雷射光束產生的成形光束直接圖案化電化學元件，並且可以將該成形光束移動橫跨該元件之工作表面。
简体摘要：一种制造电化学组件的方法，包含以下步骤：在基板上沉积包括电极和相应集电器的组件层及电解质层；及借由激光光束入射在绕射光学组件上所产生的激光光图案直接图案化该组件层之至少一者，该激光光图案在单一激光照射中直接图案化至少一整个组件。该激光直接图案化除其他之外可以包括：在已经沉积所有的主动层之后芯片图案化薄膜电化学组件；从相应的集电器选择性剥蚀阴极/阳极材料；及从集电器选择性剥蚀电解质材料。此外，可以借由入射于绕射光学组件上的激光光束产生的成形光束直接图案化电化学组件，并且可以将该成形光束移动横跨该组件之工作表面。

10. 发明专利

TW201415185A 脈衝寬度控制器审中-公开
简体标题：脉冲宽度控制器
公开(公告)号：TW201415185A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102131736
申请日：2013-09-03
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬菲特舍朵瑞P , MOFFITT, THEODORE P.
IPC分类号： G05D25/00 , G02B26/00 , H01S3/10 , B23K26/06
CPC分类号： G02B5/30 , B23K26/0604 , B23K26/0622 , B23K26/0643 , B23K26/0648 , G02B27/283 , H01S3/0057
摘要：茲揭示一種熱處理系統之脈衝寬度控制器。脈衝電磁輻射經導引通過轉動式波片至偏振分光鏡，該偏振分光鏡之反射及透射係依據該波片之相位角度。由該偏振分光鏡透射之輻射被導引至光電路，該光電路經傳遞時間後使該輻射返回該偏振分光鏡。第二轉動式波片擺設於該光電路中。該偏振分光鏡依據該第二轉動式波片之相位角度反射及透射該返回輻射。第二脈衝寬度控制器可巢套於該光電路中，且該光電路可巢套任何數量之脈衝寬度控制器。
简体摘要：兹揭示一种热处理系统之脉冲宽度控制器。脉冲电磁辐射经导引通过转动式波片至偏振分光镜，该偏振分光镜之反射及透射系依据该波片之相位角度。由该偏振分光镜透射之辐射被导引至光电路，该光电路经传递时间后使该辐射返回该偏振分光镜。第二转动式波片摆设于该光电路中。该偏振分光镜依据该第二转动式波片之相位角度反射及透射该返回辐射。第二脉冲宽度控制器可巢套于该光电路中，且该光电路可巢套任何数量之脉冲宽度控制器。

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