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1. 发明专利

TWI634226B 光學檢查系統、用於處理在可撓性基板上之材料的處理系統、以及一種檢查可撓性基板的方法有权
简体标题：光学检查系统、用于处理在可挠性基板上之材料的处理系统、以及一种检查可挠性基板的方法
公开(公告)号：TWI634226B
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106101066
申请日：2017-01-12
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 瑞絲佛羅里安 , RIES, FLORIAN
IPC分类号： C23C14/54 , G01N21/89 , G01N21/86

2. 发明专利

TW201608044A 以旋轉靶材組件在兩個塗佈區域中塗佈基板之濺射沈積裝置及方法和其用途审中-公开
简体标题：以旋转靶材组件在两个涂布区域中涂布基板之溅射沉积设备及方法和其用途
公开(公告)号：TW201608044A
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW104115238
申请日：2015-05-13
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：班德麥卡司 , BENDER, MARCUS , 皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 史屈艾芙琳 , SCHEER, EVELYN , 瑟維琳丹尼爾 , SEVERIN, DANIEL , 蓋特能海瑞德 , 林登博克雷波 , LINDENBERG, RALPH
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/35 , C23C14/56 , H01J37/34
CPC分类号： C23C14/225 , C23C14/352 , C23C14/568 , H01J37/32733 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/345 , H01J37/3452
摘要：根據一實施例，係提供一種用於塗佈一基板的濺射沈積裝置。濺射沈積裝置具有兩個以上塗佈區域，用以塗佈此基板。濺射沈積裝置包括一第一基板導引系統，用以導引此基板至一第一塗佈區域，其中第一基板導引系統定義一第一基板輸送方向。濺射沈積裝置更包括一第二基板導引系統，用以導引此基板至一第二塗佈區域，第二基板導引系統定義一第二基板輸送方向。第二基板輸送方向和第一基板輸送方向係相同或不同。濺射沈積裝置更包括一第一陰極組件，適用於在第一塗佈區域中產生一個或多個電漿區域；一第二陰極組件，適用於在第一塗佈區域中產生一個或多個電漿區域；一第三陰極組件，適用於在第二塗佈區域中產生一個或多個電漿區域；以及一第四陰極組件，適用於在第二塗佈區域中產生一個或多個電漿區域。第一陰極組件包括：一第一旋轉靶材組件，適用於環繞一第一旋轉軸以旋轉一靶材材料；及一第一磁性組件，固定設置於第一旋轉靶材組件中，第一磁性組件具有一第一主平面，第一主平面和一第一參考平面形成一第一角度，第一參考平面包括第一旋轉軸且垂直於第一基板輸送方向。第二陰極組件包括：一第二旋轉靶材組件，適用於環繞一第二旋轉軸以旋轉靶材材料；及一第二磁性組件，固定設置於第二旋轉靶材組件中，第二磁性組件具有一第二主平面，第二主平面平行於第一主平面。第三陰極組件包括：一第三旋轉靶材組件，適用於環繞一第三旋轉軸以旋轉靶材材料；及一第三磁性組件，固定設置於第三旋轉靶材組件中，第三磁性組件具有一第三主平面，第三主平面和一第二參考平面形成一第二角度，第二參考平面包括第三旋轉軸且垂直於第二基板輸送方向，其中第二角度係不同於第一角度。第四陰極組件包括：一第四旋轉靶材組件，適用於環繞一第四旋轉軸以旋轉靶材材料；及一第四磁性組件，固定設置於第四旋轉靶材組件中，第四磁性組件具有一第四主平面，第四主平面平行於第三主平面。
简体摘要：根据一实施例，系提供一种用于涂布一基板的溅射沉积设备。溅射沉积设备具有两个以上涂布区域，用以涂布此基板。溅射沉积设备包括一第一基板导引系统，用以导引此基板至一第一涂布区域，其中第一基板导引系统定义一第一基板输送方向。溅射沉积设备更包括一第二基板导引系统，用以导引此基板至一第二涂布区域，第二基板导引系统定义一第二基板输送方向。第二基板输送方向和第一基板输送方向系相同或不同。溅射沉积设备更包括一第一阴极组件，适用于在第一涂布区域中产生一个或多个等离子区域；一第二阴极组件，适用于在第一涂布区域中产生一个或多个等离子区域；一第三阴极组件，适用于在第二涂布区域中产生一个或多个等离子区域；以及一第四阴极组件，适用于在第二涂布区域中产生一个或多个等离子区域。第一阴极组件包括：一第一旋转靶材组件，适用于环绕一第一旋转轴以旋转一靶材材料；及一第一磁性组件，固定设置于第一旋转靶材组件中，第一磁性组件具有一第一主平面，第一主平面和一第一参考平面形成一第一角度，第一参考平面包括第一旋转轴且垂直于第一基板输送方向。第二阴极组件包括：一第二旋转靶材组件，适用于环绕一第二旋转轴以旋转靶材材料；及一第二磁性组件，固定设置于第二旋转靶材组件中，第二磁性组件具有一第二主平面，第二主平面平行于第一主平面。第三阴极组件包括：一第三旋转靶材组件，适用于环绕一第三旋转轴以旋转靶材材料；及一第三磁性组件，固定设置于第三旋转靶材组件中，第三磁性组件具有一第三主平面，第三主平面和一第二参考平面形成一第二角度，第二参考平面包括第三旋转轴且垂直于第二基板输送方向，其中第二角度系不同于第一角度。第四阴极组件包括：一第四旋转靶材组件，适用于环绕一第四旋转轴以旋转靶材材料；及一第四磁性组件，固定设置于第四旋转靶材组件中，第四磁性组件具有一第四主平面，第四主平面平行于第三主平面。

3. 发明专利

TWI613304B 具有相鄰濺鍍陰極之裝置及其操作方法有权
简体标题：具有相邻溅镀阴极之设备及其操作方法
公开(公告)号：TWI613304B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW103105598
申请日：2014-02-20
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 慕何費德佑維 , MÜHLFELD, UWE
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/34 , C23C14/35 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/568 , C23C14/14 , C23C14/35 , C23C14/352 , C23C14/50 , C23C14/542 , H01J37/3435 , H01J37/345

4. 发明专利

TW201606901A 用於一真空處理系統之裝載閘腔室及真空處理系統审中-公开
简体标题：用于一真空处理系统之装载闸腔室及真空处理系统
公开(公告)号：TW201606901A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104111850
申请日：2015-04-14
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 爵伯勒湯瑪士 , GEBELE, THOMAS
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： C23C14/566 , C23C16/4401 , C23C16/54 , H01J37/32743 , H01L21/67201
摘要：描述一種用於一真空處理系統之裝載閘腔室。裝載閘腔室包括數個裝載閘壁及一真空產生裝置，這些壁形成一裝載閘腔室空間，真空產生裝置用以使裝載閘腔室排氣。裝載閘腔室更包括一粒子捕捉器，粒子捕捉器至少設置於裝載閘腔室的一壁。此外，描述一種包括一裝載閘腔室及一處理腔室之處理系統。
简体摘要：描述一种用于一真空处理系统之装载闸腔室。装载闸腔室包括数个装载闸壁及一真空产生设备，这些壁形成一装载闸腔室空间，真空产生设备用以使装载闸腔室排气。装载闸腔室更包括一粒子捕捉器，粒子捕捉器至少设置于装载闸腔室的一壁。此外，描述一种包括一装载闸腔室及一处理腔室之处理系统。

5. 发明专利

TW201604937A 用於材料在基板上之沉積的設備和方法审中-公开
简体标题：用于材料在基板上之沉积的设备和方法
公开(公告)号：TW201604937A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104111913
申请日：2015-04-14
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：史屈艾芙琳 , SCHEER, EVELYN , 班德麥卡司 , BENDER, MARCUS , 皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 瑟維琳丹尼爾 , SEVERIN, DANIEL , 林登博克雷波 , LINDENBERG, RALPH , 蓋特能海瑞德
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： H01J37/347 , C23C14/352 , C23C14/542 , C23C14/568 , H01J37/32385 , H01J37/32449 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J37/3464
摘要：係敘述一種用於材料在一基板上之沉積的設備。該設備包含一沉積陣列(222)，具有三或多個陰極(122)，其中該沉積陣列包括：一第一外側沉積組件(301)，包括該三或多個陰極中的至少一第一陰極；一第二外側沉積組件(302)，相對於第一外側沉積組件，第二外側沉積組件(302)包括該三或多個陰極中的至少一第二陰極；一內側沉積組件(303)，包括至少一內側陰極，內側沉積組件(303)位在第一外側沉積組件和第二外側沉積組件之間。第一外側沉積組件(301)和第二外側沉積組件(302)中的至少一者，係配置成用於在相同的時間之中於相同基板上以高於內側沉積組件(303)的速率沉積材料。
简体摘要：系叙述一种用于材料在一基板上之沉积的设备。该设备包含一沉积数组(222)，具有三或多个阴极(122)，其中该沉积数组包括：一第一外侧沉积组件(301)，包括该三或多个阴极中的至少一第一阴极；一第二外侧沉积组件(302)，相对于第一外侧沉积组件，第二外侧沉积组件(302)包括该三或多个阴极中的至少一第二阴极；一内侧沉积组件(303)，包括至少一内侧阴极，内侧沉积组件(303)位在第一外侧沉积组件和第二外侧沉积组件之间。第一外侧沉积组件(301)和第二外侧沉积组件(302)中的至少一者，系配置成用于在相同的时间之中于相同基板上以高于内侧沉积组件(303)的速率沉积材料。

6. 发明专利

TW201920728A 用以在一真空腔室中使用之熱處理設備、用以沈積材料於一軟質基材上之沈積設備、在一真空腔室中熱處理一軟質基材之方法、及處理一軟質基材之方法审中-公开
简体标题：用以在一真空腔室中使用之热处理设备、用以沉积材料于一软质基材上之沉积设备、在一真空腔室中热处理一软质基材之方法、及处理一软质基材之方法
公开(公告)号：TW201920728A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107124306
申请日：2018-07-13
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 斯托尼格哈德 , STEINIGER, GERHARD , 阿爾特霍斯特 , ALT, HORST
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/455 , C23C16/54 , F28F5/02
摘要：本揭露提出一種熱處理設備(100)，用於在一真空腔室(701)中使用。熱處理設備(100)包括一傳送配置，裝配以在一縱向方向中提供一張力至一軟質基材(10)，其中傳送配置包括一鼓(110)；以及一加熱裝置，裝配以加熱鼓(110)，用以加熱軟質基材(10)至120°C 至180°C之一第一溫度。
简体摘要：本揭露提出一种热处理设备(100)，用于在一真空腔室(701)中使用。热处理设备(100)包括一发送配置，装配以在一纵向方向中提供一张力至一软质基材(10)，其中发送配置包括一鼓(110)；以及一加热设备，装配以加热鼓(110)，用以加热软质基材(10)至120°C 至180°C之一第一温度。

7. 发明专利

TWI627297B 用以濺鍍材料塗層於基板上之裝置及沉積系統有权
简体标题：用以溅镀材料涂层于基板上之设备及沉积系统
公开(公告)号：TWI627297B
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：TW102123028
申请日：2013-06-27
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：克隆佩安德率斯 , KLOEPPEL, ANDREAS , 哈尼卡麥卡司 , HANIKA, MARKUS , 史屈艾芙琳 , SCHEER, EVELYN , 史屈瓦尼斯柯隆瑞德 , SCHWANITZ, KONRAD , 皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 劉江 , LIU, JIAN
IPC分类号： C23C14/34

8. 发明专利

TW201544623A 基板之支持設備及其相關之系統與方法、及具有其之裝置审中-公开
简体标题：基板之支持设备及其相关之系统与方法、及具有其之设备
公开(公告)号：TW201544623A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW103142747
申请日：2014-12-09
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 克雷殷渥福剛 , KLEIN, WOLFGANG , 林登博克雷波 , LINDENBERG, RALPH , 布許貝克渥福剛 , BUSCHBECK, WOLFGANG , 史奇羅德臼卷 , SCHROEDER, JÜRGEN
IPC分类号： C23C16/458 , C23C14/50 , B65G49/06
CPC分类号： C23C16/4587 , C23C14/50
摘要：一種用於在真空層沈積期間支持基板的支持設備係被提供。支持設備包括：框架，具有一個或多個框架構件；以及一個或多個接觸介面，提供在該一個或多個框架構件上，並被配置以接觸輸送系統的一個或多個輸送滾輪(conveying roller)；其中，該一個或多個接觸介面的材料之D型蕭氏硬度(shore D hardness)係介於85至90的範圍。
简体摘要：一种用于在真空层沉积期间支持基板的支持设备系被提供。支持设备包括：框架，具有一个或多个框架构件；以及一个或多个接触界面，提供在该一个或多个框架构件上，并被配置以接触输送系统的一个或多个输送滚轮(conveying roller)；其中，该一个或多个接触界面的材料之D型萧氏硬度(shore D hardness)系介于85至90的范围。

9. 发明专利

TW201736628A 光學檢查系統、用於處理在可撓性基板上之材料的處理系統、以及一種檢查可撓性基板的方法审中-公开
简体标题：光学检查系统、用于处理在可挠性基板上之材料的处理系统、以及一种检查可挠性基板的方法
公开(公告)号：TW201736628A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106101066
申请日：2017-01-12
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 瑞絲佛羅里安 , RIES, FLORIAN
IPC分类号： C23C14/54 , G01N21/89 , G01N21/86
CPC分类号： G01N21/8901 , C23C14/547 , G01N21/8422 , G01N21/86 , G01N21/8914 , G01N21/896
摘要：根據本發明公開之一方面，提出一種光學檢查系統(100)，用於檢查一可撓性的基板(10)。此光學檢查系統包括一基板支撐件(20)，其具有一用以導向基板沿著一基板輸送路徑(T)之至少部分凸出的基板支撐表面(22)，基板支撐件係設置在基板輸送路徑的第一側(1)上；一光源(30)係設置在基板輸送路徑的第二側(2)上並用以導射一光束穿透過基板的一受支撐部，所述受支撐部與凸出的基板支撐表面相接觸；以及一光偵測器，用以執行基板的穿透率量測。根據本發明公開之另一方面，提出一種可撓性基板的檢查方法。
简体摘要：根据本发明公开之一方面，提出一种光学检查系统(100)，用于检查一可挠性的基板(10)。此光学检查系统包括一基板支撑件(20)，其具有一用以导向基板沿着一基板输送路径(T)之至少部分凸出的基板支撑表面(22)，基板支撑件系设置在基板输送路径的第一侧(1)上；一光源(30)系设置在基板输送路径的第二侧(2)上并用以导射一光束穿透过基板的一受支撑部，所述受支撑部与凸出的基板支撑表面相接触；以及一光侦测器，用以运行基板的穿透率量测。根据本发明公开之另一方面，提出一种可挠性基板的检查方法。

10. 发明专利

TWI557252B 用於濺射沉積裝置之陰極組件與在濺射沉積裝置中沉積薄膜於基板上之方法有权
简体标题：用于溅射沉积设备之阴极组件与在溅射沉积设备中沉积薄膜于基板上之方法
公开(公告)号：TWI557252B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW101132106
申请日：2012-09-04
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：史屈艾芙琳 , SCHEER, EVELYN , 哈尼卡麥卡司 , HANIKA, MARKUS , 林登博克雷波 , LINDENBERG, RALPH , 班德麥卡司 , BENDER, MARCUS , 露博安德率斯 , LOPP, ANDREAS , 史屈瓦尼斯柯隆瑞德 , SCHWANITZ, KONRAD , 皮瑞里西法畢歐 , PIERALISI, FABIO , 劉江 , LIU, JIAN
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/56
CPC分类号： H01J37/32532 , C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/345 , H01J37/3452 , H01J37/3455

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