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1. 发明专利

TW201320148A 使用以模型為基礎的控制處理基材的方法及設備审中-公开
简体标题：使用以模型为基础的控制处理基材的方法及设备
公开(公告)号：TW201320148A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101125399
申请日：2012-07-13
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：波托斯凱思布萊恩 , PORTHOUSE, KEITH BRIAN , 雷恩約翰W , LANE, JOHN W. , 格勒戈爾瑪路司柯 , GREGOR, MARIUSCH , 馬利尼爾 , MERRY, NIR , 萊斯麥可R , RICE, MICHAEL R. , 明柯維奇艾力克斯 , MINKOVICH, ALEX , 李宏賓 , LI, HONGBIN , 迪日諾狄米奇A , DZILNO, DMITRY A.
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： G05D16/2046 , G05B17/02 , H01L21/67017 , H01L21/67253
摘要：茲揭示方法和設備。在一些實施例中，控制處理腔室的方法包括預先決定處理容積之壓力與排氣閥位置間隨製程參數變化的關係；將處理腔室設定成第一狀態，第一狀態具有處理容積的第一壓力和第一製程參數值，其中排氣閥依據預定關係設為第一位置，以在第一值下產生第一壓力；當處理腔室從第一狀態變成第二狀態時，第二狀態具有第二壓力和第二製程參數值，決定壓力控制輪廓，以控制壓力；以及藉由改變排氣閥位置，同時使處理腔室變成第二狀態，以應用壓力控制輪廓來控制壓力。
简体摘要：兹揭示方法和设备。在一些实施例中，控制处理腔室的方法包括预先决定处理容积之压力与排气阀位置间随制程参数变化的关系；将处理腔室设置成第一状态，第一状态具有处理容积的第一压力和第一制程参数值，其中排气阀依据预定关系设为第一位置，以在第一值下产生第一压力；当处理腔室从第一状态变成第二状态时，第二状态具有第二压力和第二制程参数值，决定压力控制轮廓，以控制压力；以及借由改变排气阀位置，同时使处理腔室变成第二状态，以应用压力控制轮廓来控制压力。

2. 发明专利

TWI573675B 振動控制的基板傳送機械臂、系統及方法有权
简体标题：振动控制的基板发送机械臂、系统及方法
公开(公告)号：TWI573675B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW102142889
申请日：2013-11-25
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬利尼爾 , MERRY, NIR , 明柯維奇艾力克斯 , MINKOVICH, ALEX , 哈德俊傑佛利C , HUDGENS, JEFFREY C. , 堤爾布藍登 , TILL, BRENDAN
IPC分类号： B25J19/02 , B25J19/00 , B65G43/00
CPC分类号： B25J9/1653

3. 发明专利

TW201606920A 通過原位反饋的晶圓放置和縫隙控制最佳化审中-公开
简体标题：通过原位反馈的晶圆放置和缝隙控制最优化
公开(公告)号：TW201606920A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104120015
申请日：2015-06-22
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：葛瑞芬凱文 , GRIFFIN, KEVIN , 拉維德亞伯拉罕 , RAVID, ABRAHAM , 明柯維奇艾力克斯 , MINKOVICH, ALEX , 坎德爾瓦爾桑梅許 , KHANDELWAL, SOMESH , 尤多夫斯基約瑟夫 , YUDOVSKY, JOSEPH , 伊根陶德 , EGAN, TODD
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： C23C16/4584 , C23C16/45544 , C23C16/52 , G01D5/24
摘要：本發明描述了在製程夾具和基座之間的尺寸控制和監控，和晶圓位置測定的裝置和方法。
简体摘要：本发明描述了在制程夹具和基座之间的尺寸控制和监控，和晶圆位置测定的设备和方法。

4. 发明专利

TW201434106A 具有可切換多區域加熱器的基板支撐件审中-公开
简体标题：具有可切换多区域加热器的基板支撑件
公开(公告)号：TW201434106A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW103101178
申请日：2014-01-13
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：沃福斯基里昂 , VOLFOVSKI, LEON , 古卡霖梅尤G , KULKARNI, MAYUR G. , 明柯維奇艾力克斯 , MINKOVICH, ALEX , 萊斯麥可R , RICE, MICHAEL R.
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/324 , H05B3/20
CPC分类号： H05B3/26 , H01L21/67103 , H05B1/0233
摘要：本文提供具有加熱器的基板支撐件之實施例。在某些實施例中，基板支撐件可包含第一構件、第二構件、第三構件及第四構件。第一構件用以當基板存在於第一構件之第一平坦表面上方時將熱分佈至基板；第二構件設置於第一構件下，第二構件包含複數個電阻性加熱元件，其中該複數個電阻性加熱元件提供局部溫度補償予第一構件，用以當基板存在時加熱基板；第三構件設置於第二構件下，第三構件包含一或更多個基礎加熱區域，用以提供基礎溫度輪廓予第一構件；第四構件設置於第三構件下，第四構件包含第一組電導體，第一組電導體耦合至該等電阻性加熱元件中之各者。
简体摘要：本文提供具有加热器的基板支撑件之实施例。在某些实施例中，基板支撑件可包含第一构件、第二构件、第三构件及第四构件。第一构件用以当基板存在于第一构件之第一平坦表面上方时将热分布至基板；第二构件设置于第一构件下，第二构件包含复数个电阻性加热组件，其中该复数个电阻性加热组件提供局部温度补偿予第一构件，用以当基板存在时加热基板；第三构件设置于第二构件下，第三构件包含一或更多个基础加热区域，用以提供基础温度轮廓予第一构件；第四构件设置于第三构件下，第四构件包含第一组电导体，第一组电导体耦合至该等电阻性加热组件中之各者。

5. 发明专利

TWI506670B 使用以模型為基礎的控制處理基材的方法及設備有权
简体标题：使用以模型为基础的控制处理基材的方法及设备
公开(公告)号：TWI506670B
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW101125399
申请日：2012-07-13
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：波托斯凱思布萊恩 , PORTHOUSE, KEITH BRIAN , 雷恩約翰W , LANE, JOHN W. , 格勒戈爾瑪路司柯 , GREGOR, MARIUSCH , 馬利尼爾 , MERRY, NIR , 萊斯麥可R , RICE, MICHAEL R. , 明柯維奇艾力克斯 , MINKOVICH, ALEX , 李宏賓 , LI, HONGBIN , 迪日諾狄米奇A , DZILNO, DMITRY A.
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： G05D16/2046 , G05B17/02 , H01L21/67017 , H01L21/67253

6. 发明专利

TW201429653A 振動控制的基板傳送機械臂、系統及方法审中-公开
简体标题：振动控制的基板发送机械臂、系统及方法
公开(公告)号：TW201429653A
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW102142889
申请日：2013-11-25
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬利尼爾 , MERRY, NIR , 明柯維奇艾力克斯 , MINKOVICH, ALEX , 哈德俊傑佛利C , HUDGENS, JEFFREY C. , 堤爾布藍登 , TILL, BRENDAN
IPC分类号： B25J19/02 , B25J19/00 , B65G43/00
CPC分类号： B25J9/1653
摘要：本文之實施例揭示了振動控制的機械臂設備。設備包括機械臂，該機械臂具有可經操作以輸送基板之端效器；耦接至機械臂之感測器，該感測器可經操作以在機械臂輸送基板時感測振動，及操作該機械臂以減少支撐基板之端效器之振動。在一些實施例中，馬達驅動電路中提供一濾波器以過濾導致端效器不利振動之一或更多個頻率。本文亦提供振動控制系統及操作該系統之方法，及其他態樣。
简体摘要：本文之实施例揭示了振动控制的机械臂设备。设备包括机械臂，该机械臂具有可经操作以输送基板之端效器；耦接至机械臂之传感器，该传感器可经操作以在机械臂输送基板时传感振动，及操作该机械臂以减少支撑基板之端效器之振动。在一些实施例中，马达驱动电路中提供一滤波器以过滤导致端效器不利振动之一或更多个频率。本文亦提供振动控制系统及操作该系统之方法，及其他态样。

7. 发明专利

TWI610396B 具有加熱器與快速溫度變化的基板支撐件有权
简体标题：具有加热器与快速温度变化的基板支撑件
公开(公告)号：TWI610396B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW101102875
申请日：2012-01-30
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：沃福斯基里昂 , VOLFOVSKI, LEON , 古卡霖梅尤G , KULKARNI, MAYUR G. , 明柯維奇艾力克斯 , MINKOVICH, ALEX
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6875 , H01L21/67109

8. 发明专利

TWI598988B 具有可切換多區域加熱器的基板支撐件有权
简体标题：具有可切换多区域加热器的基板支撑件
公开(公告)号：TWI598988B
公开(公告)日：2017-09-11
申请号：TW103101178
申请日：2014-01-13
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：沃福斯基里昂 , VOLFOVSKI, LEON , 古卡霖梅尤G , KULKARNI, MAYUR G. , 明柯維奇艾力克斯 , MINKOVICH, ALEX , 萊斯麥可R , RICE, MICHAEL R.
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/324 , H05B3/20
CPC分类号： H05B3/26 , H01L21/67103 , H05B1/0233

9. 发明专利

TW201240013A 具有加熱器與快速溫度變化的基板支撐件 SUBSTRATE SUPPORT WITH HEATER AND RAPID TEMPERATURE CHANGE 审中-公开
简体标题：具有加热器与快速温度变化的基板支撑件 SUBSTRATE SUPPORT WITH HEATER AND RAPID TEMPERATURE CHANGE
公开(公告)号：TW201240013A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW101102875
申请日：2012-01-30
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：沃福斯基里昂 , 古卡霖梅尤G , 明柯維奇艾力克斯
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6875 , H01L21/67109
摘要：本發明提供具有加熱器與整合冷卻器的基板支撐件的實施例。在某些實施例中,基板支撐件可包括:第一構件,當基板位在第一構件的第一表面上時,第一構件用以散佈熱至基板;加熱器,加熱器設置於第一構件下方,且加熱器具有一或多個加熱區域以提供熱至第一構件;複數個冷卻通道,複數個冷卻通道設置於第一構件下方,以移除加熱器提供的熱;複數個基板支撐銷,複數個基板支撐銷設置在高於第一構件的第一表面上第一距離處,當基板位在基板支撐件上時,複數個基板支撐銷用以支撐基板的背側表面;及校準引導件,校準引導件自第一構件的第一表面延伸並圍繞複數個基板支撐銷。
简体摘要：本发明提供具有加热器与集成冷却器的基板支撑件的实施例。在某些实施例中,基板支撑件可包括:第一构件,当基板位在第一构件的第一表面上时,第一构件用以散布热至基板;加热器,加热器设置于第一构件下方,且加热器具有一或多个加热区域以提供热至第一构件;复数个冷却信道,复数个冷却信道设置于第一构件下方,以移除加热器提供的热;复数个基板支撑销,复数个基板支撑销设置在高于第一构件的第一表面上第一距离处,当基板位在基板支撑件上时,复数个基板支撑销用以支撑基板的背侧表面;及校准引导件,校准引导件自第一构件的第一表面延伸并围绕复数个基板支撑销。

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