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    • 4. 发明专利
    • 成膜裝置
    • 成膜设备
    • TW201221686A
    • 2012-06-01
    • TW100111650
    • 2011-04-01
    • 愛發科股份有限公司
    • 田中美和菊地誠中島硏也矢島太郎大橋童吾宮野善識細野浩平
    • C23CH01J
    • H01J37/32165C23C16/345C23C16/5096H01J37/32091H01J37/32935
    • [課題]提供一種:能夠對於在產生有異常放電的情況下之對於構成腔內部的零件之損傷作抑制,並且能夠得到充分之膜質以及膜厚的成膜裝置。[解決手段]具備有:載置部(12),係被設置在真空腔(11)內,並被載置有成膜對象;和噴淋板(13),係以與被載置於載置部上之成膜對象相對向的方式而被設置,並將成膜氣體導入;和複數之交流電源,係被與噴淋板以及載置部之至少其中一方作連接,複數之交流電源,係至少由供給高頻電力之1個高頻電源(15)、和供給較前述高頻電源更低之低頻電力之1個低頻電源(16)所成,且分別具備有將前述真空腔內之異常放電檢測出來的異常放電檢測手段,各異常放電檢測手段,係構成為:若是檢測出異常放電,則將全部的前述交流電源之電力供給停止。
    • [课题]提供一种:能够对于在产生有异常放电的情况下之对于构成腔内部的零件之损伤作抑制,并且能够得到充分之膜质以及膜厚的成膜设备。[解决手段]具备有:载置部(12),系被设置在真空腔(11)内,并被载置有成膜对象;和喷淋板(13),系以与被载置于载置部上之成膜对象相对向的方式而被设置,并将成膜气体导入;和复数之交流电源,系被与喷淋板以及载置部之至少其中一方作连接,复数之交流电源,系至少由供给高频电力之1个高频电源(15)、和供给较前述高频电源更低之低频电力之1个低频电源(16)所成,且分别具备有将前述真空腔内之异常放电检测出来的异常放电检测手段,各异常放电检测手段,系构成为:若是检测出异常放电,则将全部的前述交流电源之电力供给停止。