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    • 7. 发明专利
    • 光電半導體組件及用於生產其之方法
    • 光电半导体组件及用于生产其之方法
    • TW201715755A
    • 2017-05-01
    • TW105125415
    • 2016-08-10
    • 歐司朗光電半導體公司OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • 佩利馬爾 柯賓恩PERZLMAIER, KORBINIAN卡司扎克 扎羅卡 安娜KASPRZAK-ZABLOCKA, ANNA霍普 路茲萊瑞爾 克里斯帝恩LEIRER, CHRISTIAN
    • H01L33/40H01L33/44
    • H01L33/486H01L33/642
    • 本發明詳述一種光電半導體組件(100),其包括:半導體本體(1),該半導體本體(1)包括半導體層序列(2);載板(10),該載板(10)包括塑膠及包括第一電鍍導通孔(11)及第二電鍍導通孔(12);p型接觸層(6)及n型接觸層(8、8A),該p型接觸層(6)及該n型接觸層(8、8A)為至少區域性配置在該載板(10)及該半導體本體(1)之間;金屬補強層(14),該金屬補強層(14)為至少區域性配置在該n型接觸層(8、8A)及該載板(10)之間,其中該金屬補強層(14)的厚度為至少5微米;以及至少一個p型接觸通孔(7),其配置在該第一電鍍導通孔(11)及該p型接觸層(6)之間,其中該p型接觸通孔(7)的厚度為至少5微米並且在側向方向上由該補強層(14)至少區域性圍繞。再者,本發明詳述用於製造此類光電半導體組件(100)之有利的方法。
    • 本发明详述一种光电半导体组件(100),其包括:半导体本体(1),该半导体本体(1)包括半导体层串行(2);载板(10),该载板(10)包括塑胶及包括第一电镀导通孔(11)及第二电镀导通孔(12);p型接触层(6)及n型接触层(8、8A),该p型接触层(6)及该n型接触层(8、8A)为至少局部配置在该载板(10)及该半导体本体(1)之间;金属补强层(14),该金属补强层(14)为至少局部配置在该n型接触层(8、8A)及该载板(10)之间,其中该金属补强层(14)的厚度为至少5微米;以及至少一个p型接触通孔(7),其配置在该第一电镀导通孔(11)及该p型接触层(6)之间,其中该p型接触通孔(7)的厚度为至少5微米并且在侧向方向上由该补强层(14)至少局部围绕。再者,本发明详述用于制造此类光电半导体组件(100)之有利的方法。