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1. 发明专利

TWI701360B 電流金屬沉積之方法有权
简体标题：电流金属沉积之方法
公开(公告)号：TWI701360B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW105139888
申请日：2016-12-02
申请人：德商德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 克貝基維 , KIRBACH, UWE
IPC分类号： C25D5/00 , C25D5/08 , C25D7/12 , C25D17/00 , C25D17/08 , C25D17/12 , H01L21/288 , H01L21/3205

2. 发明专利

TWI673393B 用於垂直電流沉積金屬於基板上之裝置有权
简体标题：用于垂直电流沉积金属于基板上之设备
公开(公告)号：TWI673393B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW106128553
申请日：2017-08-23
申请人：德商德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY
IPC分类号： C25D3/38 , C25D5/08 , C25D7/12 , C25D17/00 , C25D17/06 , C25D17/12 , H01L21/768

3. 发明专利

TW201816193A 用於垂直電流沉積金屬於基板上之裝置审中-公开
简体标题：用于垂直电流沉积金属于基板上之设备
公开(公告)号：TW201816193A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106128553
申请日：2017-08-23
申请人：德商德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY
IPC分类号： C25D3/38 , C25D5/08 , C25D7/12 , C25D17/00 , C25D17/06 , C25D17/12 , H01L21/768
摘要：本發明係關於一種用於垂直電流沉積金屬(較佳地，銅)於基板上之裝置，該裝置包括至少第一裝置元件及第二裝置元件，該等裝置元件依垂直方式平行於彼此配置；其中該第一裝置元件包括具有複數個直通導管之至少第一陽極元件及具有複數個直通導管之至少第一載體元件；其中該至少第一陽極元件與該至少第一載體元件牢固地連接至彼此；其中該第二裝置元件包括至少第一基板固持器，其經調適以接納待處理之至少第一基板，其中該至少第一基板固持器在接納待處理之該至少第一基板後沿著其外框架至少部分環繞該至少第一基板，其中該至少第一裝置元件進一步包括複數個插塞，其中各插塞包括至少直通通道，且其中各插塞依此方式配置使得各插塞自該至少第一載體元件之背側延伸穿過該至少第一載體元件之直通導管且進一步穿過該至少第一陽極元件之各自前置直通導管；且其中全部該等插塞可拆卸地連接至該至少第一裝置元件。此外，本發明大體上係關於一種用於使用此裝置垂直電流沉積金屬於基板上之方法。
简体摘要：本发明系关于一种用于垂直电流沉积金属(较佳地，铜)于基板上之设备，该设备包括至少第一设备组件及第二设备组件，该等设备组件依垂直方式平行于彼此配置；其中该第一设备组件包括具有复数个直通导管之至少第一阳极组件及具有复数个直通导管之至少第一载体组件；其中该至少第一阳极组件与该至少第一载体组件牢固地连接至彼此；其中该第二设备组件包括至少第一基板固持器，其经调适以接纳待处理之至少第一基板，其中该至少第一基板固持器在接纳待处理之该至少第一基板后沿着其外框架至少部分环绕该至少第一基板，其中该至少第一设备组件进一步包括复数个插塞，其中各插塞包括至少直通信道，且其中各插塞依此方式配置使得各插塞自该至少第一载体组件之背侧延伸穿过该至少第一载体组件之直通导管且进一步穿过该至少第一阳极组件之各自前置直通导管；且其中全部该等插塞可拆卸地连接至该至少第一设备组件。此外，本发明大体上系关于一种用于使用此设备垂直电流沉积金属于基板上之方法。

4. 发明专利

TWI602955B 用於垂直流電金屬、較佳係銅沈積於一基板上之裝置及適用於接收該裝置之一容器有权
简体标题：用于垂直流电金属、较佳系铜沉积于一基板上之设备及适用于接收该设备之一容器
公开(公告)号：TWI602955B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW102147660
申请日：2013-12-20
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：榮恩伯斯奇羅夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 湯瑪士克里斯丁 , THOMAS, CHRISTIAN , 維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 奇霖漢斯 , KLINGL, HEINZ
IPC分类号： C25D17/12 , C25D17/04 , H01L21/768
CPC分类号： C25D17/001 , C25D5/08 , C25D7/123 , C25D17/004 , C25D17/06 , C25D17/12

5. 发明专利

TW201420816A 用於一產品之固持裝置及處理方法审中-公开
简体标题：用于一产品之固持设备及处理方法
公开(公告)号：TW201420816A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102134867
申请日：2013-09-26
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：榮恩伯斯奇羅夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 湯瑪士克里斯丁 , THOMAS, CHRISTIAN , 維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 奇霖漢斯 , KLINGL, HEINZ
IPC分类号： C25D17/06
CPC分类号： C25D17/06 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/004 , H05K3/007 , Y10T29/49117
摘要：本發明揭示一種用於一產品(5)之一處理之固持裝置，該固持裝置包括一第一固持部件(41)及一第二固持部件(42)。該第一固持部件(41)包括用於與該產品(5)之一第一側(6)建立一接觸之至少一第一電接觸元件(13)。該第二固持部件(42)包括用於與該產品(5)之一第二側(7)建立一接觸之至少一第二電接觸元件(14)，該第二側置於該第一側(6)對面。為了固持該產品(5)之目的，該第一固持部件(41)及該第二固持部件(42)經配置使得其等依一可拆卸的方式彼此固定。一產品密封件(15、16)及一外殼密封件(17)提供一密封配置，以防止在一處理狀態中流體穿透至該至少一第一電接觸元件(13)及該至少一第二電接觸元件(14)中。
简体摘要：本发明揭示一种用于一产品(5)之一处理之固持设备，该固持设备包括一第一固持部件(41)及一第二固持部件(42)。该第一固持部件(41)包括用于与该产品(5)之一第一侧(6)创建一接触之至少一第一电接触组件(13)。该第二固持部件(42)包括用于与该产品(5)之一第二侧(7)创建一接触之至少一第二电接触组件(14)，该第二侧置于该第一侧(6)对面。为了固持该产品(5)之目的，该第一固持部件(41)及该第二固持部件(42)经配置使得其等依一可拆卸的方式彼此固定。一产品密封件(15、16)及一外壳密封件(17)提供一密封配置，以防止在一处理状态中流体穿透至该至少一第一电接触组件(13)及该至少一第二电接触组件(14)中。

6. 发明专利

TWI583828B 用於一產品之固持裝置及處理方法有权
简体标题：用于一产品之固持设备及处理方法
公开(公告)号：TWI583828B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102134867
申请日：2013-09-26
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：榮恩伯斯奇羅夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 湯瑪士克里斯丁 , THOMAS, CHRISTIAN , 維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 奇霖漢斯 , KLINGL, HEINZ
IPC分类号： C25D17/06
CPC分类号： C25D17/06 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/004 , H05K3/007 , Y10T29/49117

7. 发明专利

TWI580823B 用於垂直流電金屬沉積於一基板上之裝置有权
简体标题：用于垂直流电金属沉积于一基板上之设备
公开(公告)号：TWI580823B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW102147670
申请日：2013-12-20
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 溫諾菲德納 , WIENER, FERDINAND
IPC分类号： C25D7/12 , C25D17/04
CPC分类号： C25D5/08 , C25D3/38 , C25D7/00 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/06 , C25D17/12

8. 发明专利

TW201510296A 用於在垂直流電金屬沉積之過程中移動一基板固定器之裝置及使用此裝置於垂直流電金屬沉積之方法审中-公开
简体标题：用于在垂直流电金属沉积之过程中移动一基板固定器之设备及使用此设备于垂直流电金属沉积之方法
公开(公告)号：TW201510296A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103120621
申请日：2014-06-13
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：奇霖漢斯 , KLINGL, HEINZ , 維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY
IPC分类号： C25D5/04 , C25D17/06
CPC分类号： C25D21/10 , C25D5/04 , C25D17/06 , C25D21/12
摘要：本發明係關於用於在至少一待處理基板上之一垂直流電金屬(較佳銅)沈積之過程中移動包括此一待處理基板之一基板固定器之裝置，其特徵在於該裝置包括至少一第一驅動構件、至少一第二驅動構件、至少一第一調整構件及至少一第二調整構件；其中該第一驅動構件操作地連接至該第一調整構件以產生一第一軸向偏轉，且該第二驅動構件操作地連接至該第二調整構件以產生該基板固定器之一第二軸向偏轉；其中該第一軸向偏轉及該第二軸向偏轉係可連續調整及/或可連續控制的。本發明進一步係關於一種使用此一裝置於一基板上之垂直流電金屬(較佳銅)沈積之方法。
简体摘要：本发明系关于用于在至少一待处理基板上之一垂直流电金属(较佳铜)沉积之过程中移动包括此一待处理基板之一基板固定器之设备，其特征在于该设备包括至少一第一驱动构件、至少一第二驱动构件、至少一第一调整构件及至少一第二调整构件；其中该第一驱动构件操作地连接至该第一调整构件以产生一第一轴向偏转，且该第二驱动构件操作地连接至该第二调整构件以产生该基板固定器之一第二轴向偏转；其中该第一轴向偏转及该第二轴向偏转系可连续调整及/或可连续控制的。本发明进一步系关于一种使用此一设备于一基板上之垂直流电金属(较佳铜)沉积之方法。

9. 发明专利

TW201439381A 用於垂直流電金屬、較佳係銅沈積於一基板上之裝置及適用於接收該裝置之一容器审中-公开
简体标题：用于垂直流电金属、较佳系铜沉积于一基板上之设备及适用于接收该设备之一容器
公开(公告)号：TW201439381A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW102147660
申请日：2013-12-20
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：榮恩伯斯奇羅夫 , RAUENBUSCH, RALPH , 湯瑪士克里斯丁 , THOMAS, CHRISTIAN , 維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 奇霖漢斯 , KLINGL, HEINZ
IPC分类号： C25D17/12 , C25D17/04 , H01L21/768
CPC分类号： C25D17/001 , C25D5/08 , C25D7/123 , C25D17/004 , C25D17/06 , C25D17/12
摘要：本發明係關於一種用於垂直流電金屬、較佳係銅沈積於一基板上之裝置，一種適用於接收此一裝置及適用於接收一待處理之基板之一基板固持器之容器以及一種此一裝置在此一容器之內部用於流電金屬、特定而言銅沈積於一基板上之用途。
简体摘要：本发明系关于一种用于垂直流电金属、较佳系铜沉积于一基板上之设备，一种适用于接收此一设备及适用于接收一待处理之基板之一基板固持器之容器以及一种此一设备在此一容器之内部用于流电金属、特定而言铜沉积于一基板上之用途。

10. 发明专利

TW201435156A 用於垂直流電金屬沉積於一基板上之裝置审中-公开
简体标题：用于垂直流电金属沉积于一基板上之设备
公开(公告)号：TW201435156A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW102147670
申请日：2013-12-20
申请人：德國艾托特克公司 , ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH
发明人：維恩豪瑞 , WEINHOLD, RAY , 溫諾菲德納 , WIENER, FERDINAND
IPC分类号： C25D7/12 , C25D17/04
CPC分类号： C25D5/08 , C25D3/38 , C25D7/00 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/06 , C25D17/12
摘要：本發明係關於一種用於垂直流電金屬、較佳係銅沉積於一基板上之裝置，其中該裝置包含至少一第一裝置元件及一第二裝置元件，該第一裝置元件及該第二裝置元件彼此平行地以一垂直方式配置，其中該第一裝置元件包含具有複數個貫通導管之至少一第一陽極元件及具有複數個貫通導管之至少一第一載體元件，其中該至少第一陽極元件與該至少第一載體元件彼此牢固地連接；且其中該第二裝置元件包含經調適以接收至少一待處理之第一基板之至少一第一基板固持器，其中該至少第一基板固持器在接收該至少待處理之第一基板之後沿著其外框架至少部分地包圍該至少待處理之第一基板；且其中該至少第一裝置元件之該第一陽極元件與該第二裝置元件之該至少第一基板固持器之間之距離的範圍係自2 mm至15 mm。此外，本發明一般而言係關於一種用於使用此一裝置垂直流電金屬沉積於一基板上之方法。
简体摘要：本发明系关于一种用于垂直流电金属、较佳系铜沉积于一基板上之设备，其中该设备包含至少一第一设备组件及一第二设备组件，该第一设备组件及该第二设备组件彼此平行地以一垂直方式配置，其中该第一设备组件包含具有复数个贯通导管之至少一第一阳极组件及具有复数个贯通导管之至少一第一载体组件，其中该至少第一阳极组件与该至少第一载体组件彼此牢固地连接；且其中该第二设备组件包含经调适以接收至少一待处理之第一基板之至少一第一基板固持器，其中该至少第一基板固持器在接收该至少待处理之第一基板之后沿着其外框架至少部分地包围该至少待处理之第一基板；且其中该至少第一设备组件之该第一阳极组件与该第二设备组件之该至少第一基板固持器之间之距离的范围系自2 mm至15 mm。此外，本发明一般而言系关于一种用于使用此一设备垂直流电金属沉积于一基板上之方法。

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