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1. 发明专利

TW392081B 製造光學組件之方法及該光學組件失效
简体标题：制造光学组件之方法及该光学组件
公开(公告)号：TW392081B
公开(公告)日：2000-06-01
申请号：TW087111926
申请日：1998-07-20
申请人：康寧公司
发明人：亞倫貝金 , 菲力.陸滑得
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B6/12004 , G02B6/12007 , G02B2006/12102 , G02B2006/12107 , G02B2006/12114 , G02B2006/12173 , G02B2006/12176
摘要：一種光學組件包含一個或多個光學元件(35’)與一條或多條光學波導(25’)之端部對準,該光學組件由下列處理過程製造出:首先將摻雜矽石之心蕊層(20)沉積於基板(10)上(或在基板之緩衝層上),以及接著約為1-5微米之部份外包層(30A)沉積於心蕊層上。部份外包層以及心蕊層形成圖案化以及加以蝕刻以同時地界定出光學元件以及波導心蕊。外包層藉由沉積另一外包層(30B)而完成。在應用於光柵為主NBWDM裝置之製造方法情況下,光柵塗覆金屬膜能夠先進行或在第二外包層部份(30B)沉積後進行。在每一情況下,需要低溫沉積處理過程以沉積第二外包層部份。
简体摘要：一种光学组件包含一个或多个光学组件(35’)与一条或多条光学波导(25’)之端部对准,该光学组件由下列处理过程制造出:首先将掺杂硅石之心蕊层(20)沉积于基板(10)上(或在基板之缓冲层上),以及接着约为1-5微米之部份外包层(30A)沉积于心蕊层上。部份外包层以及心蕊层形成图案化以及加以蚀刻以同时地界定出光学组件以及波导心蕊。外包层借由沉积另一外包层(30B)而完成。在应用于光栅为主NBWDM设备之制造方法情况下,光栅涂覆金属膜能够雪铁龙行或在第二外包层部份(30B)沉积后进行。在每一情况下,需要低温沉积处理过程以沉积第二外包层部份。

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