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    • 2. 发明专利
    • 移動玻璃片的非接觸蝕刻
    • 移动玻璃片的非接触蚀刻
    • TW201628953A
    • 2016-08-16
    • TW105107779
    • 2011-03-24
    • 康寧公司CORNING INCORPORATED
    • 古德法關譚納仁達KUDVA, GAUTAM NARENDRA呂誌原LU, CHIH YUAN羅葳葳LUO, WEIWEI中村嘉宏NAKAMURA, YOSHIHIRO山田哲三YAMADA, TETSUZOU
    • B65G49/06C03C15/00
    • C03C15/00Y10T428/24355
    • 本案揭示用於蝕刻撓性玻璃片(13)的方法與設備,其中係以垂直或近乎垂直的方位傳送玻璃片通過多個非接觸液體噴射軸承(3),該些非接觸液體噴射軸承施用一蝕刻溶液(例如,NaF/H3PO4水溶液)至該些玻璃片(13)的一側或兩側。在某些實施例中,最上方的液體噴射軸承在該玻璃片(13)之上邊緣上方,因而能夠施加蝕刻溶液至該玻璃片的頂部。其他實施例中,一頂部噴淋件(11)包含一組噴霧噴嘴(21)且該組噴霧噴嘴(21)設置於該設備上方並沿著該設備的長度分佈,以使用該頂部噴淋件(11)施加蝕刻溶液至該玻璃片(13)之頂部。利用本案所揭示之方法及設備,可提供以熔融製程製成且面積大於5平方公尺以及平均表面粗糙度介於0.5奈米至1.1奈米的玻璃片。
    • 本案揭示用于蚀刻挠性玻璃片(13)的方法与设备,其中系以垂直或近乎垂直的方位发送玻璃片通过多个非接触液体喷射轴承(3),该些非接触液体喷射轴承施用一蚀刻溶液(例如,NaF/H3PO4水溶液)至该些玻璃片(13)的一侧或两侧。在某些实施例中,最上方的液体喷射轴承在该玻璃片(13)之上边缘上方,因而能够施加蚀刻溶液至该玻璃片的顶部。其他实施例中,一顶部喷淋件(11)包含一组喷雾喷嘴(21)且该组喷雾喷嘴(21)设置于该设备上方并沿着该设备的长度分布,以使用该顶部喷淋件(11)施加蚀刻溶液至该玻璃片(13)之顶部。利用本案所揭示之方法及设备,可提供以熔融制程制成且面积大于5平方公尺以及平均表面粗糙度介于0.5奈米至1.1奈米的玻璃片。
    • 7. 发明专利
    • 移動玻璃片的非接觸蝕刻 NON-CONTACT ETCHING OF MOVING GLASS SHEETS
    • 移动玻璃片的非接触蚀刻 NON-CONTACT ETCHING OF MOVING GLASS SHEETS
    • TW201202116A
    • 2012-01-16
    • TW100110192
    • 2011-03-24
    • 康寧公司
    • 古德法關譚納仁達呂誌原羅葳葳中村嘉宏山田哲三
    • B65GC03C
    • C03C15/00Y10T428/24355
    • 本案揭示用於蝕刻撓性玻璃片(13)的方法與設備,其中係以垂直或近乎垂直的方位傳送玻璃片通過多個非接觸液體噴射軸承(3),該些非接觸液體噴射軸承施用一蝕刻溶液(例如,NaF/H3PO4水溶液)至該些玻璃片(13)的一側或兩側。在某些實施例中,最上方的液體噴射軸承在該玻璃片(13)之上邊緣上方,因而能夠施加蝕刻溶液至該玻璃片的頂部。其他實施例中,一頂部噴淋件(11)包含一組噴霧噴嘴(21)且該組噴霧噴嘴(21)設置於該設備上方並沿著該設備的長度分佈,以使用該頂部噴淋件(11)施加蝕刻溶液至該玻璃片(13)之頂部。利用本案所揭示之方法及設備,可提供以熔融製程製成且面積大於5平方公尺以及平均表面粗糙度介於0.5奈米至1.1奈米的玻璃片。
    • 本案揭示用于蚀刻挠性玻璃片(13)的方法与设备,其中系以垂直或近乎垂直的方位发送玻璃片通过多个非接触液体喷射轴承(3),该些非接触液体喷射轴承施用一蚀刻溶液(例如,NaF/H3PO4水溶液)至该些玻璃片(13)的一侧或两侧。在某些实施例中,最上方的液体喷射轴承在该玻璃片(13)之上边缘上方,因而能够施加蚀刻溶液至该玻璃片的顶部。其他实施例中,一顶部喷淋件(11)包含一组喷雾喷嘴(21)且该组喷雾喷嘴(21)设置于该设备上方并沿着该设备的长度分布,以使用该顶部喷淋件(11)施加蚀刻溶液至该玻璃片(13)之顶部。利用本案所揭示之方法及设备,可提供以熔融制程制成且面积大于5平方公尺以及平均表面粗糙度介于0.5奈米至1.1奈米的玻璃片。
    • 8. 发明专利
    • 用於含鉑容器之直接電阻加熱的裝置 APPARATUS FOR USE IN DIRECT RESISTANCE HEATING OF PLATINUM-CONTAINING VESSELS
    • 用于含铂容器之直接电阻加热的设备 APPARATUS FOR USE IN DIRECT RESISTANCE HEATING OF PLATINUM-CONTAINING VESSELS
    • TW201143497A
    • 2011-12-01
    • TW100104955
    • 2011-02-15
    • 康寧公司
    • 德安傑利斯吉勃特何春鴻契爾西羅葳葳
    • H05BC03B
    • C03B5/027C03B5/1675C03B7/07
    • 本發明提供一種用以對熔融玻璃承載容器(例如一澄清器或連接管)直接電阻加熱的裝置。此裝置包含一凸緣,凸緣包含複數個導電環,且導電環包含一內側環以及一外側環。當使用凸緣時,內側環接合至容器外壁,而外側環接收電流。最內層環包含一耐高溫金屬,其較佳包含至少80%的鉑。最外層環較佳包含至少99.0%的鎳。此種材料的組合會使凸緣的可靠度增加,並使其成本降低。內側環或外側環的其中一者或兩者之寬度和/或厚度的變化為相對於容器之一角位置的函數。內側環與外側環關於彼此的寬度及/或厚度係產生在凸緣及容器中的均一電流分佈。
    • 本发明提供一种用以对熔融玻璃承载容器(例如一澄清器或连接管)直接电阻加热的设备。此设备包含一凸缘,凸缘包含复数个导电环,且导电环包含一内侧环以及一外侧环。当使用凸缘时,内侧环接合至容器外壁,而外侧环接收电流。最内层环包含一耐高温金属,其较佳包含至少80%的铂。最外层环较佳包含至少99.0%的镍。此种材料的组合会使凸缘的可靠度增加,并使其成本降低。内侧环或外侧环的其中一者或两者之宽度和/或厚度的变化为相对于容器之一角位置的函数。内侧环与外侧环关于彼此的宽度及/或厚度系产生在凸缘及容器中的均一电流分布。