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1. 发明专利

TW201641920A 光照射裝置审中-公开
简体标题：光照射设备
公开(公告)号：TW201641920A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105102495
申请日：2016-01-27
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD.
发明人：石飛裕和 , ISHITOBI, HIROKAZU , 鄧學功 , DENG, XUEGONG , 湯姆伯勒小托馬斯雷 , TOMBLER, THOMAS WRAY JR.
IPC分类号： G01J4/04 , G02F1/1337
CPC分类号： G01J4/04
摘要：本發明之課題在於提供一種光照射裝置，其可精度良好地測量照射於對象物之偏光光線之偏光軸角度。本發明之解決手段係一種光照射裝置，係於照射已偏光之光線之光照射裝置中，其包含：光源7；裝置側偏光片，其對該光源7之光線進行偏光，且於光線之一個以上之波長中具有100：1以上之消光率；及測量器20，其對以裝置側偏光片偏光之光線之偏光軸進行測量。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种光照射设备，其可精度良好地测量照射于对象物之偏光光线之偏光轴角度。本发明之解决手段系一种光照射设备，系于照射已偏光之光线之光照射设备中，其包含：光源7；设备侧偏光片，其对该光源7之光线进行偏光，且于光线之一个以上之波长中具有100：1以上之消光率；及测量器20，其对以设备侧偏光片偏光之光线之偏光轴进行测量。

2. 发明专利

TWI585387B 偏光測定方法，偏光測定裝置，偏光測定系統及光配向照射裝置有权
简体标题：偏光测定方法，偏光测定设备，偏光测定系统及光配向照射设备
公开(公告)号：TWI585387B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW102125190
申请日：2013-07-15
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD.
发明人：石飛裕和 , ISHITOBI, HIROKAZU , 川鍋保文 , KAWANABE, YASUFUMI , 齋藤行正 , SAITO, YUKIMASA , 淺見英一 , AZAMI, EIICHI
IPC分类号： G01N21/21 , G02F1/01

4. 发明专利

TWI581018B 光照射裝置有权
简体标题：光照射设备
公开(公告)号：TWI581018B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW103100382
申请日：2014-01-06
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD. , 愛古拉飛克斯股份有限公司 , EYE GRAPHICS CO., LTD.
发明人：今井誠 , IMAI, MAKOTO , 齋藤行正 , SAITO, YUKIMASA , 石飛裕和 , ISHITOBI, HIROKAZU , 川鍋保文 , KAWANABE, YASUFUMI , 杉本宏 , SUGIMOTO, HIROSHI
IPC分类号： G02B5/30

5. 发明专利

TW201447171A 照射裝置审中-公开
简体标题：照射设备
公开(公告)号：TW201447171A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103111693
申请日：2014-03-28
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD.
发明人：田中大作 , TANAKA, DAISAKU , 山田一吉 , YAMADA, KAZUYOSHI , 酒井雅寬 , SAKAI, MASAHIRO , 石飛裕和 , ISHITOBI, HIROKAZU
IPC分类号： F21V14/04 , F21Y103/00
摘要： [課題]提供一種一方面擴大照射區域且一方面可達成小型化之照射裝置。[解決手段]一種照射裝置1，係具有作為線狀光源之紫外線燈管10、將上述紫外線燈管10之上側及端部分別加以覆蓋之主反射板16及側面反射板18、及設置在上述紫外線燈管10與工件2之間之四角筒狀的輔助反射板14，在該照射裝置1中，設置有第1反射板40，該第1反射板40係位在上述輔助反射板14與上述紫外線燈管10之間且位在上述紫外線燈管10之各自的兩個端部10A側，相較於上端40A，下端40B為更朝向上述紫外線燈管10之中心O而伸入，且將上述紫外線燈管10之光線加以反射至上述主反射板16及上述側面反射板18；且可將上述紫外線燈管10之端部10A側之上述輔助反射板14之基端14A，配置在上述第1反射板40之位置。
简体摘要： [课题]提供一种一方面扩大照射区域且一方面可达成小型化之照射设备。[解决手段]一种照射设备1，系具有作为线状光源之紫外线灯管10、将上述紫外线灯管10之上侧及端部分别加以覆盖之主反射板16及侧面反射板18、及设置在上述紫外线灯管10与工件2之间之四角筒状的辅助反射板14，在该照射设备1中，设置有第1反射板40，该第1反射板40系位在上述辅助反射板14与上述紫外线灯管10之间且位在上述紫外线灯管10之各自的两个端部10A侧，相较于上端40A，下端40B为更朝向上述紫外线灯管10之中心O而伸入，且将上述紫外线灯管10之光线加以反射至上述主反射板16及上述侧面反射板18；且可将上述紫外线灯管10之端部10A侧之上述辅助反射板14之基端14A，配置在上述第1反射板40之位置。

6. 发明专利

TW201350934A 偏光元件單元、調整用治具、燈管交換台及照射裝置审中-公开
简体标题：偏光组件单元、调整用治具、灯管交换台及照射设备
公开(公告)号：TW201350934A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102113937
申请日：2013-04-19
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD.
发明人：今井誠 , IMAI, MAKOTO , 淺見英一 , AZAMI, EIICHI , 川鍋保文 , KAWANABE, YASUFUMI , 石飛裕和 , ISHITOBI, HIROKAZU , 大野正之 , OHNO, MASAYUKI , 齋藤行正 , SAITO, YUKIMASA , 山本勝 , YAMAMOTO, MASARU , 島村洋行 , SHIMAMURA, HIROYUKI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明之課題在於可準確地調整線柵偏光元件。偏光元件單元10構成為具備：複數個線柵偏光元件16，其使光偏光；及框架14，其並列配置上述線柵偏光元件16；且上述框架14具備對每一上述線柵偏光元件16規定安裝位置之安裝部31，於上述安裝部31，可以上述線柵偏光元件16之平面之中心C為軸心轉動地設有上述線柵偏光元件16。
简体摘要：本发明之课题在于可准确地调整线栅偏光组件。偏光组件单元10构成为具备：复数个线栅偏光组件16，其使光偏光；及框架14，其并列配置上述线栅偏光组件16；且上述框架14具备对每一上述线栅偏光组件16规定安装位置之安装部31，于上述安装部31，可以上述线栅偏光组件16之平面之中心C为轴心转动地设有上述线栅偏光组件16。

7. 发明专利

TWI565977B 偏光元件單元、調整用治具、燈管交換台及照射裝置有权
简体标题：偏光组件单元、调整用治具、灯管交换台及照射设备
公开(公告)号：TWI565977B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：TW102113937
申请日：2013-04-19
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD.
发明人：今井誠 , IMAI, MAKOTO , 淺見英一 , AZAMI, EIICHI , 川鍋保文 , KAWANABE, YASUFUMI , 石飛裕和 , ISHITOBI, HIROKAZU , 大野正之 , OHNO, MASAYUKI , 齋藤行正 , SAITO, YUKIMASA , 山本勝 , YAMAMOTO, MASARU , 島村洋行 , SHIMAMURA, HIROYUKI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335

8. 发明专利

TW201634859A 光照射裝置审中-公开
简体标题：光照射设备
公开(公告)号：TW201634859A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW105100268
申请日：2016-01-06
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD.
发明人：松川泰之 , MATSUKAWA, YASUYUKI , 川鍋保文 , KAWANABE, YASUFUMI , 石飛裕和 , ISHITOBI, HIROKAZU , 齋藤行正 , SAITOU, YUKIMASA , 山本勝 , YAMAMOTO, MASARU , 田中大作 , TANAKA, DAISAKU
IPC分类号： F21S2/00 , F21V7/22 , F21V9/08 , F21V29/505 , F21V13/08 , F21V15/04 , F21V17/00 , B05C9/12 , F21Y101/00 , F21Y115/10 , F21Y103/00
摘要：本發明之課題在於提供一種光照射裝置，其能以使用具有入射角度依存性之波長選擇濾光器之構成，高精度地將照射區域不需要之波長之光遮蔽。本發明之解決手段係構成為具備供包含照射區域需要之波長之光穿透的波長選擇濾光器33，並具備吸收需要之波長之範圍外之光的吸收濾光器35，且使穿透波長選擇濾光器33及吸收濾光器35之光照射於照射區域即工件W。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种光照射设备，其能以使用具有入射角度依存性之波长选择滤光器之构成，高精度地将照射区域不需要之波长之光屏蔽。本发明之解决手段系构成为具备供包含照射区域需要之波长之光穿透的波长选择滤光器33，并具备吸收需要之波长之范围外之光的吸收滤光器35，且使穿透波长选择滤光器33及吸收滤光器35之光照射于照射区域即工件W。

9. 发明专利

TW201411114A 偏光測定方法，偏光測定裝置，偏光測定系統及光配向照射裝置审中-公开
简体标题：偏光测定方法，偏光测定设备，偏光测定系统及光配向照射设备
公开(公告)号：TW201411114A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102125190
申请日：2013-07-15
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD.
发明人：石飛裕和 , ISHITOBI, HIROKAZU , 川鍋保文 , KAWANABE, YASUFUMI , 齋藤行正 , SAITO, YUKIMASA , 淺見英一 , AZAMI, EIICHI
IPC分类号： G01N21/21 , G02F1/01
摘要：本發明之課題在於精度良好地測定偏光光線之偏光特性。本發明係根據一邊使檢測側偏光片33轉動而一邊檢測依序透過線柵偏光片16、及檢測側偏光片33之光而所獲得之在各轉動角度θ時之光之光量I，而求出表示上述檢測側偏光片33於旋轉時之上述光量I之週期性變化之變化曲線Q，且根據該變化曲線Q，特定透過上述線柵偏光片16之偏光光線F之偏光特性，此時，根據包括成為上述變化曲線Q之1個極小點之轉動角度θ=θa且包含於上述光量I成為既定值以下之上述轉動角度θ之範圍W中之在上述轉動角度θ之上述光量I，而求出上述變化曲線Q。
简体摘要：本发明之课题在于精度良好地测定偏光光线之偏光特性。本发明系根据一边使检测侧偏光片33转动而一边检测依序透过线栅偏光片16、及检测侧偏光片33之光而所获得之在各转动角度θ时之光之光量I，而求出表示上述检测侧偏光片33于旋转时之上述光量I之周期性变化之变化曲线Q，且根据该变化曲线Q，特定透过上述线栅偏光片16之偏光光线F之偏光特性，此时，根据包括成为上述变化曲线Q之1个极小点之转动角度θ=θa且包含于上述光量I成为既定值以下之上述转动角度θ之范围W中之在上述转动角度θ之上述光量I，而求出上述变化曲线Q。

10. 发明专利

TW201350935A 偏光紫外線照射裝置审中-公开
简体标题：偏光紫外线照射设备
公开(公告)号：TW201350935A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102114169
申请日：2013-04-22
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , IWASAKI ELECTRIC CO., LTD. , 愛古拉飛克斯股份有限公司 , EYE GRAPHICS CO., LTD. , 飯沼製作所股份有限公司 , IINUMA GAUGE MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：今井誠 , IMAI, MAKOTO , 淺見英一 , AZAMI, EIICHI , 川鍋保文 , KAWANABE, YASUFUMI , 石飛裕和 , ISHITOBI, HIROKAZU , 大野正之 , OHNO, MASAYUKI , 齋藤行正 , SAITO, YUKIMASA , 國枝利之 , KUNIEDA, TOSHIYUKI , 柳平房貴 , YANAGIDAIRA, FUSAKI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/133
摘要：本發明提供一種防止異物混入至被照射物中之偏光紫外線照射裝置。本發明之偏光紫外線照射裝置1係設為如下構成：其係具備具有線狀之紫外線光源7、反射紫外線之反射鏡8、及用以使所照射之紫外線成為直線偏光之線柵偏光元件10的照射器6者，且其具備旋轉機構60，該旋轉機構60係於至將被照射物2搬送至照射器6之下方位置為止期間，使該被照射物2相對於光源7之軸線L旋轉既定角度。
简体摘要：本发明提供一种防止异物混入至被照射物中之偏光紫外线照射设备。本发明之偏光紫外线照射设备1系设为如下构成：其系具备具有线状之紫外线光源7、反射紫外线之反射镜8、及用以使所照射之紫外线成为直线偏光之线栅偏光组件10的照射器6者，且其具备旋转机构60，该旋转机构60系于至将被照射物2搬送至照射器6之下方位置为止期间，使该被照射物2相对于光源7之轴线L旋转既定角度。

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