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1. 发明专利

TWI461858B 表面位置偵測裝置、曝光裝置、表面位置偵測方法以及元件製造方法有权
简体标题：表面位置侦测设备、曝光设备、表面位置侦测方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI461858B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW098117158
申请日：2009-05-22
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：日高康弘 , HIDAKA, YASUHIRO , 石川元英 , ISHIKAWA, MOTOFUSA
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026 , G03F9/7034

2. 发明专利

TWI417508B 面位置檢測裝置、曝光裝置以及元件製造方法有权
简体标题：面位置检测设备、曝光设备以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI417508B
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW095141268
申请日：2006-11-08
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：日高康弘 , HIDAKA, YASUHIRO
IPC分类号： G01B11/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7065 , G01B11/14 , G03F9/7026 , G03F9/7034 , G03F9/7088

3. 发明专利

TWI432910B 面位置檢測裝置、曝光裝置及元件製造方法有权
简体标题：面位置检测设备、曝光设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI432910B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW096125607
申请日：2007-07-13
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：日高康弘 , HIDAKA, YASUHIRO
IPC分类号： G03F7/20 , G03B27/52
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026

4. 发明专利

TWI487001B 面位置檢測裝置、面位置檢測方法、曝光裝置、及元件製造方法有权
简体标题：面位置检测设备、面位置检测方法、曝光设备、及组件制造方法
公开(公告)号：TWI487001B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW097143786
申请日：2008-11-13
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：日高康弘 , HIDAKA, YASUHIRO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03B27/52
CPC分类号： G03F9/7034 , G03F9/7026

5. 发明专利

TWI464541B 面位置檢測裝置、面位置檢測方法、曝光裝置以及元件製造方法有权
简体标题：面位置检测设备、面位置检测方法、曝光设备以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI464541B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW098121136
申请日：2009-06-24
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：日高康弘 , HIDAKA, YASUHIRO , 石川元英 , ISHIKAWA, MOTOFUSA
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , G01B11/00
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026 , G03F9/7034

6. 发明专利

TW201015245A 曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法 EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE 审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法、以及组件制造方法 EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE
公开(公告)号：TW201015245A
公开(公告)日：2010-04-16
申请号：TW098132863
申请日：2009-09-29
申请人：尼康股份有限公司
发明人：日高康弘 , 長山匡 , 木內徹
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70275 , G03F7/70208
摘要：達成掃描曝光之產率提升。曝光裝置，其具備：光罩移動部(MS)，保持形成有圖案之光罩(M)並往第1方向(X方向)移動；照明系統(IL1,IL2)，形成在第1方向相距間隔之第1照明區域(IR1)及第2照明區域(IR2)；基板移動部(WS)，保持感光性基板(W)並往第2方向(X方向)移動；投影光學系統(PL)，形成第1照明區域之圖案之第1投影像及第2照明區域之圖案之第2投影像；以及限制部(MB,MD,CR)，將第1投影像及第2投影像限制在第1投影區域(ER1)內及第2投影區域(ER2)內。與第1投影區域共軛之第1共軛區域及與第2投影區域共軛之第2共軛區域沿著第1方向之間隔，係設定成依序進行對在第2方向相鄰之第1轉印區域及第2轉印區域之各掃描曝光之間隔。
简体摘要：达成扫描曝光之产率提升。曝光设备，其具备：光罩移动部(MS)，保持形成有图案之光罩(M)并往第1方向(X方向)移动；照明系统(IL1,IL2)，形成在第1方向相距间隔之第1照明区域(IR1)及第2照明区域(IR2)；基板移动部(WS)，保持感光性基板(W)并往第2方向(X方向)移动；投影光学系统(PL)，形成第1照明区域之图案之第1投影像及第2照明区域之图案之第2投影像；以及限制部(MB,MD,CR)，将第1投影像及第2投影像限制在第1投影区域(ER1)内及第2投影区域(ER2)内。与第1投影区域共轭之第1共轭区域及与第2投影区域共轭之第2共轭区域沿着第1方向之间隔，系设置成依序进行对在第2方向相邻之第1转印区域及第2转印区域之各扫描曝光之间隔。

7. 发明专利

TW201009508A 面位置檢測裝置、面位置檢測方法、曝光裝置以及元件製造方法 SURFACE POSITION MEASURING APPARATUS, SURFACE POSITION MEASURING METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE FABRICATION METHOD 审中-公开
简体标题：面位置检测设备、面位置检测方法、曝光设备以及组件制造方法 SURFACE POSITION MEASURING APPARATUS, SURFACE POSITION MEASURING METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE FABRICATION METHOD
公开(公告)号：TW201009508A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW098121136
申请日：2009-06-24
申请人：尼康股份有限公司
发明人：日高康弘 , 石川元英
IPC分类号： G03F , G01B
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026 , G03F9/7034
摘要：一種面位置檢測裝置，抑制光學構件的變動的影響而高精度地對被檢面的面位置進行檢測。該面位置檢測裝置包括：送光光學系統（4～10），使來自第1圖案的第1光與來自第2圖案的第2光入射至被檢面（Wa），將第1圖案的中間像及第2圖案的中間像投射至被檢面；受光光學系統（30～24），將經被檢面反射的第1光及第2分別導向第1觀測面（23Aa）及第2觀測面（23Ba），形成第1圖案的觀測像及第2圖案的觀測像；以及檢測部（23～21、PR），對第1觀測面及第2觀測面上的第1圖案的觀測像及第2圖案的觀測像的各位置資訊進行檢測，根據各位置資訊來計算被檢面的面位置。送光光學系統例如是將第2圖案的中間像，投射成為相對於第1圖案的中間像而在規定方向上反轉的像。
简体摘要：一种面位置检测设备，抑制光学构件的变动的影响而高精度地对被检面的面位置进行检测。该面位置检测设备包括：送光光学系统（4～10），使来自第1图案的第1光与来自第2图案的第2光入射至被检面（Wa），将第1图案的中间像及第2图案的中间像投射至被检面；受光光学系统（30～24），将经被检面反射的第1光及第2分别导向第1观测面（23Aa）及第2观测面（23Ba），形成第1图案的观测像及第2图案的观测像；以及检测部（23～21、PR），对第1观测面及第2观测面上的第1图案的观测像及第2图案的观测像的各位置信息进行检测，根据各位置信息来计算被检面的面位置。送光光学系统例如是将第2图案的中间像，投射成为相对于第1图案的中间像而在规定方向上反转的像。

8. 发明专利

TW201015238A 面位置檢測裝置、曝光裝置、面位置檢測方法以及元件製造方法 SURFACE POSITION DETECTION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, SURFACE POSITION DETECTION METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：面位置检测设备、曝光设备、面位置检测方法以及组件制造方法 SURFACE POSITION DETECTION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, SURFACE POSITION DETECTION METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW201015238A
公开(公告)日：2010-04-16
申请号：TW098130277
申请日：2009-09-08
申请人：尼康股份有限公司
发明人：日高康弘
IPC分类号： G03F , G03B , G02B , H01L
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026
摘要：本發明的目的是提供一種面位置檢測裝置，抑制光學構件的變動的影響，且高精度地檢測規定的面的面位置。關於本發明的形態的面位置檢測裝置包括：送光光學系統（4～11），其使來自第1圖案的第1測定光及來自第2圖案的第2測定光以不同的入射角入射至被檢面（Wa），並在被檢面上投射第1圖案的中間像及第2圖案的中間像；受光光學系統（31～24），其將被檢面所反射的第1測定光及第2測定分別導向第1觀測面（23Aa）及第2觀測面(23Ba)，並在第1觀測面上形成第1圖案的觀測像，且在第2觀測面上形成第2圖案的觀測像；以及檢測部（23～21，PR ），其檢測第1圖案的觀測像及第2圖案的觀測像的各位置資訊，並根據各位置資訊而計算被檢面的面位置。送光光學系統包括送光側反射部（11），其將經過了送光側共同光學構件（5～8）的第2測定光反射偶數次，並以較第l測定光小的入射角而入射至被檢面。
简体摘要：本发明的目的是提供一种面位置检测设备，抑制光学构件的变动的影响，且高精度地检测规定的面的面位置。关于本发明的形态的面位置检测设备包括：送光光学系统（4～11），其使来自第1图案的第1测定光及来自第2图案的第2测定光以不同的入射角入射至被检面（Wa），并在被检面上投射第1图案的中间像及第2图案的中间像；受光光学系统（31～24），其将被检面所反射的第1测定光及第2测定分别导向第1观测面（23Aa）及第2观测面(23Ba)，并在第1观测面上形成第1图案的观测像，且在第2观测面上形成第2图案的观测像；以及检测部（23～21，PR ），其检测第1图案的观测像及第2图案的观测像的各位置信息，并根据各位置信息而计算被检面的面位置。送光光学系统包括送光侧反射部（11），其将经过了送光侧共同光学构件（5～8）的第2测定光反射偶数次，并以较第l测定光小的入射角而入射至被检面。

9. 发明专利

TW200951646A 表面位置偵測裝置、曝光裝置、表面位置偵測方法以及元件製造方法 SURFACE POSITION DETECTION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, SURFACE POSITION DETECTION METHOD AND DEVICE PRODUCTION METHOD 审中-公开
简体标题：表面位置侦测设备、曝光设备、表面位置侦测方法以及组件制造方法 SURFACE POSITION DETECTION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, SURFACE POSITION DETECTION METHOD AND DEVICE PRODUCTION METHOD
公开(公告)号：TW200951646A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW098117158
申请日：2009-05-22
申请人：尼康股份有限公司
发明人：日高康弘 , 石川元英
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026 , G03F9/7034
摘要：本發明的目的是提供一種能夠不受光學構件的變動的影響，而高精度地對被偵測面的表面位置進行偵測之表面位置偵測裝置、曝光裝置、表面位置偵測方法以及元件製造方法。本發明的表面偵測裝置包括：送光光學系統（4～11），其使來自第1圖案的第1光及來自第2圖案的第2光，以不同的入射角入射至被偵測面（Wa），並對被偵測面投射第1圖案的中間像及第2圖案的中間像；受光光學系統（31～24），其將被偵測面所反射的第1光及第2光，分別導向第1觀測面（23Aa）及第2觀測面（23Ba），並在第1觀測面上形成第1圖案的觀測像，且在第2觀測面上形成第2圖案的觀測像；以及偵測部（23～21，PR），其偵測第1觀測面的第1圖案的觀測像及第2觀測面的第2圖案的觀測像之各位置資訊，且根據該各位置資訊而計算被偵測面的表面位置。
简体摘要：本发明的目的是提供一种能够不受光学构件的变动的影响，而高精度地对被侦测面的表面位置进行侦测之表面位置侦测设备、曝光设备、表面位置侦测方法以及组件制造方法。本发明的表面侦测设备包括：送光光学系统（4～11），其使来自第1图案的第1光及来自第2图案的第2光，以不同的入射角入射至被侦测面（Wa），并对被侦测面投射第1图案的中间像及第2图案的中间像；受光光学系统（31～24），其将被侦测面所反射的第1光及第2光，分别导向第1观测面（23Aa）及第2观测面（23Ba），并在第1观测面上形成第1图案的观测像，且在第2观测面上形成第2图案的观测像；以及侦测部（23～21，PR），其侦测第1观测面的第1图案的观测像及第2观测面的第2图案的观测像之各位置信息，且根据该各位置信息而计算被侦测面的表面位置。

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