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1. 发明专利

TWI499546B 基板盒及基板收容裝置有权
简体标题：基板盒及基板收容设备
公开(公告)号：TWI499546B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW099146204
申请日：2010-12-28
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：水谷英夫 , MIZUTANI, HIDEO , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU , 川口透 , KAWAGUCHI, TORU , 增川孝志 , MASUKAWA, TAKASHI
IPC分类号： B65D85/90
CPC分类号： H01L21/67126 , B65H75/28 , B65H75/285 , B65H2405/421 , B65H2601/25 , H01L21/67363

2. 发明专利

TW201731010A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201731010A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW106114286
申请日：2011-04-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：濱田智秀 , HAMADA, TOMOHIDE , 奈良圭 , NARA, KEI , 增川孝志 , MASUKAWA, TAKASHI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： B65H23/32 , B65H2301/517
摘要：基板處理裝置，具備：第1處理裝置，對被搬送於該長帶方向的該片狀基板施予第1處理；第2處理裝置，以相對該第1處理裝置於與該片狀基板之搬送方向交叉之方向錯開的方式配置，且對該片狀基板施予第2處理；第3處理裝置，具備可使二行該片狀基板以隔有間隔之方式一起通過之搬入排出部，且對該第1處理後之片狀基板、或該第2處理後之片狀基板施予第3處理；以及，搬送裝置，包含：第1搬送部，以該片狀基板通過該第1處理裝置朝向該第3處理裝置的方式，將該片狀基板搬送於長帶方向；第2搬送部，以該片狀基板在經該第3處理裝置之後朝向該第2處理裝置的方式，將該片狀基板搬送於長帶方向；以及，第3搬送部，以該片狀基板在經該第2處理裝置之後朝向該第3處理裝置的方式，將該片狀基板搬送於長帶方向。
简体摘要：基板处理设备，具备：第1处理设备，对被搬送于该长带方向的该片状基板施予第1处理；第2处理设备，以相对该第1处理设备于与该片状基板之搬送方向交叉之方向错开的方式配置，且对该片状基板施予第2处理；第3处理设备，具备可使二行该片状基板以隔有间隔之方式一起通过之搬入排出部，且对该第1处理后之片状基板、或该第2处理后之片状基板施予第3处理；以及，搬送设备，包含：第1搬送部，以该片状基板通过该第1处理设备朝向该第3处理设备的方式，将该片状基板搬送于长带方向；第2搬送部，以该片状基板在经该第3处理设备之后朝向该第2处理设备的方式，将该片状基板搬送于长带方向；以及，第3搬送部，以该片状基板在经该第2处理设备之后朝向该第3处理设备的方式，将该片状基板搬送于长带方向。

3. 发明专利

TW201620067A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201620067A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW105103023
申请日：2011-04-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：濱田智秀 , HAMADA, TOMOHIDE , 奈良圭 , NARA, KEI , 增川孝志 , MASUKAWA, TAKASHI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： B65H23/32 , B65H2301/517
摘要：基板處理裝置，具備：第1處理裝置，對被搬送於該長帶方向的該片狀基板施予第1處理；第2處理裝置，以相對該第1處理裝置於與該片狀基板之搬送方向交叉之方向錯開的方式配置，且對該片狀基板施予第2處理；第3處理裝置，具備可使二行該片狀基板以隔有間隔之方式一起通過之搬入排出部，且對該第1處理後之片狀基板、或該第2處理後之片狀基板施予第3處理；以及，搬送裝置，包含：第1搬送部，以該片狀基板通過該第1處理裝置朝向該第3處理裝置的方式，將該片狀基板搬送於長帶方向；第2搬送部，以該片狀基板在經該第3處理裝置之後朝向該第2處理裝置的方式，將該片狀基板搬送於長帶方向；以及，第3搬送部，以該片狀基板在經該第2處理裝置之後朝向該第3處理裝置的方式，將該片狀基板搬送於長帶方向。
简体摘要：基板处理设备，具备：第1处理设备，对被搬送于该长带方向的该片状基板施予第1处理；第2处理设备，以相对该第1处理设备于与该片状基板之搬送方向交叉之方向错开的方式配置，且对该片状基板施予第2处理；第3处理设备，具备可使二行该片状基板以隔有间隔之方式一起通过之搬入排出部，且对该第1处理后之片状基板、或该第2处理后之片状基板施予第3处理；以及，搬送设备，包含：第1搬送部，以该片状基板通过该第1处理设备朝向该第3处理设备的方式，将该片状基板搬送于长带方向；第2搬送部，以该片状基板在经该第3处理设备之后朝向该第2处理设备的方式，将该片状基板搬送于长带方向；以及，第3搬送部，以该片状基板在经该第2处理设备之后朝向该第3处理设备的方式，将该片状基板搬送于长带方向。

4. 发明专利

TWI611500B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI611500B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW106114286
申请日：2011-04-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：濱田智秀 , HAMADA, TOMOHIDE , 奈良圭 , NARA, KEI , 增川孝志 , MASUKAWA, TAKASHI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： B65H23/32 , B65H2301/517

5. 发明专利

TWI553757B 基板處理系統及顯示元件之製造方法有权
简体标题：基板处理系统及显示组件之制造方法
公开(公告)号：TWI553757B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW100146431
申请日：2011-12-15
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：濱田智秀 , HAMADA, TOMOHIDE , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU , 增川孝志 , MASUKAWA, TAKASHI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677 , H01L51/56
CPC分类号： H01L21/67775 , H01L21/67721 , H01L21/67736 , H01L21/67745

6. 发明专利

TWI557834B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI557834B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW100112403
申请日：2011-04-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：濱田智秀 , HAMADA, TOMOHIDE , 奈良圭 , NARA, KEI , 增川孝志 , MASUKAWA, TAKASHI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： B65H23/32 , B65H2301/517

7. 发明专利

TWI587433B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI587433B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW105103023
申请日：2011-04-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：濱田智秀 , HAMADA, TOMOHIDE , 奈良圭 , NARA, KEI , 增川孝志 , MASUKAWA, TAKASHI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： B65H23/32 , B65H2301/517

8. 发明专利

TW201351061A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201351061A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102112478
申请日：2013-04-09
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：增川孝志 , MASUKAWA, TAKASHI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU , 鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/24
摘要：基板處理裝置(100)將來自光罩(M)的圖案的光(L)照射至基板(S)的表面。基板處理裝置(100)具備：光罩保持部(20)，其能圍繞特定的軸線(AX1)旋轉，且沿自軸線為一定半徑的圓筒面(22a)而保持光罩的圖案；基板保持部(30)，其以基板的表面與光罩保持部的圓筒面隔著特定的空間而配置的方式，保持基板；劃分構件(C)，其於光罩保持部與基板保持部之間劃分空間(K)，至少一部分對於來自圖案之光具有透過性；及支撐機構(53)，其支撐劃分構件。
简体摘要：基板处理设备(100)将来自光罩(M)的图案的光(L)照射至基板(S)的表面。基板处理设备(100)具备：光罩保持部(20)，其能围绕特定的轴线(AX1)旋转，且沿自轴线为一定半径的圆筒面(22a)而保持光罩的图案；基板保持部(30)，其以基板的表面与光罩保持部的圆筒面隔着特定的空间而配置的方式，保持基板；划分构件(C)，其于光罩保持部与基板保持部之间划分空间(K)，至少一部分对于来自图案之光具有透过性；及支撑机构(53)，其支撑划分构件。

9. 发明专利

TW201206548A 過濾器裝置、過濾器之收容方法、及曝光裝置审中-公开
简体标题：过滤器设备、过滤器之收容方法、及曝光设备
公开(公告)号：TW201206548A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW100111764
申请日：2011-04-06
申请人：尼康股份有限公司
发明人：桂公一 , 松浦惠二 , 堀田佳成 , 增川孝志
IPC分类号： B01D , G03F
CPC分类号： B01D53/0407 , B01D2257/406 , B01D2257/70 , B01D2258/0216
摘要：過濾器裝置，具備：過濾器箱，具備保持過濾器之框架，以及設於框架之側面之至少一部分、往框架之端面側且變化至框架外側之形狀變化部；以及收容部，係收容過濾器箱；盒體具有卡合於框架之形狀變化部而定位框架之定位塊與按壓框架之端面之分隔板。能將框架之設置以容易定位之方式進行。
简体摘要：过滤器设备，具备：过滤器箱，具备保持过滤器之框架，以及设于框架之侧面之至少一部分、往框架之端面侧且变化至框架外侧之形状变化部；以及收容部，系收容过滤器箱；盒体具有卡合于框架之形状变化部而定位框架之定位块与按压框架之端面之分隔板。能将框架之设置以容易定位之方式进行。

10. 发明专利

TW201206549A 過濾器箱、曝光裝置、及元件製造方法审中-公开
简体标题：过滤器箱、曝光设备、及组件制造方法
公开(公告)号：TW201206549A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW100111765
申请日：2011-04-06
申请人：尼康股份有限公司
发明人：桂公一 , 松浦惠二 , 堀田佳成 , 增川孝志
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01D53/0415 , B01D2258/0216
摘要：保持過濾器之過濾器箱，具備：保持過濾器之框架；以及設於框架之把手部；具有形狀變化部，其設於框架之側面之至少一部分，從框架之兩個端面中一端面側往另一端面側且變化至該框架外側。能將過濾器之設置以有效率且容易定位之方式進行。
简体摘要：保持过滤器之过滤器箱，具备：保持过滤器之框架；以及设于框架之把手部；具有形状变化部，其设于框架之侧面之至少一部分，从框架之两个端面中一端面侧往另一端面侧且变化至该框架外侧。能将过滤器之设置以有效率且容易定位之方式进行。

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