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1. 发明专利

TWI461858B 表面位置偵測裝置、曝光裝置、表面位置偵測方法以及元件製造方法有权
简体标题：表面位置侦测设备、曝光设备、表面位置侦测方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI461858B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW098117158
申请日：2009-05-22
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：日高康弘 , HIDAKA, YASUHIRO , 石川元英 , ISHIKAWA, MOTOFUSA
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026 , G03F9/7034

2. 发明专利

TW201009508A 面位置檢測裝置、面位置檢測方法、曝光裝置以及元件製造方法 SURFACE POSITION MEASURING APPARATUS, SURFACE POSITION MEASURING METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE FABRICATION METHOD 审中-公开
简体标题：面位置检测设备、面位置检测方法、曝光设备以及组件制造方法 SURFACE POSITION MEASURING APPARATUS, SURFACE POSITION MEASURING METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE FABRICATION METHOD
公开(公告)号：TW201009508A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW098121136
申请日：2009-06-24
申请人：尼康股份有限公司
发明人：日高康弘 , 石川元英
IPC分类号： G03F , G01B
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026 , G03F9/7034
摘要：一種面位置檢測裝置，抑制光學構件的變動的影響而高精度地對被檢面的面位置進行檢測。該面位置檢測裝置包括：送光光學系統（4～10），使來自第1圖案的第1光與來自第2圖案的第2光入射至被檢面（Wa），將第1圖案的中間像及第2圖案的中間像投射至被檢面；受光光學系統（30～24），將經被檢面反射的第1光及第2分別導向第1觀測面（23Aa）及第2觀測面（23Ba），形成第1圖案的觀測像及第2圖案的觀測像；以及檢測部（23～21、PR），對第1觀測面及第2觀測面上的第1圖案的觀測像及第2圖案的觀測像的各位置資訊進行檢測，根據各位置資訊來計算被檢面的面位置。送光光學系統例如是將第2圖案的中間像，投射成為相對於第1圖案的中間像而在規定方向上反轉的像。
简体摘要：一种面位置检测设备，抑制光学构件的变动的影响而高精度地对被检面的面位置进行检测。该面位置检测设备包括：送光光学系统（4～10），使来自第1图案的第1光与来自第2图案的第2光入射至被检面（Wa），将第1图案的中间像及第2图案的中间像投射至被检面；受光光学系统（30～24），将经被检面反射的第1光及第2分别导向第1观测面（23Aa）及第2观测面（23Ba），形成第1图案的观测像及第2图案的观测像；以及检测部（23～21、PR），对第1观测面及第2观测面上的第1图案的观测像及第2图案的观测像的各位置信息进行检测，根据各位置信息来计算被检面的面位置。送光光学系统例如是将第2图案的中间像，投射成为相对于第1图案的中间像而在规定方向上反转的像。

3. 发明专利

TWI464541B 面位置檢測裝置、面位置檢測方法、曝光裝置以及元件製造方法有权
简体标题：面位置检测设备、面位置检测方法、曝光设备以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI464541B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW098121136
申请日：2009-06-24
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：日高康弘 , HIDAKA, YASUHIRO , 石川元英 , ISHIKAWA, MOTOFUSA
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , G01B11/00
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026 , G03F9/7034

4. 发明专利

TW200951646A 表面位置偵測裝置、曝光裝置、表面位置偵測方法以及元件製造方法 SURFACE POSITION DETECTION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, SURFACE POSITION DETECTION METHOD AND DEVICE PRODUCTION METHOD 审中-公开
简体标题：表面位置侦测设备、曝光设备、表面位置侦测方法以及组件制造方法 SURFACE POSITION DETECTION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, SURFACE POSITION DETECTION METHOD AND DEVICE PRODUCTION METHOD
公开(公告)号：TW200951646A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW098117158
申请日：2009-05-22
申请人：尼康股份有限公司
发明人：日高康弘 , 石川元英
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F9/7049 , G03F9/7026 , G03F9/7034
摘要：本發明的目的是提供一種能夠不受光學構件的變動的影響，而高精度地對被偵測面的表面位置進行偵測之表面位置偵測裝置、曝光裝置、表面位置偵測方法以及元件製造方法。本發明的表面偵測裝置包括：送光光學系統（4～11），其使來自第1圖案的第1光及來自第2圖案的第2光，以不同的入射角入射至被偵測面（Wa），並對被偵測面投射第1圖案的中間像及第2圖案的中間像；受光光學系統（31～24），其將被偵測面所反射的第1光及第2光，分別導向第1觀測面（23Aa）及第2觀測面（23Ba），並在第1觀測面上形成第1圖案的觀測像，且在第2觀測面上形成第2圖案的觀測像；以及偵測部（23～21，PR），其偵測第1觀測面的第1圖案的觀測像及第2觀測面的第2圖案的觀測像之各位置資訊，且根據該各位置資訊而計算被偵測面的表面位置。
简体摘要：本发明的目的是提供一种能够不受光学构件的变动的影响，而高精度地对被侦测面的表面位置进行侦测之表面位置侦测设备、曝光设备、表面位置侦测方法以及组件制造方法。本发明的表面侦测设备包括：送光光学系统（4～11），其使来自第1图案的第1光及来自第2图案的第2光，以不同的入射角入射至被侦测面（Wa），并对被侦测面投射第1图案的中间像及第2图案的中间像；受光光学系统（31～24），其将被侦测面所反射的第1光及第2光，分别导向第1观测面（23Aa）及第2观测面（23Ba），并在第1观测面上形成第1图案的观测像，且在第2观测面上形成第2图案的观测像；以及侦测部（23～21，PR），其侦测第1观测面的第1图案的观测像及第2观测面的第2图案的观测像之各位置信息，且根据该各位置信息而计算被侦测面的表面位置。

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