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1. 发明专利

TW202022505A 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW202022505A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW109102647
申请日：2013-03-08
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要：基板處理裝置具備：旋轉圓筒構件（DR），其具有自特定之中心線（AX2）以固定半徑彎曲之圓筒狀之支持面，且沿基板之長邊方向傳送基板（P）；處理機構，其於基板之一部分之特定位置（PA、EL2），對基板實施特定處理；標尺構件（SD），其具有標尺部（GP），該標尺部（GP）與旋轉圓筒構件一併繞中心線旋轉，並且刻設為環狀，以測量旋轉圓筒構件於支持面之周方向上之位置變化、或旋轉圓筒構件於中心線之方向上之位置變化；及讀取機構（EN1、EN2），其與標尺部對向，並且於自中心線觀察時配置成與特定位置大致相同之方向，且對標尺部進行讀取。
简体摘要：基板处理设备具备：旋转圆筒构件（DR），其具有自特定之中心线（AX2）以固定半径弯曲之圆筒状之支持面，且沿基板之长边方向发送基板（P）；处理机构，其于基板之一部分之特定位置（PA、EL2），对基板实施特定处理；标尺构件（SD），其具有标尺部（GP），该标尺部（GP）与旋转圆筒构件一并绕中心线旋转，并且刻设为环状，以测量旋转圆筒构件于支持面之周方向上之位置变化、或旋转圆筒构件于中心线之方向上之位置变化；及读取机构（EN1、EN2），其与标尺部对向，并且于自中心线观察时配置成与特定位置大致相同之方向，且对标尺部进行读取。

2. 发明专利

TWI686678B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI686678B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107129634
申请日：2013-03-08
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

3. 发明专利

TW202004958A 曝光裝置审中-公开
简体标题：曝光设备
公开(公告)号：TW202004958A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108139039
申请日：2013-01-16
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/20
摘要：本發明之基板處理裝置係將沿著圓筒面而保持之光罩之圖案形成於基板之表面所形成之光感應層者，且具備：光罩保持部，其具備沿著該圓筒面保持該光罩之光罩保持面，且可繞既定之軸線旋轉；環繞保持部，其具備接觸保持該基板之基板保持面，且可繞與該既定之軸線大致平行之軸線環繞；及間距形成部，其於該光罩保持面與該基板保持面之間形成既定量之間距。
简体摘要：本发明之基板处理设备系将沿着圆筒面而保持之光罩之图案形成于基板之表面所形成之光感应层者，且具备：光罩保持部，其具备沿着该圆筒面保持该光罩之光罩保持面，且可绕既定之轴线旋转；环绕保持部，其具备接触保持该基板之基板保持面，且可绕与该既定之轴线大致平行之轴线环绕；及间距形成部，其于该光罩保持面与该基板保持面之间形成既定量之间距。

4. 发明专利

TWI641919B 圖案形成方法有权
简体标题：图案形成方法
公开(公告)号：TWI641919B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW106116321
申请日：2010-07-16
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：木內徹 , KIUCHI, TOHRU , 水谷英夫 , MIZUTANI, HIDEO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

5. 发明专利

TWI626515B 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法有权
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI626515B
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：TW106116099
申请日：2013-03-08
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

6. 发明专利

TWI624001B 基板支承裝置有权
简体标题：基板支承设备
公开(公告)号：TWI624001B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW106108716
申请日：2013-04-12
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L21/683 , H01L27/12 , G03F7/20

7. 发明专利

TWI623480B 製造系統有权
简体标题：制造系统
公开(公告)号：TWI623480B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW106136141
申请日：2012-02-22
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：濱田智秀 , HAMADA, TOMOHIDE , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： B65G49/07 , H01L21/677

8. 发明专利

TW201732456A 基板處理裝置、處理裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、处理设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201732456A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106116099
申请日：2013-03-08
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70366 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/42 , G03F7/70 , G03F7/70641 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/00
摘要：基板處理裝置具備：旋轉圓筒構件(DR)，其具有自特定之中心線(AX2)以固定半徑彎曲之圓筒狀之支持面，且沿基板之長邊方向傳送基板(P)；處理機構，其於基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，對基板實施特定處理；標尺構件(SD)，其具有標尺部(GP)，該標尺部(GP)與旋轉圓筒構件一併繞中心線旋轉，並且刻設為環狀，以測量旋轉圓筒構件於支持面之周方向上之位置變化、或旋轉圓筒構件於中心線之方向上之位置變化；及讀取機構(EN1、EN2)，其與標尺部對向，並且於自中心線觀察時配置成與特定位置大致相同之方向，且對標尺部進行讀取。
简体摘要：基板处理设备具备：旋转圆筒构件(DR)，其具有自特定之中心线(AX2)以固定半径弯曲之圆筒状之支持面，且沿基板之长边方向发送基板(P)；处理机构，其于基板之一部分之特定位置(PA、EL2)，对基板实施特定处理；标尺构件(SD)，其具有标尺部(GP)，该标尺部(GP)与旋转圆筒构件一并绕中心线旋转，并且刻设为环状，以测量旋转圆筒构件于支持面之周方向上之位置变化、或旋转圆筒构件于中心线之方向上之位置变化；及读取机构(EN1、EN2)，其与标尺部对向，并且于自中心线观察时配置成与特定位置大致相同之方向，且对标尺部进行读取。

9. 发明专利

TW201727818A 基板支承裝置审中-公开
简体标题：基板支承设备
公开(公告)号：TW201727818A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW106108716
申请日：2013-04-12
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI , 堀正和 , HORI, MASAKAZU , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU
IPC分类号： H01L21/683 , H01L27/12 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/24
摘要：本發明之基板支承裝置設有：基材，其具備用以將實施光學處理之具有透過性之可撓性基板以既定之曲率彎曲之狀態或平坦之狀態支承之面；以及膜體，其係形成於上述基材之表面上，對於光學處理所使用之光(曝光用之紫外線、對準用之可見光等)之反射率為50%以下。
简体摘要：本发明之基板支承设备设有：基材，其具备用以将实施光学处理之具有透过性之可挠性基板以既定之曲率弯曲之状态或平坦之状态支承之面；以及膜体，其系形成于上述基材之表面上，对于光学处理所使用之光(曝光用之紫外线、对准用之可见光等)之反射率为50%以下。

10. 发明专利

TW201719297A 光罩單元、基板處理裝置及光罩單元製造方法、以及基板處理方法审中-公开
简体标题：光罩单元、基板处理设备及光罩单元制造方法、以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201719297A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW106105453
申请日：2013-01-16
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：鈴木智也 , SUZUKI, TOMONARI , 木內徹 , KIUCHI, TOHRU , 加藤正紀 , KATO, MASAKI , 鬼頭義昭 , KITO, YOSHIAKI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/24
摘要：本發明之基板處理裝置係將沿著圓筒面而保持之光罩之圖案形成於基板之表面所形成之光感應層者，且具備：光罩保持部，其具備沿著該圓筒面保持該光罩之光罩保持面，且可繞既定之軸線旋轉；環繞保持部，其具備接觸保持該基板之基板保持面，且可繞與該既定之軸線大致平行之軸線環繞；及間距形成部，其於該光罩保持面與該基板保持面之間形成既定量之間距。
简体摘要：本发明之基板处理设备系将沿着圆筒面而保持之光罩之图案形成于基板之表面所形成之光感应层者，且具备：光罩保持部，其具备沿着该圆筒面保持该光罩之光罩保持面，且可绕既定之轴线旋转；环绕保持部，其具备接触保持该基板之基板保持面，且可绕与该既定之轴线大致平行之轴线环绕；及间距形成部，其于该光罩保持面与该基板保持面之间形成既定量之间距。

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