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1. 发明专利

TWI489527B 用以供應具有相位差之反應氣體的基板處理裝置有权
简体标题：用以供应具有相位差之反应气体的基板处理设备
公开(公告)号：TWI489527B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW101139453
申请日：2012-10-25
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梁日光 , YANG, IL-KWANG , 諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 金龍基 , KIM, YONG-KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG-HUN , 申良湜 , SHIN, YANG-SIK
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： H01L21/67069 , C23C16/4412 , C23C16/45517 , C23C16/45563 , C23C16/4587 , C30B35/00 , H01L21/02532 , H01L21/0262 , H01L21/02661 , H01L21/67017 , H01L21/67109 , H01L21/67757

2. 发明专利

TW201324661A 具有輔助氣體供應口的基板處理裝置审中-公开
简体标题：具有辅助气体供应口的基板处理设备
公开(公告)号：TW201324661A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101139452
申请日：2012-10-25
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梁日光 , YANG, IL-KWANG , 諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 金龍基 , KIM, YONG-KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG-HUN , 申良湜 , SHIN, YANG-SIK
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C16/0236 , C23C16/45504 , C23C16/45512 , C23C16/45578 , C23C16/4584 , C23C16/4588 , C23C16/54 , C30B25/14 , H01L21/67757
摘要：本發明揭示一種基板處理裝置。該種基板處理裝置其中執行關於基板的處理，該基板處理裝置包含：具有一開放式上半部的一下方處理室，該下方處理室包含一通道，容許該等基板從其一側邊通過；一外部反應管，其封閉該下室的該開放式上半部，以提供其中執行該等處理的一處理空間；位於該外部反應管內的一內部反應管，該內部反應管圍繞放置在該處理位置內的該基板固定器，定義出相關於該等基板的一反應區；該基板固定器，其上垂直堆疊一或多個基板，該基板固定器可在其中該等基板堆疊在該基板固定器內的一堆疊位置與其中執行關於該等基板的該等處理之一處理位置之間移動；至少一供應噴嘴，其沿著該外反應管的一內壁安置，該至少一供應噴嘴具有一供應孔用於噴出一反應氣體；以及至少一排放噴嘴，其沿著該外反應管的一內壁安置，該至少一排放噴嘴具有一排放孔用來吸入該處理空間內的一未反應氣體與副產物。該下室包含一輔助氣體供應口，其連接至該下室內定義的該堆疊空間。
简体摘要：本发明揭示一种基板处理设备。该种基板处理设备其中运行关于基板的处理，该基板处理设备包含：具有一开放式上半部的一下方处理室，该下方处理室包含一信道，容许该等基板从其一侧边通过；一外部反应管，其封闭该下室的该开放式上半部，以提供其中运行该等处理的一处理空间；位于该外部反应管内的一内部反应管，该内部反应管围绕放置在该处理位置内的该基板固定器，定义出相关于该等基板的一反应区；该基板固定器，其上垂直堆栈一或多个基板，该基板固定器可在其中该等基板堆栈在该基板固定器内的一堆栈位置与其中运行关于该等基板的该等处理之一处理位置之间移动；至少一供应喷嘴，其沿着该外反应管的一内壁安置，该至少一供应喷嘴具有一供应孔用于喷出一反应气体；以及至少一排放喷嘴，其沿着该外反应管的一内壁安置，该至少一排放喷嘴具有一排放孔用来吸入该处理空间内的一未反应气体与副产物。该下室包含一辅助气体供应口，其连接至该下室内定义的该堆栈空间。

3. 发明专利

TWI485795B 具有輔助氣體供應口的基板處理裝置有权
简体标题：具有辅助气体供应口的基板处理设备
公开(公告)号：TWI485795B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW101139452
申请日：2012-10-25
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梁日光 , YANG, IL-KWANG , 諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 金龍基 , KIM, YONG-KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG-HUN , 申良湜 , SHIN, YANG-SIK
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C16/0236 , C23C16/45504 , C23C16/45512 , C23C16/45578 , C23C16/4584 , C23C16/4588 , C23C16/54 , C30B25/14 , H01L21/67757

4. 发明专利

TWI453809B 含半圓形天線之基材處理設備有权
简体标题：含半圆形天线之基材处理设备
公开(公告)号：TWI453809B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW100134941
申请日：2011-09-28
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 梁日光 , YANG, IL-KWANG , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 朴松煥 , PARK, SONG HWAN
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： C23C16/50 , C23C16/4412 , C23C16/45504 , C23C16/45536 , C23C16/45563 , C23C16/507 , H01J37/3211 , H01J37/32449 , H01L21/02617 , H01L21/32105 , H01L21/3211 , H05H1/46 , H05H2001/4667

5. 发明专利

TWI489577B 具有排放口的基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：具有排放口的基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI489577B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW101139444
申请日：2012-10-25
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梁日光 , YANG, IL-KWANG , 諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 金龍基 , KIM, YONG-KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG-HUN , 申良湜 , SHIN, YANG-SIK
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/02595 , C23C16/0236 , C23C16/4412 , H01L21/02532 , H01L21/02576 , H01L21/02579 , H01L21/0262 , H01L21/02636 , H01L21/67017 , H01L21/67109 , H01L21/67739 , H01L21/67757

6. 发明专利

TW201327707A 具有排放口的基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：具有排放口的基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201327707A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101139444
申请日：2012-10-25
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梁日光 , YANG, IL-KWANG , 諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 金龍基 , KIM, YONG-KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG-HUN , 申良湜 , SHIN, YANG-SIK
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/02595 , C23C16/0236 , C23C16/4412 , H01L21/02532 , H01L21/02576 , H01L21/02579 , H01L21/0262 , H01L21/02636 , H01L21/67017 , H01L21/67109 , H01L21/67739 , H01L21/67757
摘要：本發明揭示一種基板處理裝置。該基板處理裝置其中執行關於基板的處理，該裝置包含：具有一開放式上半部的一下方處理室，該下方處理室包含一通道，容許該等基板從其一側邊通過；一外部反應管，其封閉該下室的該開放式上半部，以提供其中執行該等處理的一處理空間；一基板固定器，其上垂直堆疊一或多個基板，該基板固定器可在其中該等基板堆疊在該基板固定器內的一堆疊位置與其中執行關於該等基板的該等處理之一處理位置之間移動；至少一供應噴嘴，其沿著該外反應管的一內壁安置，該至少一供應噴嘴具有一供應孔用於噴出一反應氣體；至少一排放噴嘴，其沿著該外反應管的該內壁安置，該至少一排放噴嘴具有一排放孔用來吸入該處理空間內的一未反應氣體與副產物；以及一後排放管線，其連接至該排放噴嘴，將透過該排放孔吸入的該未反應氣體和該等副產物排出。該下室包含將該排放噴嘴連接至該後排放管線的一排放口，以及將該下室內定義的一堆疊空間連接至該後排放管線的一輔助排放口。
简体摘要：本发明揭示一种基板处理设备。该基板处理设备其中运行关于基板的处理，该设备包含：具有一开放式上半部的一下方处理室，该下方处理室包含一信道，容许该等基板从其一侧边通过；一外部反应管，其封闭该下室的该开放式上半部，以提供其中运行该等处理的一处理空间；一基板固定器，其上垂直堆栈一或多个基板，该基板固定器可在其中该等基板堆栈在该基板固定器内的一堆栈位置与其中运行关于该等基板的该等处理之一处理位置之间移动；至少一供应喷嘴，其沿着该外反应管的一内壁安置，该至少一供应喷嘴具有一供应孔用于喷出一反应气体；至少一排放喷嘴，其沿着该外反应管的该内壁安置，该至少一排放喷嘴具有一排放孔用来吸入该处理空间内的一未反应气体与副产物；以及一后排放管线，其连接至该排放喷嘴，将透过该排放孔吸入的该未反应气体和该等副产物排出。该下室包含将该排放喷嘴连接至该后排放管线的一排放口，以及将该下室内定义的一堆栈空间连接至该后排放管线的一辅助排放口。

7. 发明专利

TW201324660A 具有隔熱板的基板處理裝置审中-公开
简体标题：具有隔热板的基板处理设备
公开(公告)号：TW201324660A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101139449
申请日：2012-10-25
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梁日光 , YANG, IL-KWANG , 諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 金龍基 , KIM, YONG-KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG-HUN , 申良湜 , SHIN, YANG-SIK
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67115 , C23C16/45563 , C23C16/4585 , H01L21/02532 , H01L21/0262 , H01L21/6719 , H01L21/6732 , H01L21/67757
摘要：本發明揭示一種基板處理裝置。該基板處理裝置其中執行關於基板的處理，該裝置包含：具有一開放式上半部的一下方處理室，該下方處理室包含一通道，容許該等基板從其一側邊通過；一外部反應管，其封閉該下室的該開放式上半部，以提供其中執行該等處理的一處理空間；位於該外部反應管內的一內部反應管，該內部反應管圍繞放置在該處理位置內的該基板固定器，定義出關於該等基板的一反應區；一加熱器，其位於該外部反應管之外來加熱該處理空間；該基板固定器，其上垂直堆疊一或多個基板，該基板固定器可在其中該等基板堆疊在該基板固定器內的一堆疊位置與其中執行關於該等基板的該等處理之一處理位置之間移動；以及一隔熱板，其位於該基板固定器底下，在該基板固定器放置在該處理位置上時，關閉該內部反應管的開放式下半部。
简体摘要：本发明揭示一种基板处理设备。该基板处理设备其中运行关于基板的处理，该设备包含：具有一开放式上半部的一下方处理室，该下方处理室包含一信道，容许该等基板从其一侧边通过；一外部反应管，其封闭该下室的该开放式上半部，以提供其中运行该等处理的一处理空间；位于该外部反应管内的一内部反应管，该内部反应管围绕放置在该处理位置内的该基板固定器，定义出关于该等基板的一反应区；一加热器，其位于该外部反应管之外来加热该处理空间；该基板固定器，其上垂直堆栈一或多个基板，该基板固定器可在其中该等基板堆栈在该基板固定器内的一堆栈位置与其中运行关于该等基板的该等处理之一处理位置之间移动；以及一隔热板，其位于该基板固定器底下，在该基板固定器放置在该处理位置上时，关闭该内部反应管的开放式下半部。

8. 发明专利

TWI485794B 具有隔熱板的基板處理裝置有权
简体标题：具有隔热板的基板处理设备
公开(公告)号：TWI485794B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW101139449
申请日：2012-10-25
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梁日光 , YANG, IL-KWANG , 諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 金龍基 , KIM, YONG-KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG-HUN , 申良湜 , SHIN, YANG-SIK
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67115 , C23C16/45563 , C23C16/4585 , H01L21/02532 , H01L21/0262 , H01L21/6719 , H01L21/6732 , H01L21/67757

9. 发明专利

TWI457997B 使用對稱流入口與流出口供應處理氣體之基材處理設備失效
简体标题：使用对称流入口与流出口供应处理气体之基材处理设备
公开(公告)号：TWI457997B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW100134942
申请日：2011-09-28
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 梁日光 , YANG, IL-KWANG , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 朴松煥 , PARK, SONG HWAN
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： H01L21/02617 , C23C16/4412 , C23C16/45504 , C23C16/45536 , C23C16/45544 , C23C16/45563 , C23C16/507 , H01J37/32449 , H01L21/32105 , H01L21/3211

10. 发明专利

TW201324590A 用以供應具有相位差之反應氣體的基板處理裝置审中-公开
简体标题：用以供应具有相位差之反应气体的基板处理设备
公开(公告)号：TW201324590A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101139453
申请日：2012-10-25
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梁日光 , YANG, IL-KWANG , 諸成泰 , JE, SUNG-TAE , 宋炳奎 , SONG, BYUNG-GYU , 金龍基 , KIM, YONG-KI , 金勁勳 , KIM, KYOUNG-HUN , 申良湜 , SHIN, YANG-SIK
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： H01L21/67069 , C23C16/4412 , C23C16/45517 , C23C16/45563 , C23C16/4587 , C30B35/00 , H01L21/02532 , H01L21/0262 , H01L21/02661 , H01L21/67017 , H01L21/67109 , H01L21/67757
摘要：本發明揭示一種基板處理裝置。該基板處理裝置其中執行關於基板的處理，該裝置包含：具有一開放式上半部的一下方處理室，該下方處理室包含一通道，容許該等基板從其一側邊通過；一外部反應管，其封閉該下方處理室的該開放式上半部，以提供其中執行該等處理的一處理空間；一基板固定器，其上垂直堆疊一或多個基板，該基板固定器可在其中該等基板堆疊在該基板固定器內的一堆疊位置與其中執行關於該等基板的該等處理之一處理位置之間移動；以及一氣體供應單元，其位於該外部反應管內，以便供應一反應氣體進入該處理空間，該氣體供應單元往一垂直方向形成具有不同相位差的該反應氣體流。
简体摘要：本发明揭示一种基板处理设备。该基板处理设备其中运行关于基板的处理，该设备包含：具有一开放式上半部的一下方处理室，该下方处理室包含一信道，容许该等基板从其一侧边通过；一外部反应管，其封闭该下方处理室的该开放式上半部，以提供其中运行该等处理的一处理空间；一基板固定器，其上垂直堆栈一或多个基板，该基板固定器可在其中该等基板堆栈在该基板固定器内的一堆栈位置与其中运行关于该等基板的该等处理之一处理位置之间移动；以及一气体供应单元，其位于该外部反应管内，以便供应一反应气体进入该处理空间，该气体供应单元往一垂直方向形成具有不同相位差的该反应气体流。

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