专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201346454A 曝光裝置及曝光方法审中-公开
简体标题：曝光设备及曝光方法
公开(公告)号：TW201346454A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102112427
申请日：2013-04-08
申请人：安士克科技股份有限公司 , NSK TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鈴木幹育 , SUZUKI, MOTOYASU , 西川貴洋 , NISHIKAWA, TAKAHIRO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70733 , H01L21/67225
摘要：本發明提供一種可謀求縮短工站時間之曝光裝置及曝光方法。曝光裝置PE具備掩模載台10，其保持掩模M1、M2；複數個基板保持部21，其分別載置作為被曝光工件之基板W1、W2；基板載台20，其載置複數個基板保持部；旋轉台22，為使保持於上述複數個基板保持部21之上述基板W1、W2與保持於掩模載台10之上述掩模M1、M2對向，其可同步旋轉移動上述複數個基板保持部21；及照明光學系統30，其介隔上述掩模對上述基板W1、W2照射曝光光；曝光裝置PE可對載置於第1及第2基板保持部21a、21b之基板W1、W2同步照射曝光光。
简体摘要：本发明提供一种可谋求缩短工站时间之曝光设备及曝光方法。曝光设备PE具备掩模载台10，其保持掩模M1、M2；复数个基板保持部21，其分别载置作为被曝光工件之基板W1、W2；基板载台20，其载置复数个基板保持部；旋转台22，为使保持于上述复数个基板保持部21之上述基板W1、W2与保持于掩模载台10之上述掩模M1、M2对向，其可同步旋转移动上述复数个基板保持部21；及照明光学系统30，其介隔上述掩模对上述基板W1、W2照射曝光光；曝光设备PE可对载置于第1及第2基板保持部21a、21b之基板W1、W2同步照射曝光光。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式