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1. 发明专利

TWI484310B 材料氣體濃度控制系統有权
简体标题：材料气体浓度控制系统
公开(公告)号：TWI484310B
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：TW098136675
申请日：2009-10-29
申请人：堀場製作所股份有限公司 , HORIBA, LTD. , 堀場STEC股份有限公司 , HORIBA STEC, CO., LTD.
发明人：南雅和 , MINAMI, MASAKAZU , 林大介 , HAYASHI, DAISUKE , 坂口有平 , SAKAGUCHI, YUHEI , 西村克美 , NISHIMURA, KATSUMI , 井上正規 , INOUE, MASAKI , 瀧尻興太郎 , TAKIJIRI, KOTARO
IPC分类号： G05D11/08 , G01N7/14
CPC分类号： G05D11/132 , Y10T137/0396 , Y10T137/2499 , Y10T137/2509 , Y10T137/2708

2. 发明专利

TW201027291A 材料氣體濃度控制系統 MATERIAL GAS CONCERTRATION CONTROL SYSTEM 审中-公开
简体标题：材料气体浓度控制系统 MATERIAL GAS CONCERTRATION CONTROL SYSTEM
公开(公告)号：TW201027291A
公开(公告)日：2010-07-16
申请号：TW098136675
申请日：2009-10-29
申请人：堀場製作所股份有限公司 , 堀場STEC股份有限公司
发明人：南雅和 , 林大介 , 坂口有平 , 西村克美 , 井上正規 , 瀧尻興太郎
IPC分类号： G05D , G01N
CPC分类号： G05D11/132 , Y10T137/0396 , Y10T137/2499 , Y10T137/2509 , Y10T137/2708
摘要：一種材料氣體濃度控制系統,用於材料氣化系統中,所述材料氣化系統包括收納材料的貯槽、將使所收納的材料氣化的載氣導入至所述貯槽內的導入管、以及將氣化而成的材料氣體及所述載氣的混合氣體從所述貯槽內導出的導出管,所述材料氣體濃度控制系統包括設置於所述導出管上的第1閥、測量所述混合氣體中的材料氣體的濃度的濃度測量部、以及對所述第1閥的開度進行控制以使所述濃度測量部所測量的材料氣體的測量濃度達到預定的設定濃度的濃度控制部。
简体摘要：一种材料气体浓度控制系统,用于材料气化系统中,所述材料气化系统包括收纳材料的贮槽、将使所收纳的材料气化的载气导入至所述贮槽内的导入管、以及将气化而成的材料气体及所述载气的混合气体从所述贮槽内导出的导出管,所述材料气体浓度控制系统包括设置于所述导出管上的第1阀、测量所述混合气体中的材料气体的浓度的浓度测量部、以及对所述第1阀的开度进行控制以使所述浓度测量部所测量的材料气体的测量浓度达到预定的设置浓度的浓度控制部。

3. 发明专利

TW201603432A 流體控制測量系統的供電裝置审中-公开
简体标题：流体控制测量系统的供电设备
公开(公告)号：TW201603432A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104119068
申请日：2015-06-12
申请人：堀場STEC股份有限公司 , HORIBA STEC, CO., LTD.
发明人：瀧尻興太郎 , TAKIJIRI, KOTARO , 高倉洋 , TAKAKURA, HIROSHI , 大江健一 , OE, KENICHI
IPC分类号： H02J13/00 , G05D7/06
CPC分类号： G05F1/66 , G05D7/0641
摘要：本發明提供一種流體控制測量系統的供電裝置。為了防止管理複數個流量控制裝置(101)的供電裝置(102)的電源裝置大型化，在控制流體流量的複數個流量控制裝置(101)上分別連接電纜，藉由該電纜(8)管理各流量控制裝置(101)的動作並向各流量控制裝置(101)供電，其中，供電裝置具有供電控制部(10)，該供電控制部(10)使針對至少一部分流量控制裝置(101)的供電開始時機偏移。
简体摘要：本发明提供一种流体控制测量系统的供电设备。为了防止管理复数个流量控制设备(101)的供电设备(102)的电源设备大型化，在控制流体流量的复数个流量控制设备(101)上分别连接电缆，借由该电缆(8)管理各流量控制设备(101)的动作并向各流量控制设备(101)供电，其中，供电设备具有供电控制部(10)，该供电控制部(10)使针对至少一部分流量控制设备(101)的供电开始时机偏移。

4. 发明专利

TW201602749A 中繼器以及流體控制和測量系統审中-公开
简体标题：中继器以及流体控制和测量系统
公开(公告)号：TW201602749A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104119569
申请日：2015-06-17
申请人：堀場STEC股份有限公司 , HORIBA STEC, CO., LTD.
发明人：瀧尻興太郎 , TAKIJIRI, KOTARO , 大江健一 , OE, KENICHI , 古川幸正 , FURUKAWA, YUKIMASA
IPC分类号： G05D7/06 , G05D16/20
CPC分类号： G05B19/0426 , G05D7/0635
摘要：本發明提供中繼器以及流體控制和測量系統。為了能使流體設備小型化並能診斷流體設備的動作狀態，中繼器具備：第一埠，係與流體設備連接；以及第二埠，係與使用者用資訊處理裝置連接，藉由第一埠從流體設備接收流體關聯資料並藉由第二埠向使用者用資訊處理裝置發送，或藉由第二埠從使用者用資訊處理裝置接收流體關聯資料並藉由第一埠向流體設備發送，中繼器還具備與診斷流體設備的動作狀態的診斷用裝置連接的第三埠，藉由第一埠從流體設備接收診斷動作狀態的診斷用資料並藉由第三埠向診斷用裝置發送。
简体摘要：本发明提供中继器以及流体控制和测量系统。为了能使流体设备小型化并能诊断流体设备的动作状态，中继器具备：第一端口，系与流体设备连接；以及第二端口，系与用户用信息处理设备连接，借由第一端口从流体设备接收流体关联数据并借由第二端口向用户用信息处理设备发送，或借由第二端口从用户用信息处理设备接收流体关联数据并借由第一端口向流体设备发送，中继器还具备与诊断流体设备的动作状态的诊断用设备连接的第三端口，借由第一端口从流体设备接收诊断动作状态的诊断用数据并借由第三端口向诊断用设备发送。

5. 发明专利

TWI666842B 流體控制測量系統的供電裝置有权
简体标题：流体控制测量系统的供电设备
公开(公告)号：TWI666842B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW104119068
申请日：2015-06-12
申请人：日商堀場STEC股份有限公司 , HORIBA STEC, CO., LTD.
发明人：瀧尻興太郎 , TAKIJIRI, KOTARO , 高倉洋 , TAKAKURA, HIROSHI , 大江健一 , OE, KENICHI
IPC分类号： H02J13/00 , G05D7/06

6. 发明专利

TW201743155A 流量控制裝置和存儲有流量控制裝置用程式的存儲介質审中-公开
简体标题：流量控制设备和存储有流量控制设备用进程的存储介质
公开(公告)号：TW201743155A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106117835
申请日：2017-05-31
申请人：堀場STEC股份有限公司 , HORIBA STEC, CO., LTD.
发明人：瀧尻興太郎 , TAKIJIRI, KOTARO , 家城篤史 , IEKI, ATSUSHI , 田中祐紀 , TANAKA, YUKI
IPC分类号： G05D7/06 , G01F1/34 , G01F1/88 , G01F25/00
CPC分类号： G01F1/6965 , F16K37/005 , F16K37/0091 , G01F15/005 , G05B13/021 , G05D7/0629
摘要：本發明提供流量控制裝置和存儲有流量控制裝置用程式的存儲介質。該流量控制裝置具有良好的回應性，並且根據情況，操作者能夠容易調整成與現有的流量控制裝置等效的回應性。流量控制裝置（100）對流體控制閥（3）進行回饋控制，使測量流量接近目標流量，該流量控制裝置（100）具有：回應延遲輸入部（43），用於輸入回應延遲設定值，所述回應延遲設定值是表示想要設定的回應延遲的值；以及回應延遲生成部（46），根據所述回應延遲設定值生成所述回饋控制的回應延遲。
简体摘要：本发明提供流量控制设备和存储有流量控制设备用进程的存储介质。该流量控制设备具有良好的回应性，并且根据情况，操作者能够容易调整成与现有的流量控制设备等效的回应性。流量控制设备（100）对流体控制阀（3）进行回馈控制，使测量流量接近目标流量，该流量控制设备（100）具有：回应延迟输入部（43），用于输入回应延迟设置值，所述回应延迟设置值是表示想要设置的回应延迟的值；以及回应延迟生成部（46），根据所述回应延迟设置值生成所述回馈控制的回应延迟。

7. 发明专利

TW201714207A 氣體控制系統以及氣體控制系統用程式审中-公开
简体标题：气体控制系统以及气体控制系统用进程
公开(公告)号：TW201714207A
公开(公告)日：2017-04-16
申请号：TW105133038
申请日：2016-10-13
申请人：堀場STEC股份有限公司 , HORIBA STEC, CO., LTD.
发明人：西里洋 , NISHIZATO, HIROSHI , 瀧尻興太郎 , TAKIJIRI, KOTARO , 南雅和 , MINAMI, MASAKAZU , 寺岡溫子 , TERAOKA, ATSUKO
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/52 , C23C16/4481 , C23C16/4482 , G01N21/3504 , G01N21/84 , G01N33/0004 , G01N2021/8411 , G01N2021/8578 , G05D11/00 , Y10T137/0329 , Y10T137/2499 , Y10T137/2509
摘要：本發明提供一種氣體控制系統，其可以防止出現由材料氣體再液化的液滴或材料的熱分解所產生的微粒對濃度或流量控制的影響，以預先設定的濃度或流量供給混合氣體。氣體控制系統包括：第一閥，其設置在載氣管線上或設置在供氣管線上；流量控制機構，其設於稀釋氣體管線上，具有流量感測器及第二閥；非接觸式的第一濃度感測器；第一閥控制部；稀釋氣體設定流量計算部，其基於預先設定的稀釋後混合氣體的總設定流量以及稀釋後測定濃度，計算應該在稀釋氣體管線中流動的稀釋氣體的流量即稀釋氣體設定流量；第二閥控制部，其為了使稀釋氣體設定流量與流量感測器所測定的測定流量的偏差減小而控制第二閥的開度。
简体摘要：本发明提供一种气体控制系统，其可以防止出现由材料气体再液化的液滴或材料的热分解所产生的微粒对浓度或流量控制的影响，以预先设置的浓度或流量供给混合气体。气体控制系统包括：第一阀，其设置在载气管在线或设置在供气管在线；流量控制机构，其设于稀释气体管在线，具有流量传感器及第二阀；非接触式的第一浓度传感器；第一阀控制部；稀释气体设置流量计算部，其基于预先设置的稀释后混合气体的总设置流量以及稀释后测定浓度，计算应该在稀释气体管线中流动的稀释气体的流量即稀释气体设置流量；第二阀控制部，其为了使稀释气体设置流量与流量传感器所测定的测定流量的偏差减小而控制第二阀的开度。

8. 发明专利

TW201612669A 流量控制裝置、存儲流量控制裝置用程式的程式存儲介質和流量控制方法审中-公开
简体标题：流量控制设备、存储流量控制设备用进程的进程存储介质和流量控制方法
公开(公告)号：TW201612669A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104124888
申请日：2015-07-31
申请人：堀場STEC股份有限公司 , HORIBA STEC, CO., LTD.
发明人：瀧尻興太郎 , TAKIJIRI, KOTARO , 田中祐紀 , TANAKA, YUKI , 家城篤史 , IEKI, ATSUSHI
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7761
摘要：本發明提供一種流量控制裝置、存儲流量控制裝置用程式的程式存儲介質和流量控制方法，流量控制裝置不設置用於檢測壓力變化的附加感測器，即使在閥的上游產生壓力變化，也能夠使其影響不表現在閥的下游，從而使流量持續穩定為設定流量值，流量控制裝置包括：閥(3)；流量感測器(2)；閥控制部(41)，根據設定流量值與由流量感測器(2)測量出的測量流量值之間的偏差和設定的控制係數，以使偏差變小的方式控制閥；以及控制係數設定部(44)，設定閥控制部的控制係數，在閥(3)的上游產生擾動壓力上升時，使與閥的開度的減少量相當的擾動流量減少量和與閥前後的壓差的增加量相當的擾動流量增加量平衡。
简体摘要：本发明提供一种流量控制设备、存储流量控制设备用进程的进程存储介质和流量控制方法，流量控制设备不设置用于检测压力变化的附加传感器，即使在阀的上游产生压力变化，也能够使其影响不表现在阀的下游，从而使流量持续稳定为设置流量值，流量控制设备包括：阀(3)；流量传感器(2)；阀控制部(41)，根据设置流量值与由流量传感器(2)测量出的测量流量值之间的偏差和设置的控制系数，以使偏差变小的方式控制阀；以及控制系数设置部(44)，设置阀控制部的控制系数，在阀(3)的上游产生扰动压力上升时，使与阀的开度的减少量相当的扰动流量减少量和与阀前后的压差的增加量相当的扰动流量增加量平衡。

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