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1. 发明专利

TW201506526A 成像光學系統、具有此類型成像光學系統之用於微影的投射曝光設備以及用於製造結構化組件的方法审中-公开
简体标题：成像光学系统、具有此类型成像光学系统之用于微影的投射曝光设备以及用于制造结构化组件的方法
公开(公告)号：TW201506526A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103136601
申请日：2011-07-29
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：曼漢斯喬根 , 艾波亞歷安卓 , EPPLE, ALEXANDER
IPC分类号： G03F1/22 , G03F1/24
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B17/0663 , G03F7/70233
摘要：本發明揭示一種成像光學系統(7)，具有複數個反射鏡(M1至M8)將物體平面(5)的物體場(4)成像於影像平面(9)的影像場(8)中。該成像光學系統(7)具有光瞳屏蔽。在物體場(4)及影像場(8)間之成像光(3)的光束路徑中的最後一個反射鏡(M8)具有讓成像光(3)通過的通孔(18)。該成像光學系統(7)在物體場(4)及影像場(8)間之成像光(3)的光束路徑中的倒數第二反射鏡(M7)沒有讓成像光(3)通過的通孔。該成像光學系統(7)具有正好八個反射鏡(M1至M8)。結果形成一種成像光學系統，可用以達成較小成像誤差、可管理的生產及成像光的較佳通量的可操縱組合。
简体摘要：本发明揭示一种成像光学系统(7)，具有复数个反射镜(M1至M8)将物体平面(5)的物体场(4)成像于影像平面(9)的影像场(8)中。该成像光学系统(7)具有光瞳屏蔽。在物体场(4)及影像场(8)间之成像光(3)的光束路径中的最后一个反射镜(M8)具有让成像光(3)通过的通孔(18)。该成像光学系统(7)在物体场(4)及影像场(8)间之成像光(3)的光束路径中的倒数第二反射镜(M7)没有让成像光(3)通过的通孔。该成像光学系统(7)具有正好八个反射镜(M1至M8)。结果形成一种成像光学系统，可用以达成较小成像误差、可管理的生产及成像光的较佳通量的可操纵组合。

2. 发明专利

TWI519828B 於微影投射曝光裝置中的光學配置有权
简体标题：于微影投射曝光设备中的光学配置
公开(公告)号：TWI519828B
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW099133064
申请日：2010-09-29
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：斯可派克阿民 , 曼漢斯喬根 , 艾塞特法蘭克 , EISERT, FRANK , 寬印布派崔克 , KWAN, YIM-BUN-PATRICK
IPC分类号： G02B5/08 , G02B5/10 , G02B7/182 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B17/0657

3. 发明专利

TWI539231B 成像光學系統、具有此類型成像光學系統之用於微影的投射曝光設備以及用於製造結構化組件的方法有权
简体标题：成像光学系统、具有此类型成像光学系统之用于微影的投射曝光设备以及用于制造结构化组件的方法
公开(公告)号：TWI539231B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW103136601
申请日：2011-07-29
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：曼漢斯喬根 , 艾波亞歷安卓 , EPPLE, ALEXANDER
IPC分类号： G03F1/22 , G03F1/24
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B17/0663 , G03F7/70233

4. 发明专利

TWI461733B 成像光學系統、具有此類型成像光學系統之用於微影的投射曝光設備以及用於製造結構化組件的方法有权
简体标题：成像光学系统、具有此类型成像光学系统之用于微影的投射曝光设备以及用于制造结构化组件的方法
公开(公告)号：TWI461733B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW100126957
申请日：2011-07-29
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：曼漢斯喬根 , 艾波亞歷安卓 , EPPLE, ALEXANDER
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B17/0663 , G03F7/70233

5. 发明专利

TWI498594B 成像光學構件與包含此類型成像光學構件之用於微影的投影曝光裝置有权
简体标题：成像光学构件与包含此类型成像光学构件之用于微影的投影曝光设备
公开(公告)号：TWI498594B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW099109359
申请日：2010-03-29
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：曼漢斯喬根 , 柴爾納喬漢尼斯 , ZELLNER, JOHANNES , 度度克奧艾倫 , DODOC, AURELIAN , 薩漢坦克勞斯 , ZAHLTEN, CLAUS , 曼凱克里斯多芬 , MENKE, CHRISTOPH , 皮特瑞斯馬可 , PRETORIUS, MARCO , 優里奇威爾漢 , ULRICH, WILHELM , 洛斯托斯基漢斯喬根
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0663 , G02B17/0888

6. 发明专利

TWI451207B 成像光學系統有权
简体标题：成像光学系统
公开(公告)号：TWI451207B
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW100130260
申请日：2011-08-24
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：穆勒勞夫 , 曼漢斯喬根
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： G03F7/702 , G02B17/0657 , G03F7/70233 , G03F7/70275

7. 发明专利

TW201219996A 光學系統 OPTICAL SYSTEM 审中-公开
简体标题：光学系统 OPTICAL SYSTEM
公开(公告)号：TW201219996A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：TW100131369
申请日：2011-08-31
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司
发明人：曼漢斯喬根 , 羅瑞尤瑞奇 , 萊麥可 , 勞夫喬哈尼斯
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70125 , G03F7/70216
摘要：一種用於EUV投射微影之光學系統,包含:照明光學件(4),用於照射在光罩平面(6)中之照明場(5),包含具有複數琢面元件(24)之至少一組合反射鏡(18),用於產生不同光通道,其中利用該些光通道可產生照明場(5)之特定照明設定(25);以及投射光學件(9),用於沿著投射方向(27)以至少一第一遮蔽(30、42)將照明場(5)投射到在影像平面(11)之影像場(10),其中第一遮蔽設置在相對於投射方向(27)之第一位置;以及其中第一遮蔽(30、42)及照明設定(25)彼此調整,使得在第一位置之區域中照明設定(25)之至少一光通道之影像之至少一預定繞射階繞射之强度具有最大强度Imax及極限强度Ilim
简体摘要：一种用于EUV投射微影之光学系统,包含:照明光学件(4),用于照射在光罩平面(6)中之照明场(5),包含具有复数琢面组件(24)之至少一组合反射镜(18),用于产生不同光信道,其中利用该些光信道可产生照明场(5)之特定照明设置(25);以及投射光学件(9),用于沿着投射方向(27)以至少一第一屏蔽(30、42)将照明场(5)投射到在影像平面(11)之影像场(10),其中第一屏蔽设置在相对于投射方向(27)之第一位置;以及其中第一屏蔽(30、42)及照明设置(25)彼此调整,使得在第一位置之区域中照明设置(25)之至少一光信道之影像之至少一预定绕射阶绕射之强度具有最大强度Imax及极限强度Ilim<0.5 Imax,以及移动阶之强度大于极限强度Ilim之区域不重叠第一屏蔽(30、42)之区域。

8. 发明专利

TW201232187A 成像光學系統 IMAGING OPTICAL SYSTEM 审中-公开
简体标题：成像光学系统 IMAGING OPTICAL SYSTEM
公开(公告)号：TW201232187A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100130260
申请日：2011-08-24
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司
发明人：穆勒勞夫 , 曼漢斯喬根
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G03F7/702 , G02B17/0657 , G03F7/70233 , G03F7/70275
摘要：一種用於EUV投射微影的成像光學系統,具有用以成像一物體平面中之一物體場於一影像平面中之一影像場中之複數個鏡。成像光學系統的影像側數値孔徑至少為0.3。成像光學系統具有大於0.40之瞳遮蔽。成像光學系統具有至少為1mm x 10mm的影像場尺寸。使用成像光學系統的結果,使得物體的成像有可能具有高成像品質。
简体摘要：一种用于EUV投射微影的成像光学系统,具有用以成像一物体平面中之一物体场于一影像平面中之一影像场中之复数个镜。成像光学系统的影像侧数値孔径至少为0.3。成像光学系统具有大于0.40之瞳屏蔽。成像光学系统具有至少为1mm x 10mm的影像场尺寸。使用成像光学系统的结果,使得物体的成像有可能具有高成像品质。

9. 发明专利

TW201221997A 成像光學系統以及具有此類型成像光學系統之用於微影的投射曝光設備 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 审中-公开
简体标题：成像光学系统以及具有此类型成像光学系统之用于微影的投射曝光设备 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE
公开(公告)号：TW201221997A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100126957
申请日：2011-07-29
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司
发明人：曼漢斯喬根 , 艾波亞歷安卓
IPC分类号： G02B , G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B17/0663 , G03F7/70233
摘要：本發明揭示一種成像光學系統(7),具有複數個反射鏡(M1至M8)將物體平面(5)的物體場(4)成像於影像平面(9)的影像場(8)中。該成像光學系統(7)具有光瞳屏蔽。在物體場(4)及影像場(8)間之成像光(3)的光束路徑中的最後一個反射鏡(M8)具有讓成像光(3)通過的通孔(18)。該成像光學系統(7)在物體場(4)及影像場(8)間之成像光(3)的光束路徑中的倒數第二反射鏡(M7)沒有讓成像光(3)通過的通孔。該成像光學系統(7)具有正好八個反射鏡(M1至M8)。結果形成一種成像光學系統,可用以達成較小成像誤差、可管理的生產及成像光的較佳通量的可操縱組合。
简体摘要：本发明揭示一种成像光学系统(7),具有复数个反射镜(M1至M8)将物体平面(5)的物体场(4)成像于影像平面(9)的影像场(8)中。该成像光学系统(7)具有光瞳屏蔽。在物体场(4)及影像场(8)间之成像光(3)的光束路径中的最后一个反射镜(M8)具有让成像光(3)通过的通孔(18)。该成像光学系统(7)在物体场(4)及影像场(8)间之成像光(3)的光束路径中的倒数第二反射镜(M7)没有让成像光(3)通过的通孔。该成像光学系统(7)具有正好八个反射镜(M1至M8)。结果形成一种成像光学系统,可用以达成较小成像误差、可管理的生产及成像光的较佳通量的可操纵组合。

10. 发明专利

TW201207443A 於微影投射曝光裝置中的光學配置 OPTICAL ARRANGEMENT IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
简体标题：于微影投射曝光设备中的光学配置 OPTICAL ARRANGEMENT IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
公开(公告)号：TW201207443A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW099133064
申请日：2010-09-29
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司
发明人：斯可派克阿民 , 曼漢斯喬根 , 艾塞特法蘭克 , 寬印布派崔克
IPC分类号： G02B , G03F
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B17/0657
摘要：本發明關於一種於微影投射曝光裝置中之光學配置,包含至少一光學元件(110,210)以及用於光學元件(110,210)之支撐元件(120,220),其中光學元件(110,210)及支撐元件(120,220)利用至少三個解耦元件(131,132,133;231,232,233)連接在一起;以及其中解耦元件(131,132,133;231,232,233)與光學元件(110,210)及支撐元件(120,220)整體地形成。
简体摘要：本发明关于一种于微影投射曝光设备中之光学配置,包含至少一光学组件(110,210)以及用于光学组件(110,210)之支撑组件(120,220),其中光学组件(110,210)及支撑组件(120,220)利用至少三个解耦组件(131,132,133;231,232,233)连接在一起;以及其中解耦组件(131,132,133;231,232,233)与光学组件(110,210)及支撑组件(120,220)整体地形成。

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