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    • 6. 发明专利
    • EUV反射鏡與包含EUV反射鏡之光學系統
    • EUV反射镜与包含EUV反射镜之光学系统
    • TW201447918A
    • 2014-12-16
    • TW103100930
    • 2014-01-10
    • 卡爾蔡司SMT有限公司CARL ZEISS SMT GMBH
    • 斯奇凱坦茲 湯瑪士SCHICKETANZ, THOMAS保羅 漢斯 喬成PAUL, HANS-JOCHEN查塞克 克里斯多夫ZACZEK, CHRISTOPH
    • G21K1/06
    • G03F7/70316B82Y10/00G02B5/0816G02B5/0891G03F7/702G03F7/70958G21K1/062G21K2201/067
    • 本發明揭示一種EUV反射鏡,其包含一基板及塗覆於該基板上的一多層配置,該多層配置對於來自極紫外光範圍(EUV)之波長λ的輻射具有反射效應且包含具有交替層的多個層對,該等交替層包含一高折射率層材料及一低折射率層材料。該多層配置包含:一週期性第一層群組(LG1),其具有第一數目N1>1之第一層對,該等第一層對是配置在該多層配置之輻射入射側附近且具有第一週期厚度P1;一週期性第二層群組(LG2),其具有第二數目N2>1之第二層對,該等第二層對是配置在該第一層群組及該基板之間且具有第二週期厚度P2;及一第三層群組(LG3),其具有第三數目N3之第三層對,該等第三層對是配置在該第一層群組及該第二層群組之間。第一數目N1大於第二數目N2。該第三層群組具有平均第三週期厚度P3,其與平均週期厚度PM=(P1+P2)/2相差週期厚度差ΔP,其中週期厚度差ΔP實質上對應於四分之一波層之光學層厚度λ/4及第三數目N3與cos(AOIM)之乘積的商數,其中AOIM是該多層配置所設計的平均入射角。
    • 本发明揭示一种EUV反射镜,其包含一基板及涂覆于该基板上的一多层配置,该多层配置对于来自极紫外光范围(EUV)之波长λ的辐射具有反射效应且包含具有交替层的多个层对,该等交替层包含一高折射率层材料及一低折射率层材料。该多层配置包含:一周期性第一层群组(LG1),其具有第一数目N1>1之第一层对,该等第一层对是配置在该多层配置之辐射入射侧附近且具有第一周期厚度P1;一周期性第二层群组(LG2),其具有第二数目N2>1之第二层对,该等第二层对是配置在该第一层群组及该基板之间且具有第二周期厚度P2;及一第三层群组(LG3),其具有第三数目N3之第三层对,该等第三层对是配置在该第一层群组及该第二层群组之间。第一数目N1大于第二数目N2。该第三层群组具有平均第三周期厚度P3,其与平均周期厚度PM=(P1+P2)/2相差周期厚度差ΔP,其中周期厚度差ΔP实质上对应于四分之一波层之光学层厚度λ/4及第三数目N3与cos(AOIM)之乘积的商数,其中AOIM是该多层配置所设计的平均入射角。