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1. 发明专利

TWI697029B 基底處理設備和基底處理方法有权
简体标题：基底处理设备和基底处理方法
公开(公告)号：TWI697029B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW108109021
申请日：2019-03-18
申请人：南韓商尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：姜盛晧 , KANG, SUNG HO , 金蒼乭 , KIM, CHANG DOL , 韓星珉 , HAN, SEONG MIN , 金錫允 , KIM, SEOK YUN , 崔聖廈 , CHOI, SUNG HA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/67

2. 发明专利

TWI682429B 基底處理裝置有权
简体标题：基底处理设备
公开(公告)号：TWI682429B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW106144449
申请日：2017-12-18
申请人：南韓商尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：崔聖廈 , CHOI, SUNG HA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/673

3. 发明专利

TW201835968A 基底處理裝置审中-公开
简体标题：基底处理设备
公开(公告)号：TW201835968A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106144449
申请日：2017-12-18
申请人：南韓商尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：崔聖廈 , CHOI, SUNG HA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/673
摘要：本發明提供一種基底處理裝置，並且更具體地說，有關一種能夠阻擋顆粒從基底的下部部分落到下部基底的表面的基底處理裝置。根據示範性實施例的基底處理裝置可包含：基底舟皿，其包含以多級方式連接到多個棒的多個中空板，其中多個基底分別載入於多個中空板上；反應管，其具有容納基底舟皿的容納空間；氣體供應部分，其被配置成從反應管的一側供應處理氣體到反應管中；以及排氣部分，其被配置成從反應管的另一側排出反應管中的處理殘餘物。每個中空板可包含界定垂直通過的中空部分的邊緣部分。
简体摘要：本发明提供一种基底处理设备，并且更具体地说，有关一种能够阻挡颗粒从基底的下部部分落到下部基底的表面的基底处理设备。根据示范性实施例的基底处理设备可包含：基底舟皿，其包含以多级方式连接到多个棒的多个中空板，其中多个基底分别加载于多个中空板上；反应管，其具有容纳基底舟皿的容纳空间；气体供应部分，其被配置成从反应管的一侧供应处理气体到反应管中；以及排气部分，其被配置成从反应管的另一侧排出反应管中的处理残余物。每个中空板可包含界定垂直通过的中空部分的边缘部分。

4. 发明专利

TW201715568A 基底處理設備审中-公开
简体标题：基底处理设备
公开(公告)号：TW201715568A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105121504
申请日：2016-07-07
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄭愚德 , JUNG, WOO DUCK , 崔圭鎭 , CHOI, KYU JIN , 朴松煥 , PARK, SONG HWAN , 韓星珉 , HAN, SEONG MIN , 崔聖廈 , CHOI, SUNG HA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/673
CPC分类号： C23C16/45563 , C23C16/4412 , C23C16/45504 , H01L21/67109 , H01L21/67303 , H01L21/67309
摘要：本發明提供一種基底處理設備，且更確切地說，提供一種可以在多個基底上獨立地執行製程的批量型基底處理設備。所述基底處理設備包含包括多個分割板及多個連接杆的基底舟、內部反應管、氣體供應單元及排氣單元，且將多個基底裝載成與所述分割板分開。
简体摘要：本发明提供一种基底处理设备，且更确切地说，提供一种可以在多个基底上独立地运行制程的批量型基底处理设备。所述基底处理设备包含包括多个分割板及多个连接杆的基底舟、内部反应管、气体供应单元及排气单元，且将多个基底装载成与所述分割板分开。

5. 发明专利

TWI620230B 基底處理設備有权
简体标题：基底处理设备
公开(公告)号：TWI620230B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW105121504
申请日：2016-07-07
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄭愚德 , JUNG, WOO DUCK , 崔圭鎭 , CHOI, KYU JIN , 朴松煥 , PARK, SONG HWAN , 韓星珉 , HAN, SEONG MIN , 崔聖廈 , CHOI, SUNG HA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/673
CPC分类号： C23C16/45563 , C23C16/4412 , C23C16/45504 , H01L21/67109 , H01L21/67303 , H01L21/67309

6. 发明专利

TW201705197A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201705197A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105110177
申请日：2016-03-31
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄭愚德 , JUNG, WOO DUCK , 崔圭鎭 , CHOI, KYU JIN , 朴松煥 , PARK, SONG HWAN , 金勁勳 , KIM, KYOUNG HUN , 韓星珉 , HAN, SEONG MIN , 崔聖廈 , CHOI, SUNG HA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/67
摘要：提供一種基板處理裝置。基板處理裝置包含：腔室，其經配置以提供基板處理空間；處理氣體供應管線，其經配置以將處理氣體供應至腔室中；第一擴散板，其在邊緣部分中具有注入孔，處理氣體經由所述注入孔被注入；基板支撐件，其經安置以面向第一擴散板且經配置以支撐基板；第二擴散板，其安置於第一擴散板與基板支撐件之間且具有多個分佈孔；以及電漿產生單元，其經配置以在第一擴散板與第二擴散板之間的空間中產生電漿。
简体摘要：提供一种基板处理设备。基板处理设备包含：腔室，其经配置以提供基板处理空间；处理气体供应管线，其经配置以将处理气体供应至腔室中；第一扩散板，其在边缘部分中具有注入孔，处理气体经由所述注入孔被注入；基板支撑件，其经安置以面向第一扩散板且经配置以支撑基板；第二扩散板，其安置于第一扩散板与基板支撑件之间且具有多个分布孔；以及等离子产生单元，其经配置以在第一扩散板与第二扩散板之间的空间中产生等离子。

7. 发明专利

TWI634587B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI634587B
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW105110177
申请日：2016-03-31
申请人：尤金科技有限公司 , EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄭愚德 , JUNG, WOO DUCK , 崔圭鎭 , CHOI, KYU JIN , 朴松煥 , PARK, SONG HWAN , 金勁勳 , KIM, KYOUNG HUN , 韓星珉 , HAN, SEONG MIN , 崔聖廈 , CHOI, SUNG HA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/205

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