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1. 发明专利

TWI301126B 苯甲酸的純化方法 A METHOD FOR THE PURIFICATION OF CRUDE BENZOIC ACID 失效
简体标题：苯甲酸的纯化方法 A METHOD FOR THE PURIFICATION OF CRUDE BENZOIC ACID
公开(公告)号：TWI301126B
公开(公告)日：2008-09-21
申请号：TW094121994
申请日：2005-06-29
申请人：南亞塑膠工業股份有限公司 NAN YA PLASTICS CORPORATION
发明人：謝嵩嶽 SHIEH, SUNG-YUEH , 莊榮仁 CHUANG, JUNG-JEN , 黃章鑑 HUANG, ZHANG-JIAN
IPC分类号： C07C
摘要：一種苯甲酸的純化方法,利用沸點高於苯甲酸(benzoic acid)且具有胺基的物質,對以鄰二甲苯(ortho-xylene)為原料進行氧化反應製造酸酐(phthalic anhydride)過程中所得到的苯甲酸中間產物進行熱處理後,再經過蒸餾處理得到高純度的苯甲酸。
简体摘要：一种苯甲酸的纯化方法,利用沸点高于苯甲酸(benzoic acid)且具有胺基的物质,对以邻二甲苯(ortho-xylene)为原料进行氧化反应制造酸酐(phthalic anhydride)过程中所得到的苯甲酸中间产物进行热处理后,再经过蒸馏处理得到高纯度的苯甲酸。

2. 发明专利

TW200607118A 高散熱LED發光元件及其製造方法 LED DEVICE WITH HIGH HEAT DISSIPATION AND ITS MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：高散热LED发光组件及其制造方法 LED DEVICE WITH HIGH HEAT DISSIPATION AND ITS MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200607118A
公开(公告)日：2006-02-16
申请号：TW093123645
申请日：2004-08-06
申请人：南亞塑膠工業股份有限公司 NAN YA PLASTICS CORPORATION
发明人：謝嵩嶽 SHIEH, SUNG-YUEH , 馮殿潤 FUNG, DEIN-RUN , 張紀銘 CHANG, CHI-MING , 楊銘發 YANG, MING-FA
IPC分类号： H01L
摘要：一種高散熱LED發光元件，以散熱粉體與封裝樹脂混合成散熱樹脂，再分別以透明封裝樹脂與散熱封裝樹脂進行LED發光元件之分層散熱封裝，封裝時，LED發光元件的上層發光區，以透明封裝樹脂進行一次封裝，故不影響LED發光元件的發光條件，而LED發光元件的下層散熱區，以散熱封裝樹脂進行多次封裝，使得LED發光元件以高電流點亮時，所產生的熱能可經由此下層散熱區向外傳導出，可大幅改善LED發光元件點亮時的熱聚集問題，增加LED發光元件的發光效率；同時，本發明的製造方法，適用於支架型LED發光元件，量產時不須改變習知支架型LED發光元件的原有製程及機台，僅須在相同生產條件下，多進行一次散熱封裝樹脂的灌膠程序，就可製造本發明之高散熱LED發光元件。
简体摘要：一种高散热LED发光组件，以散热粉体与封装树脂混合成散热树脂，再分别以透明封装树脂与散热封装树脂进行LED发光组件之分层散热封装，封装时，LED发光组件的上层发光区，以透明封装树脂进行一次封装，故不影响LED发光组件的发光条件，而LED发光组件的下层散热区，以散热封装树脂进行多次封装，使得LED发光组件以高电流点亮时，所产生的热能可经由此下层散热区向外传导出，可大幅改善LED发光组件点亮时的热聚集问题，增加LED发光组件的发光效率；同时，本发明的制造方法，适用于支架型LED发光组件，量产时不须改变习知支架型LED发光组件的原有制程及机台，仅须在相同生产条件下，多进行一次散热封装树脂的灌胶进程，就可制造本发明之高散热LED发光组件。

3. 发明专利

TWI305216B 光學聚酯薄膜 OPTICAL-USE POLYESTER FILM 有权
简体标题：光学聚酯薄膜 OPTICAL-USE POLYESTER FILM
公开(公告)号：TWI305216B
公开(公告)日：2009-01-11
申请号：TW095128610
申请日：2006-08-04
申请人：南亞塑膠工業股份有限公司 NAN YA PLASTICS CORPORATION
发明人：謝嵩嶽 SHIEH, SUNG-YUEH , 馮殿潤 FUNG, DEIN-RUN , 黃英德 HUANG, YING-TE , 林昭賢 LIN, CHAO-HSIEN
IPC分类号： C08L , B32B , C08J , G02B
摘要：本發明係有關一種光學聚酯薄膜用的水性塗佈液,包括2-40wt%樹脂、0.05-30wt%含矽化合物/界面活性劑/高分子聚合物處理劑經改質過的填充粒子之混合液及0.05-10wt%添加劑,其中之樹脂組成為:
a.20-50wt%的成分A(相對於塗層),其成分A是Polyester樹脂;
b.10-40wt%的成分B(相對於塗層),其成分B是三聚氰胺樹脂或三聚氰胺變性樹脂;
c.20-80wt%的成分C(相對於塗層),其成分C可以是壓克力樹脂(如Acrylate或Methacrylate樹脂)。
塗佈於聚酯薄膜後所構成之光學聚酯薄膜,具有高透明性、低霧度、優良的接著性及滑性等特性,適合應用於光學用途之基材如LCD用的擴散膜、增亮膜等。
简体摘要：本发明系有关一种光学聚酯薄膜用的水性涂布液,包括2-40wt%树脂、0.05-30wt%含硅化合物/界面活性剂/高分子聚合物处理剂经改质过的填充粒子之混合液及0.05-10wt%添加剂,其中之树脂组成为: a.20-50wt%的成分A(相对于涂层),其成分A是Polyester树脂; b.10-40wt%的成分B(相对于涂层),其成分B是三聚氰胺树脂或三聚氰胺变性树脂; c.20-80wt%的成分C(相对于涂层),其成分C可以是压克力树脂(如Acrylate或Methacrylate树脂)。涂布于聚酯薄膜后所构成之光学聚酯薄膜,具有高透明性、低雾度、优良的接着性及滑性等特性,适合应用于光学用途之基材如LCD用的扩散膜、增亮膜等。

4. 发明专利

TWI307692B 一種含環己烷多羧酸酯化物的可塑劑及其製造方法 METHOD OF PREPARING CYCLOHEXANEPOLYCARBOXYLIC ESTER AS PLASTICIZER 有权
简体标题：一种含环己烷多羧酸酯化物的可塑剂及其制造方法 METHOD OF PREPARING CYCLOHEXANEPOLYCARBOXYLIC ESTER AS PLASTICIZER
公开(公告)号：TWI307692B
公开(公告)日：2009-03-21
申请号：TW095139959
申请日：2006-10-30
申请人：南亞塑膠工業股份有限公司 NAN YA PLASTICS CORPORATION
发明人：謝嵩嶽 SHIEH, SUNG-YUEH , 馮殿潤 FUNG, DEIN-RUN , 許漢卿 HSU, HAN-CHING , 劉陽塗 LIU, YANG-TU , 林訓民 LIN, HSUN-MIN
IPC分类号： C07C
摘要：一種含環己烷多羧酸酯化物的可塑劑製造方法,不含酸原料,且具備有效縮短反應時間的優點,以單一步驟高溫酯化法將環己烷多羧酸類及其衍生物與單元醇進行酯化反應,反應條件為環己烷多羧酸類及其衍生物與單元醇、以錫、鈦等金屬觸媒或無機酸同時入料,以200~250℃進行單一步驟高溫酯化反應,製備成之環己烷多羧酸酯化物可作為可塑劑,且對生物體及環境不會產生危害。
简体摘要：一种含环己烷多羧酸酯化物的可塑剂制造方法,不含酸原料,且具备有效缩短反应时间的优点,以单一步骤高温酯化法将环己烷多羧酸类及其衍生物与单元醇进行酯化反应,反应条件为环己烷多羧酸类及其衍生物与单元醇、以锡、钛等金属触媒或无机酸同时入料,以200~250℃进行单一步骤高温酯化反应,制备成之环己烷多羧酸酯化物可作为可塑剂,且对生物体及环境不会产生危害。

5. 发明专利

TW200800598A 偏光片用表面保護膜 SURFACE PROTECTION FILM FOR POLARIZER FILM 失效
简体标题：偏光片用表面保护膜 SURFACE PROTECTION FILM FOR POLARIZER FILM
公开(公告)号：TW200800598A
公开(公告)日：2008-01-01
申请号：TW095122242
申请日：2006-06-21
申请人：南亞塑膠工業股份有限公司 NAN YA PLASTICS CORPORATION
发明人：謝嵩嶽 SHIEH, SUNG-YUEH , 馮殿潤 FUNG, DEIN-RUN , 張紀銘 CHANG, CHI-MING , 曹俊哲 TSAO, CHUN-CHE , 顏世勳 YEN, SHIH-HSUN
IPC分类号： B32B , H05F , G02F
摘要：提供一種用以保護偏光片表面的薄膜,此薄膜表面有抗靜電塗佈層,其塗佈液包括聚吩、界面活性劑、黏結物樹脂及水。根據本發明,該保護膜可以在偏光片表面,具有優異的抗靜電性、透光率及防污撥水性,防止在組裝及配運過程中,造成粉塵沾染、靜電累積及水氣侵入,而影響偏光片的品質。
简体摘要：提供一种用以保护偏光片表面的薄膜,此薄膜表面有抗静电涂布层,其涂布液包括聚吩、界面活性剂、黏结物树脂及水。根据本发明,该保护膜可以在偏光片表面,具有优异的抗静电性、透光率及防污拨水性,防止在组装及配运过程中,造成粉尘沾染、静电累积及水汽侵入,而影响偏光片的品质。

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