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1. 发明专利

TWI597412B 具有經紫外光（ＵＶ）處理低發射率塗層的窗片及製造該窗片的方法有权
简体标题：具有经紫外光（ＵＶ）处理低发射率涂层的窗片及制造该窗片的方法
公开(公告)号：TWI597412B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW102119116
申请日：2013-05-30
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：克拉斯諾夫艾力克斯 , KRASNOV, ALEXEY , 伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 丹鮑爾威廉 , DEN BOER, WILLEM , 歐康諾凱文 , O'CONNOR, KEVIN
IPC分类号： E06B3/67 , C03C17/36
CPC分类号： C03C17/36 , C03C17/3644 , C03C17/366 , C03C2217/74 , C03C2218/32

2. 发明专利

TWI613165B 具有低輻射塗層且該塗層包括具其他金屬之含氧化鋅層的經塗覆物件有权
简体标题：具有低辐射涂层且该涂层包括具其他金属之含氧化锌层的经涂覆对象
公开(公告)号：TWI613165B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW102140133
申请日：2013-11-05
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 博伊斯布蘭特 , BOYCE, BRENT , 萊姆讓馬克 , LEMMER, JEAN-MARC , 法蘭克馬庫斯 , FRANK, MARCUS , 徐勇力 , XU, YONGLI
IPC分类号： C03C17/36 , B05D5/06 , B05D3/02 , G02B1/10
CPC分类号： C03C17/366 , C03C17/3429 , C03C17/3435 , C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/3681 , C03C2217/216 , C03C2217/22 , C03C2217/228 , C03C2217/24 , C03C2217/256 , C03C2217/281

3. 发明专利

TW201422552A 具有低輻射塗層且該塗層包括具其他金屬之含氧化鋅層的經塗覆物件审中-公开
简体标题：具有低辐射涂层且该涂层包括具其他金属之含氧化锌层的经涂覆对象
公开(公告)号：TW201422552A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102140133
申请日：2013-11-05
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 博伊斯布蘭特 , BOYCE, BRENT , 萊姆讓馬克 , LEMMER, JEAN-MARC , 法蘭克馬庫斯 , FRANK, MARCUS , 徐勇力 , XU, YONGLI
IPC分类号： C03C17/36 , B05D5/06 , B05D3/02 , G02B1/10
CPC分类号： C03C17/366 , C03C17/3429 , C03C17/3435 , C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/3681 , C03C2217/216 , C03C2217/22 , C03C2217/228 , C03C2217/24 , C03C2217/256 , C03C2217/281
摘要：一種經塗覆物件包含一塗層，諸如，一低輻射(低-E)塗層，其係由一基材(例如，玻璃基材)支撐。此塗層包含至少一含有以其它金屬摻雜之氧化鋅之介電層。此塗層亦可含有一或多個紅外線(IR)反射層，其係或含有諸如銀等之材料，用於反射至少一些紅外線輻射。於某些例示實施例，經塗覆物件可經熱處理(例如，熱回火、熱彎曲，及/或熱強化)。依據本發明某些例示實施例之經塗覆物件可用於窗的惰況下，包含建築物用之單片窗、建築物用之IG窗等。
简体摘要：一种经涂覆对象包含一涂层，诸如，一低辐射(低-E)涂层，其系由一基材(例如，玻璃基材)支撑。此涂层包含至少一含有以其它金属掺杂之氧化锌之介电层。此涂层亦可含有一或多个红外线(IR)反射层，其系或含有诸如银等之材料，用于反射至少一些红外线辐射。于某些例示实施例，经涂覆对象可经热处理(例如，热回火、热弯曲，及/或热强化)。依据本发明某些例示实施例之经涂覆对象可用于窗的惰况下，包含建筑物用之单片窗、建筑物用之IG窗等。

4. 发明专利

TWI597516B 經塗覆物件及其製造方法有权
简体标题：经涂覆对象及其制造方法
公开(公告)号：TWI597516B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW102135551
申请日：2013-10-01
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：維勞姆法蘭西斯 , WUILLAUME, FRANCIS , 伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 克萊林阿方索 , KRELING, AFONSO , 博伊斯布蘭特 , BOYCE, BRENT
IPC分类号： G02B1/10 , C03C17/06 , B32B15/04
CPC分类号： C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C23C28/321 , C23C28/3455 , C23C30/00 , G02B1/10 , G02B5/0875 , G02B5/208 , G02B5/26 , Y10T428/2495

5. 发明专利

TW201431672A 具有低輻射塗層且該塗層包括具其他金屬之含氧化錫層的經塗覆物件审中-公开
简体标题：具有低辐射涂层且该涂层包括具其他金属之含氧化锡层的经涂覆对象
公开(公告)号：TW201431672A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW102140121
申请日：2013-11-05
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 博伊斯布蘭特 , BOYCE, BRENT , 萊姆讓馬克 , LEMMER, JEAN-MARC , 法蘭克馬庫斯 , FRANK, MARCUS , 徐勇力 , XU, YONGLI
IPC分类号： B32B15/00 , C03C17/36 , C01G19/02 , E06B3/67
CPC分类号： C03C17/3618 , C03C17/3417 , C03C17/3429 , C03C17/3435 , C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3642 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C17/3689 , C03C2217/211 , C03C2217/216 , C03C2217/219 , C03C2217/23 , C03C2217/256
摘要：一種經塗覆物件包含一塗層，諸如，一低輻射(低-E)塗層，其係由一基材(例如，玻璃基材)支撐。此塗層包含至少一含有以其它金屬摻雜之氧化錫之介電層。此塗層亦可含有一或多個紅外線(IR)反射層，其係或含有諸如銀等之材料，用於反射至少一些紅外線輻射。於某些例示實施例，經塗覆物件可經熱處理(例如，熱回火、熱彎曲，及/或熱強化)。依據本發明某些例示實施例之經塗覆物件可用於窗的惰況下，包含建築物用之單片窗、建築物用之IG窗等。
简体摘要：一种经涂覆对象包含一涂层，诸如，一低辐射(低-E)涂层，其系由一基材(例如，玻璃基材)支撑。此涂层包含至少一含有以其它金属掺杂之氧化锡之介电层。此涂层亦可含有一或多个红外线(IR)反射层，其系或含有诸如银等之材料，用于反射至少一些红外线辐射。于某些例示实施例，经涂覆对象可经热处理(例如，热回火、热弯曲，及/或热强化)。依据本发明某些例示实施例之经涂覆对象可用于窗的惰况下，包含建筑物用之单片窗、建筑物用之IG窗等。

6. 发明专利

TW201404997A 具有經紫外光（ＵＶ）處理低發射率塗層的窗片及製造該窗片的方法审中-公开
简体标题：具有经紫外光（ＵＶ）处理低发射率涂层的窗片及制造该窗片的方法
公开(公告)号：TW201404997A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102119116
申请日：2013-05-30
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：克拉斯諾夫艾力克斯 , KRASNOV, ALEXEY , 伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 丹鮑爾威廉 , DEN BOER, WILLEM , 歐康諾凱文 , O'CONNOR, KEVIN
IPC分类号： E06B3/67 , C03C17/36
CPC分类号： C03C17/36 , C03C17/3644 , C03C17/366 , C03C2217/74 , C03C2218/32
摘要：本發明之某些實施例係有關於一用於窗片中之經塗覆之物件，該經塗覆之物件包括由一基材(例如，玻璃基材)所支撐之低發射率(低E)塗層，其中該低E塗層係暴露至紫外光(UV)輻射下，以改良該塗層之電性、光學級/或熱阻隔性質及因此改良該經塗覆之物件之電性、光學級/或熱阻隔性質。該低E塗層包括至少一紅外光(IR)反射層或包括位於且直接與一接觸/晶種層所接觸的銀，該接觸/晶種層為金屬氧化物諸如氧化鋅及/或錫酸鋅之接觸/晶種層或包含金屬氧化物諸如氧化鋅及/或錫酸鋅之接觸/晶種層。將該低E塗層暴露至UV輻射，例如，自UV燈及/或UV雷射所放射者，得以選擇性加熱該接觸/晶種層，該接觸/晶種層反過來將該熱能轉移至鄰近的IR反射層。該含銀層之加熱改良該銀層之電性、光學及/或熱阻隔性質。該經UV處理之經塗覆物件，具有改良之性質，可被用於單片或絕緣玻璃(IG)窗口單元之中。
简体摘要：本发明之某些实施例系有关于一用于窗片中之经涂覆之对象，该经涂覆之对象包括由一基材(例如，玻璃基材)所支撑之低发射率(低E)涂层，其中该低E涂层系暴露至紫外光(UV)辐射下，以改良该涂层之电性、光学级/或热阻隔性质及因此改良该经涂覆之对象之电性、光学级/或热阻隔性质。该低E涂层包括至少一红外光(IR)反射层或包括位于且直接与一接触/晶种层所接触的银，该接触/晶种层为金属氧化物诸如氧化锌及/或锡酸锌之接触/晶种层或包含金属氧化物诸如氧化锌及/或锡酸锌之接触/晶种层。将该低E涂层暴露至UV辐射，例如，自UV灯及/或UV激光所放射者，得以选择性加热该接触/晶种层，该接触/晶种层反过来将该热能转移至邻近的IR反射层。该含银层之加热改良该银层之电性、光学及/或热阻隔性质。该经UV处理之经涂覆对象，具有改良之性质，可被用於单片或绝缘玻璃(IG)窗口单元之中。

7. 发明专利

TWI613069B 具有低輻射塗層且該塗層包括具其他金屬之含氧化錫層的經塗覆物件有权
简体标题：具有低辐射涂层且该涂层包括具其他金属之含氧化锡层的经涂覆对象
公开(公告)号：TWI613069B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW102140121
申请日：2013-11-05
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 博伊斯布蘭特 , BOYCE, BRENT , 萊姆讓馬克 , LEMMER, JEAN-MARC , 法蘭克馬庫斯 , FRANK, MARCUS , 徐勇力 , XU, YONGLI
IPC分类号： B32B15/00 , C03C17/36 , C01G19/02 , E06B3/67
CPC分类号： C03C17/3618 , C03C17/3417 , C03C17/3429 , C03C17/3435 , C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3642 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C17/3689 , C03C2217/211 , C03C2217/216 , C03C2217/219 , C03C2217/23 , C03C2217/256

8. 发明专利

TW201418755A 具低可見光穿透度之具有低發射率塗層的經塗覆物件审中-公开
简体标题：具低可见光穿透度之具有低发射率涂层的经涂覆对象
公开(公告)号：TW201418755A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102135551
申请日：2013-10-01
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：維勞姆法蘭西斯 , WUILLAUME, FRANCIS , 伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 克萊林阿方索 , KRELING, AFONSO , 博伊斯布蘭特 , BOYCE, BRENT
IPC分类号： G02B1/10 , C03C17/06
CPC分类号： C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C23C28/321 , C23C28/3455 , C23C30/00 , G02B1/10 , G02B5/0875 , G02B5/208 , G02B5/26 , Y10T428/2495
摘要：本發明關於一包括一低發射率(低-E)塗層之經塗覆物件。在某些示例性實施例中，該低-E塗層係提供於一基板上(例如，玻璃基板)並至少包括由接觸層(例如，以NiCr為基礎之層)與一為一諸如氮化矽之材料或包含一諸如氮化矽之材料的介電層所間隔開之第一及第二紅外線(IR)反射層(例如，以銀為基礎之層)。在某些示例性實施例中，該經塗覆物件具有低可見光穿透度(例如，不大於50%，較佳不大於約40%，及最佳不大於約39%)。
简体摘要：本发明关于一包括一低发射率(低-E)涂层之经涂覆对象。在某些示例性实施例中，该低-E涂层系提供于一基板上(例如，玻璃基板)并至少包括由接触层(例如，以NiCr为基础之层)与一为一诸如氮化硅之材料或包含一诸如氮化硅之材料的介电层所间隔开之第一及第二红外线(IR)反射层(例如，以银为基础之层)。在某些示例性实施例中，该经涂覆对象具有低可见光穿透度(例如，不大于50%，较佳不大于约40%，及最佳不大于约39%)。

9. 发明专利

TW201307950A 平坦圖案化透明接點、具有平坦圖案化透明接點之裝置及／或其製造方法（二）审中-公开
简体标题：平坦图案化透明接点、具有平坦图案化透明接点之设备及／或其制造方法（二）
公开(公告)号：TW201307950A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101122051
申请日：2012-06-20
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：克拉斯諾夫艾力克斯 , KRASNOV, ALEXEY , 伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 丹鮑爾威廉 , DEN BOER, WILLEM
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1343
CPC分类号： H01L51/442 , C03C17/36 , C03C17/3644 , C03C17/3655 , C03C2218/322 , G06F3/044 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , H01L31/1884 , H01L33/405 , H01L51/5215 , H01L51/5231 , H05B33/22 , Y02E10/549 , Y02P70/521
摘要：特定範例係有關經改良之用於製造圖案化實質地透明接點膜之方法、以及由如是方法所製造之接點膜。在特定案例中，接點膜可為圖案化及實質地平坦。因此，接點膜可被圖案化而不從層及/或膜刻意移除任何材料，諸如光微影術所可能需要的情形。在特定範例實施例中，一包含至少兩層之氧交換系統可沉積在一基材上，且層可選擇性曝露於熱量及/或能量以利於氧離子或原子從具有較高生成焓(enthalpy of formation)之層轉移至一具有較低生成焓之層。在特定案例中，氧轉移係可准許改變膜的選擇性部分之傳導率。這可有利地導致一相對於傳導率及/或電阻率被圖案化之平坦接點膜。
简体摘要：特定范例系有关经改良之用于制造图案化实质地透明接点膜之方法、以及由如是方法所制造之接点膜。在特定案例中，接点膜可为图案化及实质地平坦。因此，接点膜可被图案化而不从层及/或膜刻意移除任何材料，诸如光微影术所可能需要的情形。在特定范例实施例中，一包含至少两层之氧交换系统可沉积在一基材上，且层可选择性曝露于热量及/或能量以利于氧离子或原子从具有较高生成焓(enthalpy of formation)之层转移至一具有较低生成焓之层。在特定案例中，氧转移系可准许改变膜的选择性部分之传导率。这可有利地导致一相对于传导率及/或电阻率被图案化之平坦接点膜。

10. 发明专利

TW201305699A 平坦圖案化透明接點、具有平坦圖案化透明接點之裝置及／或其製造方法（一）审中-公开
简体标题：平坦图案化透明接点、具有平坦图案化透明接点之设备及／或其制造方法（一）
公开(公告)号：TW201305699A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101122050
申请日：2012-06-20
申请人：加爾汀工業公司 , GUARDIAN INDUSTRIES CORP.
发明人：克拉斯諾夫艾力克斯 , KRASNOV, ALEXEY , 伊姆倫穆罕默德 , IMRAN, MUHAMMAD , 丹鮑爾威廉 , DEN BOER, WILLEM
IPC分类号： G02F1/1343 , H01L21/283 , G02F1/133
CPC分类号： H01L51/5215 , C03C17/3423 , C03C2218/324 , C03C2218/34 , G02F1/13439 , G06F3/044 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , H01L31/022466 , H01L31/022475 , H01L31/1884 , H01L51/442 , H01L51/5231 , H01L2933/0016 , Y02E10/549
摘要：特定範例係有關經改良之用於製造圖案化實質地透明接點膜之方法、以及由如是方法所製造之接點膜。在特定案例中，接點膜可為圖案化及實質地平坦。因此，接點膜可被圖案化而不從層及/或膜刻意移除任何材料，諸如光微影術所可能需要的情形。在特定範例實施例中，一包含至少兩層之氧交換系統可沉積在一基材上，且層可選擇性曝露於熱量及/或能量以利於氧離子或原子從具有較高生成焓(enthalpy of formation)之層轉移至一具有較低生成焓之層。在特定案例中，氧轉移係可准許改變膜的選擇性部分之傳導率。這可有利地導致一相對於傳導率及/或電阻率被圖案化之平坦接點膜。
简体摘要：特定范例系有关经改良之用于制造图案化实质地透明接点膜之方法、以及由如是方法所制造之接点膜。在特定案例中，接点膜可为图案化及实质地平坦。因此，接点膜可被图案化而不从层及/或膜刻意移除任何材料，诸如光微影术所可能需要的情形。在特定范例实施例中，一包含至少两层之氧交换系统可沉积在一基材上，且层可选择性曝露于热量及/或能量以利于氧离子或原子从具有较高生成焓(enthalpy of formation)之层转移至一具有较低生成焓之层。在特定案例中，氧转移系可准许改变膜的选择性部分之传导率。这可有利地导致一相对于传导率及/或电阻率被图案化之平坦接点膜。

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