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1. 发明专利

TWI620833B 捲取成膜裝置有权
简体标题：卷取成膜设备
公开(公告)号：TWI620833B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW102118338
申请日：2013-05-24
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：佐佐木康裕 , SASAKI, YASUHIRO , 加納滿 , KANO, MITSURU
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： B05B13/0221 , B65H20/02 , B65H2301/51145 , C23C14/562 , C23C16/45551 , C23C16/545

3. 发明专利

TW201609427A 積層體及其製造方法、以及阻氣性薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：积层体及其制造方法、以及阻气性薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201609427A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104124469
申请日：2015-07-29
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：小山浩志 , KOYAMA, HIROSHI , 加納滿 , KANO, MITSURU , 佐藤盡 , SATO, JIN
IPC分类号： B32B9/00 , C09K3/00 , C23C16/44
CPC分类号： C23C16/45553 , B32B7/10 , B32B9/00 , B32B27/06 , C23C14/10 , C23C14/20 , C23C16/0245 , C23C16/0272 , C23C16/403 , C23C16/45555
摘要：本發明之積層體，其具有：基材(11)，係由高分子材料所構成；底塗層(12)，係配置在上述基材(11)之外表面(11a)之至少一部分且由包含具有官能基之無機物質的無機材料所構成；以及原子層沉積膜(13)：係以包覆上述底塗層(12)之外表面(12a)的方式配置，含有成為成膜原料之前驅物的同時，位於上述底塗層(12)之外表面(12a)的上述前驅物與上述官能基結合而成。
简体摘要：本发明之积层体，其具有：基材(11)，系由高分子材料所构成；底涂层(12)，系配置在上述基材(11)之外表面(11a)之至少一部分且由包含具有官能基之无机物质的无机材料所构成；以及原子层沉积膜(13)：系以包复上述底涂层(12)之外表面(12a)的方式配置，含有成为成膜原料之前驱物的同时，位于上述底涂层(12)之外表面(12a)的上述前驱物与上述官能基结合而成。

4. 发明专利

TW201422446A 積層體、阻氣薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：积层体、阻气薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201422446A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102137478
申请日：2013-10-17
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：佐藤盡 , SATO, JIN , 加納滿 , KANO, MITSURU
IPC分类号： B32B9/00 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45525 , B05D3/144 , C08J7/045 , C08J2367/02 , C08J2400/10 , C08J2400/104 , C08J2400/106 , C08L2201/14 , C23C16/02 , C23C16/45529 , C23C16/50
摘要：一種積層體(1)，其具備：基材(2)；底塗層(3)，其形成於該基材(2)外面之至少一部分，含有具有官能基之有機高分子，且形成膜狀或薄膜狀；及原子層堆積膜(4)，其含有成為原料之先質(6)，且以覆蓋該底塗層(3)表面的方式來予以形成，該先質(6)之至少一部分鍵結於該官能基；其中，具備該基材(2)與該底塗層(3)之層狀薄膜的線膨脹係數為1.0×10-5/K以上8.0×10-5/K以下。
简体摘要：一种积层体(1)，其具备：基材(2)；底涂层(3)，其形成于该基材(2)外面之至少一部分，含有具有官能基之有机高分子，且形成膜状或薄膜状；及原子层堆积膜(4)，其含有成为原料之先质(6)，且以覆盖该底涂层(3)表面的方式来予以形成，该先质(6)之至少一部分键结于该官能基；其中，具备该基材(2)与该底涂层(3)之层状薄膜的线膨胀系数为1.0×10-5/K以上8.0×10-5/K以下。

5. 发明专利

TW201323226A 積層體、阻氣薄膜、積層體之製造方法及積層體製造裝置审中-公开
简体标题：积层体、阻气薄膜、积层体之制造方法及积层体制造设备
公开(公告)号：TW201323226A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101127103
申请日：2012-07-27
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：吉原俊昭 , YOSHIHARA, TOSHIAKI , 黑木恭子 , KUROKI, KYOKO , 加納滿 , KANO, MITSURU , 佐藤尽 , SATO, JIN
IPC分类号： B32B9/00 , C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/513
CPC分类号： C23C16/458 , C23C16/403 , C23C16/45544 , C23C16/45555 , C23C16/545 , C23C16/56 , Y10T428/2495
摘要：本發明之積層體，其特徵為具備：基材(2)、沿著基材(2)之外面所形成的原子層堆積膜(4)、及利用較原子層堆積膜(4)之機械強度為高的膜被覆原子層堆積膜(4)之面塗層(5)。
简体摘要：本发明之积层体，其特征为具备：基材(2)、沿着基材(2)之外面所形成的原子层堆积膜(4)、及利用较原子层堆积膜(4)之机械强度为高的膜被覆原子层堆积膜(4)之面涂层(5)。

6. 发明专利

TWI643757B 積層體、障壁膜、及彼等之製造方法有权
简体标题：积层体、障壁膜、及彼等之制造方法
公开(公告)号：TWI643757B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW103111165
申请日：2014-03-26
申请人：日商凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：小山浩志 , KOYAMA, HIROSHI , 佐藤盡 , SATO, JIN , 加納滿 , KANO, MITSURU
IPC分类号： B32B9/04 , B32B27/30 , B32B7/10 , B32B37/14

7. 发明专利

TW201408815A 捲取成模裝置审中-公开
简体标题：卷取成模设备
公开(公告)号：TW201408815A
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW102118338
申请日：2013-05-24
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：佐佐木康裕 , SASAKI, YASUHIRO , 加納滿 , KANO, MITSURU
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： B05B13/0221 , B65H20/02 , B65H2301/51145 , C23C14/562 , C23C16/45551 , C23C16/545
摘要：本發明之捲取成膜裝置，係具備：第一真空氣室，第一前驅物係導入其中；第二真空氣室，第二前驅物係導入其中；第三真空氣室，用以沖洗前述第一前驅物及前述第二前驅物的沖淨氣體係導入其中；及移送滾筒部，具有一對滾筒對，用以將可捲取之基材移送到前述第一真空氣室、前述第二真空氣室、及前述第三真空氣室，並在前述基材之厚度方向挾持前述基材，且該滾筒對具有第1滾筒及第2滾筒，前述第1滾筒及前述第2滾筒中，至少一方的外周面形成有凹凸形狀，而藉由使用前述移送滾筒部來使前述基材往返於前述第一真空氣室及前述第二真空氣室，使原子層沉積於前述基材的表面以形成原子層沉積膜。
简体摘要：本发明之卷取成膜设备，系具备：第一真空气室，第一前驱物系导入其中；第二真空气室，第二前驱物系导入其中；第三真空气室，用以冲洗前述第一前驱物及前述第二前驱物的冲净气体系导入其中；及移送滚筒部，具有一对滚筒对，用以将可卷取之基材移送到前述第一真空气室、前述第二真空气室、及前述第三真空气室，并在前述基材之厚度方向挟持前述基材，且该滚筒对具有第1滚筒及第2滚筒，前述第1滚筒及前述第2滚筒中，至少一方的外周面形成有凹凸形状，而借由使用前述移送滚筒部来使前述基材往返于前述第一真空气室及前述第二真空气室，使原子层沉积于前述基材的表面以形成原子层沉积膜。

8. 发明专利

TW201315601A 積層體、阻氣薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：积层体、阻气薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201315601A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：TW101127105
申请日：2012-07-27
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：加納滿 , KANO, MITSURU , 佐藤盡 , SATO, JIN , 吉原俊昭 , YOSHIHARA, TOSHIAKI , 今真人 , KON, MASATO
IPC分类号： B32B33/00 , B32B7/10 , B32B5/14
CPC分类号： C23C16/403 , B05D3/007 , B05D3/107 , B05D3/141 , B05D3/145 , B05D3/148 , B32B7/04 , C08K3/01 , C08K3/013 , C09J201/02 , C09J201/025 , C09J201/06 , C09J201/08 , C09J2400/10 , C09J2400/22 , C23C16/02 , C23C16/0227 , C23C16/0245 , C23C16/0272 , C23C16/04 , C23C16/405 , C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/45525 , C23C16/45555 , C23C28/00 , C23C28/042 , Y10T428/25 , Y10T428/251 , Y10T428/258 , Y10T428/259 , Y10T428/31562 , Y10T428/31721 , Y10T428/31757
摘要：本發明之積層體(1)係具備：基材(2)、在基材(2)之外面的至少一部分所形成的膜狀或薄膜狀之底塗層(3,103)、底塗層(3,103)之厚度方向雙面之中與基材(2)連接面的相反側面上所形成的原子層堆積膜(4)；原子層堆積膜(4)之先質的至少一部分係鍵結於底塗層(3,103)，原子層堆積膜(4)係膜狀地形成被覆底塗層(3,103)。
简体摘要：本发明之积层体(1)系具备：基材(2)、在基材(2)之外面的至少一部分所形成的膜状或薄膜状之底涂层(3,103)、底涂层(3,103)之厚度方向双面之中与基材(2)连接面的相反侧面上所形成的原子层堆积膜(4)；原子层堆积膜(4)之先质的至少一部分系键结于底涂层(3,103)，原子层堆积膜(4)系膜状地形成被覆底涂层(3,103)。

9. 发明专利

TWI592310B 積層體、阻氣薄膜及其製造方法有权
简体标题：积层体、阻气薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TWI592310B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW102137478
申请日：2013-10-17
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：佐藤盡 , SATO, JIN , 加納滿 , KANO, MITSURU
IPC分类号： B32B9/00 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45525 , B05D3/144 , C08J7/045 , C08J2367/02 , C08J2400/10 , C08J2400/104 , C08J2400/106 , C08L2201/14 , C23C16/02 , C23C16/45529 , C23C16/50

10. 发明专利

TWI590951B 積層體、阻氣薄膜、積層體之製造方法及積層體製造裝置有权
简体标题：积层体、阻气薄膜、积层体之制造方法及积层体制造设备
公开(公告)号：TWI590951B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW101127103
申请日：2012-07-27
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：吉原俊昭 , YOSHIHARA, TOSHIAKI , 黑木恭子 , KUROKI, KYOKO , 加納滿 , KANO, MITSURU , 佐藤尽 , SATO, JIN
IPC分类号： B32B9/00 , C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/513
CPC分类号： C23C16/458 , C23C16/403 , C23C16/45544 , C23C16/45555 , C23C16/545 , C23C16/56 , Y10T428/2495

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