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1. 发明专利

TW439017B 光蝕刻用薄膜及其製備方法失效
简体标题：光蚀刻用薄膜及其制备方法
公开(公告)号：TW439017B
公开(公告)日：2001-06-07
申请号：TW083111239
申请日：1994-12-02
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人： 田裕一 , 川上聰 , 日崎亨 , 永田愛彥 , 田周 , 久保田芳宏
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62 , Y10T428/3154 , Y10T428/31544
摘要：本發明揭示一框架支撐薄膜，其為一組合體由一硬框及一與框架的一端表面以一不鬆弛的方式固接之透明塑膠膜，用於諸如ISI及液晶顯示板等精細電子元件之製造上的光石印刷定形工作所用的光罩之防塵保護。框架支撐薄膜以一具有基本上較形成薄膜的聚合樹脂為低的轉化溫度之玻璃的固定將框架與塑膠接合且固合工作在一較固定之玻璃轉化溫度為高但較薄膜之聚合樹脂者為低之溫度下實施以使不需產生任何不利影響諸如扭曲及皺摺形狀於樹脂膜而可在框架及樹脂膜之間有優異的固合為。
简体摘要：本发明揭示一框架支撑薄膜，其为一组合体由一硬框及一与框架的一端表面以一不松弛的方式固接之透明塑胶膜，用于诸如ISI及液晶显示板等精细电子组件之制造上的光石印刷定形工作所用的光罩之防尘保护。框架支撑薄膜以一具有基本上较形成薄膜的聚合树脂为低的转化温度之玻璃的固定将框架与塑胶接合且固合工作在一较固定之玻璃转化温度为高但较薄膜之聚合树脂者为低之温度下实施以使不需产生任何不利影响诸如扭曲及皱折形状于树脂膜而可在框架及树脂膜之间有优异的固合为。

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