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1. 发明专利

TW201116222A 足弓矯正器鞋組及穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內部足底壓力平衡之微調方法审中-公开
简体标题：足弓矫正器鞋组及穿着足弓矫正器鞋组时的鞋内部足底压力平衡之微调方法
公开(公告)号：TW201116222A
公开(公告)日：2011-05-16
申请号：TW098137100
申请日：2009-11-02
申请人：俊達生技股份有限公司
发明人：謝進興 , 蘇建德 , 謝宗憲 , 謝東辰
IPC分类号： A43B , A61F
摘要：一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內部足底壓力平衡之微調方法，所述足弓矯正器鞋組之一鞋底裝置包括一足弓矯正器，該微調方法包含下列步驟：初拓腳圖：印製具有使用者一對足印的初始腳圖。初步分析：根據一個分析模式，分析初始腳圖上足印的初始資訊，並依據此初始資訊建立出一份足底須調整壓力部位之初調資料。初調配置：依此初調資料對應在一雙足弓矯正器鞋組之鞋底裝置分別安裝一墊片裝置。本發明係依據使用者足印狀況，在鞋底裝置對應安裝墊片裝置，踏置時即能依人體力學及工學，使足底壓力由不平衡趨向於平衡。
简体摘要：一种穿着足弓矫正器鞋组时的鞋内部足底压力平衡之微调方法，所述足弓矫正器鞋组之一鞋底设备包括一足弓矫正器，该微调方法包含下列步骤：初拓脚图：印制具有用户一对足印的初始脚图。初步分析：根据一个分析模式，分析初始脚图上足印的初始信息，并依据此初始信息创建出一份足底须调整压力部位之初调数据。初调配置：依此初调数据对应在一双足弓矫正器鞋组之鞋底设备分别安装一垫片设备。本发明系依据用户足印状况，在鞋底设备对应安装垫片设备，踏置时即能依人体力学及工学，使足底压力由不平衡趋向于平衡。

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