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1. 发明专利

TWI480674B 黑色被覆膜與其製造方法、黑色遮光板及運用其之光圈、光量調整用光圈裝置、快門以及耐熱遮光帶有权
简体标题：黑色被覆膜与其制造方法、黑色遮光板及运用其之光圈、光量调整用光圈设备、快门以及耐热遮光带
公开(公告)号：TWI480674B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW098129339
申请日：2009-09-01
申请人：住友金屬鑛山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：阿部能之 , ABE, YOSHIYUKI , 小野勝史 , ONO, KATSUSHI , 塚越幸夫 , TSUKAKOSHI, YUKIO
IPC分类号： G03B9/08 , G03B9/36 , H01L21/027
CPC分类号： G03B9/02 , C23C14/0015 , C23C14/0036 , C23C14/083 , C23C14/3414 , G02B5/003 , G02B5/005 , G02B5/22 , G03B9/08 , Y02T50/67 , Y10T428/24355 , Y10T428/2848

2. 发明专利

TW201438921A 透明導電性基材以及其製造方法审中-公开
简体标题：透明导电性基材以及其制造方法
公开(公告)号：TW201438921A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103102576
申请日：2014-01-24
申请人：住友金屬鑛山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：中山德行 , NAKAYAMA, TOKUYUKI , 小野勝史 , ONO, KATSUSHI , 大久保和彥 , OKUBO, KAZUHIKO
IPC分类号： B32B9/00 , B32B7/02 , C23C14/34 , C23C14/58 , H01B1/08 , H01B5/14 , H01B13/00 , G06F3/045
CPC分类号： C23C14/086 , B32B27/06 , B32B2307/202 , B32B2307/412 , B32B2307/702 , B32B2457/208 , G06F3/044 , G06F2203/04103
摘要：本發明之目的為提供一種透明導電性薄膜，其係在透明的薄膜基材上形成有使2層構造單層化之透明導電膜，並且提供一種使包含2層的透明導電膜積層體單層化之製造方法。本發明藉由透明導電性基材等而提供，其係在透明的基材之單面或雙面上形成有單層且結晶質的透明導電膜，而該透明導電膜係包含氧化銦、或至少含有1種以上2~6價金屬元素之氧化物的氧化銦；其特徵為：前述透明導電膜係藉由依序形成作為第1非晶質的透明導電膜及第2非晶質的透明導電膜之2層後，將所得的透明導電膜積層體進行熱處理而形成；第1非晶質的透明導電膜其以式(A)所示之2~6價金屬元素之氧化物的總重量比係與第2非晶質的透明導電膜不同，而且結晶質的透明導電膜中的2~6價金屬元素之氧化物的總重量比為16重量%以下。
简体摘要：本发明之目的为提供一种透明导电性薄膜，其系在透明的薄膜基材上形成有使2层构造单层化之透明导电膜，并且提供一种使包含2层的透明导电膜积层体单层化之制造方法。本发明借由透明导电性基材等而提供，其系在透明的基材之单面或双面上形成有单层且结晶质的透明导电膜，而该透明导电膜系包含氧化铟、或至少含有1种以上2~6价金属元素之氧化物的氧化铟；其特征为：前述透明导电膜系借由依序形成作为第1非晶质的透明导电膜及第2非晶质的透明导电膜之2层后，将所得的透明导电膜积层体进行热处理而形成；第1非晶质的透明导电膜其以式(A)所示之2~6价金属元素之氧化物的总重量比系与第2非晶质的透明导电膜不同，而且结晶质的透明导电膜中的2~6价金属元素之氧化物的总重量比为16重量%以下。

3. 发明专利

TW201129469A 黑色耐熱遮光膜及其製造方法與使用它之光圈、光量調整模組及耐熱遮光帶 HEAT-RESISTANT, LIGHT-SHIELDING BLACK FILM, PRODUCTION THEREOF, AND APERTURE, LIGHT INTENSITY ADJUSTING MODULE, AND HEAT-RESISTANT LIGHT SHADING TAPE 审中-公开
简体标题：黑色耐热遮光膜及其制造方法与使用它之光圈、光量调整模块及耐热遮光带 HEAT-RESISTANT, LIGHT-SHIELDING BLACK FILM, PRODUCTION THEREOF, AND APERTURE, LIGHT INTENSITY ADJUSTING MODULE, AND HEAT-RESISTANT LIGHT SHADING TAPE
公开(公告)号：TW201129469A
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：TW099139857
申请日：2010-11-19
申请人：住友金屬鑛山股份有限公司
发明人：小野勝史 , 中山德行
IPC分类号： B32B , G02B , G03B
CPC分类号： G02B5/003 , G03B9/02 , G03B9/10 , G03B9/36 , Y10T428/24355
摘要：本發明提供一種黑色耐熱遮光膜，其係在大氣中155℃之高溫環境下也可維持高遮光性、在表面及端面之低反射性、低表面光澤性、黑色性，因此可用作為快門葉片或固定式光圈、光量調整模組用光圈裝置之光圈葉片、耐熱遮光帶等，及其製造方法。其係藉由一種黑色耐熱遮光膜等來提供，而該黑色耐熱遮光膜之特徵為：在具有155℃以上耐熱性之樹脂薄膜（A）的兩面形成微細凹凸，該樹脂薄膜（A）是含有黑色顏料（B）與無機填充材（C）之黑色薄膜，且黑色耐熱遮光膜之厚度為25μm以下、兩表面之表面粗糙度（算術平均高度Ra）為0.2至2.2μm，並且，在波長為380至780nm時的作為光之遮光性指標之平均光學濃度為3.5以上。
简体摘要：本发明提供一种黑色耐热遮光膜，其系在大气中155℃之高温环境下也可维持高遮光性、在表面及端面之低反射性、低表面光泽性、黑色性，因此可用作为快门叶片或固定式光圈、光量调整模块用光圈设备之光圈叶片、耐热遮光带等，及其制造方法。其系借由一种黑色耐热遮光膜等来提供，而该黑色耐热遮光膜之特征为：在具有155℃以上耐热性之树脂薄膜（A）的两面形成微细凹凸，该树脂薄膜（A）是含有黑色颜料（B）与无机填充材（C）之黑色薄膜，且黑色耐热遮光膜之厚度为25μm以下、两表面之表面粗糙度（算术平均高度Ra）为0.2至2.2μm，并且，在波长为380至780nm时的作为光之遮光性指针之平均光学浓度为3.5以上。

4. 发明专利

TWI363691B 耐熱遮光薄膜與其製法、及使用它之光圈或光量調整裝置 HEAT-RESISTANT, LIGHT-SHIELDING FILM, PRODUCTION THEREOF, AND APERTURE AND LIGHT INTENSITY ADJUSTING DEVICE USING THE SAME 有权
简体标题：耐热遮光薄膜与其制法、及使用它之光圈或光量调整设备 HEAT-RESISTANT, LIGHT-SHIELDING FILM, PRODUCTION THEREOF, AND APERTURE AND LIGHT INTENSITY ADJUSTING DEVICE USING THE SAME
公开(公告)号：TWI363691B
公开(公告)日：2012-05-11
申请号：TW096145112
申请日：2007-11-28
申请人：住友金屬鑛山股份有限公司
发明人：小野勝史 , 阿部能之 , 塚越幸夫
IPC分类号： B32B , C08J , C23C , G02B
CPC分类号： C23C14/205 , C23C14/0036 , C23C14/085 , C23C14/562 , Y10T428/12771 , Y10T428/12826 , Y10T428/12861 , Y10T428/12944 , Y10T428/24967 , Y10T428/26
摘要：本發明提供一種耐熱遮光薄膜及其製造方法、以及採用它的光圈或光量調節裝置，該耐熱遮光薄膜係作為數位照相機、數位攝影機的鏡頭快門等的快門葉片或光圈葉片或者投影機的光量調節用光圈裝置的光圈葉片等光學儀器部件使用，其遮光性、耐熱性、滑動性、低光澤性、導電性優良。該耐熱遮光薄膜特徵在於：包括具有200℃以上的耐熱性的樹脂薄膜基材(A)、在樹脂薄膜基材(A)一面或兩面上通過濺射法形成的具有50nm以上厚度的Ni類金屬膜(B)、在Ni類金屬膜(B)上通過濺射法形成的低反射性Ni類氧化物膜(C)，並且表面粗糙度為0.1~0.7 μm(算術平均高度Ra)。
简体摘要：本发明提供一种耐热遮光薄膜及其制造方法、以及采用它的光圈或光量调节设备，该耐热遮光薄膜系作为数码照相机、数码摄影机的镜头快门等的快门叶片或光圈叶片或者投影机的光量调节用光圈设备的光圈叶片等光学仪器部件使用，其遮光性、耐热性、滑动性、低光泽性、导电性优良。该耐热遮光薄膜特征在于：包括具有200℃以上的耐热性的树脂薄膜基材(A)、在树脂薄膜基材(A)一面或两面上通过溅射法形成的具有50nm以上厚度的Ni类金属膜(B)、在Ni类金属膜(B)上通过溅射法形成的低反射性Ni类氧化物膜(C)，并且表面粗糙度为0.1~0.7 μm(算术平均高度Ra)。

5. 发明专利

TW201011453A 黑色被覆膜與其製造方法、黑色遮光板及運用其之光圈、光量調整用光圈裝置、快門以及耐熱遮光帶 BLACK COATIONG, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, LIGHT SHADING BLACK PLATE AND DIAPHRAGM, DIAPHRAGM DEVICE FOR ADJUSTING A LIGHT INTENSITY, SHUTTER AND HEAT-RESISTANT LIGHT SHADING TAPE USING THE SAME 审中-公开
简体标题：黑色被覆膜与其制造方法、黑色遮光板及运用其之光圈、光量调整用光圈设备、快门以及耐热遮光带 BLACK COATIONG, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, LIGHT SHADING BLACK PLATE AND DIAPHRAGM, DIAPHRAGM DEVICE FOR ADJUSTING A LIGHT INTENSITY, SHUTTER AND HEAT-RESISTANT LIGHT SHADING TAPE USING THE SAME
公开(公告)号：TW201011453A
公开(公告)日：2010-03-16
申请号：TW098129339
申请日：2009-09-01
申请人：住友金屬鑛山股份有限公司
发明人：阿部能之 , 小野勝史 , 塚越幸夫
IPC分类号： G03B , H01L
CPC分类号： G03B9/02 , C23C14/0015 , C23C14/0036 , C23C14/083 , C23C14/3414 , G02B5/003 , G02B5/005 , G02B5/22 , G03B9/08 , Y02T50/67 , Y10T428/24355 , Y10T428/2848
摘要：提供一種能夠使光學構件的表面為低反射性、黑色性之具有耐熱性的黑色被覆膜、將使用其的樹脂薄膜作為基體基材之黑色遮光板及運用其之光圈、光量調整用光圈裝置以及快門。藉由一種黑色被覆膜及一種黑色遮光板等來提供，該黑色被覆膜其特徵係以鈦及氧作為主成分且氧的含量係作為O/Ti原子數比為0.7～1.4之氧化鈦膜，在不透明基板或半透明基板上形成而成之黑色被覆膜(A)，該氧化鈦膜係結晶的長度方向為在膜厚度方向伸長的微細柱狀結晶集合的組織且在該膜表面具有突起，而且膜厚度為50奈米以上；而該黑色遮光板係在基板的至少一面形成有膜厚度為40奈米以上的金屬遮光膜(B)，進而在金屬遮光膜(B)的表面上積層黑色被覆膜(A)而形成的。
简体摘要：提供一种能够使光学构件的表面为低反射性、黑色性之具有耐热性的黑色被覆膜、将使用其的树脂薄膜作为基体基材之黑色遮光板及运用其之光圈、光量调整用光圈设备以及快门。借由一种黑色被覆膜及一种黑色遮光板等来提供，该黑色被覆膜其特征系以钛及氧作为主成分且氧的含量系作为O/Ti原子数比为0.7～1.4之氧化钛膜，在不透明基板或半透明基板上形成而成之黑色被覆膜(A)，该氧化钛膜系结晶的长度方向为在膜厚度方向伸长的微细柱状结晶集合的组织且在该膜表面具有突起，而且膜厚度为50奈米以上；而该黑色遮光板系在基板的至少一面形成有膜厚度为40奈米以上的金属遮光膜(B)，进而在金属遮光膜(B)的表面上积层黑色被覆膜(A)而形成的。

6. 发明专利

TW201007343A 薄膜狀遮光板、及使用它之光圈、光量調整用光圈裝置或快門 LIGHT SHIELDING FILM AND APERTURE, LIGHT QUANTITY-ADJUSTING DIAPHRAGM DEVICE OR SHUTTER USING THE SAME 审中-公开
简体标题：薄膜状遮光板、及使用它之光圈、光量调整用光圈设备或快门 LIGHT SHIELDING FILM AND APERTURE, LIGHT QUANTITY-ADJUSTING DIAPHRAGM DEVICE OR SHUTTER USING THE SAME
公开(公告)号：TW201007343A
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：TW098121293
申请日：2009-06-25
申请人：住友金屬鑛山股份有限公司
发明人：阿部能之 , 小野勝史 , 塚越幸夫
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G03B9/02 , G02B5/003 , G02B5/005 , Y10T428/24355 , Y10T428/2495 , Y10T428/26 , Y10T428/265
摘要：本發明係提供一種在作為基體基材之該樹脂薄膜上形成有可廣泛地使用於光學構件、於可見光範圍內具有充分的遮光性與低反射性之遮光性薄膜的薄膜狀遮光板，以及使用該薄膜狀遮光板的數位相機、數位攝影機之光圈、投影機之光量調整用光圈裝置、或快門。而且，提供一種薄膜狀遮光板，其係特徵為在至少一面之樹脂薄膜基材(A)上形成有由結晶性碳氧化鈦膜所成的遮光性薄膜(B)之薄膜狀遮光板，其中遮光性薄膜(B)中碳量以C/Ti原子數比計為0.6以上、且氧量以O/Ti原子數比計為0.2～0.6，且遮光性薄膜(B)之膜厚的總和為260nm以上，在波長為400～800nm時之平均光學濃度為4.0以上。
简体摘要：本发明系提供一种在作为基体基材之该树脂薄膜上形成有可广泛地使用于光学构件、于可见光范围内具有充分的遮光性与低反射性之遮光性薄膜的薄膜状遮光板，以及使用该薄膜状遮光板的数码相机、数码摄影机之光圈、投影机之光量调整用光圈设备、或快门。而且，提供一种薄膜状遮光板，其系特征为在至少一面之树脂薄膜基材(A)上形成有由结晶性碳氧化钛膜所成的遮光性薄膜(B)之薄膜状遮光板，其中遮光性薄膜(B)中碳量以C/Ti原子数比计为0.6以上、且氧量以O/Ti原子数比计为0.2～0.6，且遮光性薄膜(B)之膜厚的总和为260nm以上，在波长为400～800nm时之平均光学浓度为4.0以上。

7. 发明专利

TW201910406A 電磁波吸收粒子分散體、電磁波吸收層合透明基材审中-公开
简体标题：电磁波吸收粒子分散体、电磁波吸收层合透明基材
公开(公告)号：TW201910406A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107126797
申请日：2018-08-02
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：岡田美香 , OKADA, MIKA , 小野勝史 , ONO, KATSUSHI , 吉尾里司 , YOSHIO, SATOSHI , 足立健治 , ADACHI, KENJI , 町田佳輔 , MACHIDA, KEISUKE
IPC分类号： C08K3/22 , C08L101/00 , B32B27/18 , H05K9/00
摘要：提供一種電磁波吸收粒子分散體，至少包含電磁波吸收粒子和熱可塑性樹脂，其特徵在於，上述電磁波吸收粒子包含具有氧缺陷的六方晶體的鎢青銅，上述鎢青銅由通式：MxWO3-y（這裡，元素M包含從至少K、Rb、及Cs中選出的1種以上，0.15≦x≦0.33，並且0＜y≦0.46）表示，上述電磁波吸收粒子中的氧空孔濃度NV為4.3×1014cm-3以上且8.0×1021cm-3以下。
简体摘要：提供一种电磁波吸收粒子分散体，至少包含电磁波吸收粒子和热可塑性树脂，其特征在于，上述电磁波吸收粒子包含具有氧缺陷的六方晶体的钨青铜，上述钨青铜由通式：MxWO3-y（这里，元素M包含从至少K、Rb、及Cs中选出的1种以上，0.15≦x≦0.33，并且0＜y≦0.46）表示，上述电磁波吸收粒子中的氧空孔浓度NV为4.3×1014cm-3以上且8.0×1021cm-3以下。

8. 发明专利

TW201910290A 電磁波吸收透明基材审中-公开
简体标题：电磁波吸收透明基材
公开(公告)号：TW201910290A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107126815
申请日：2018-08-02
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：岡田美香 , OKADA, MIKA , 小野勝史 , ONO, KATSUSHI , 吉尾里司 , YOSHIO, SATOSHI , 足立健治 , ADACHI, KENJI , 町田佳輔 , MACHIDA, KEISUKE
IPC分类号： C03C17/34 , B32B27/36 , B32B17/00
摘要：提供一種電磁波吸收透明基材，其具有樹脂基材或玻璃基材即透明基材、及配置在上述透明基材的至少一個表面上的被覆層，上述被覆層為包含電磁波吸收顆粒的黏結劑樹脂的層，上述電磁波吸收顆粒包含具有氧缺陷的六方晶體的鎢青銅，上述鎢青銅由通式：MxWO3-y（這裡，元素M包括從至少K、Rb、及Cs中選出的1種類以上，0.15≦x≦0.33，且0＜y≦0.46）表示，上述電磁波吸收顆粒中的氧空孔濃度NV為4.3×1014cm-3以上且8.0×1021cm-3以下。
简体摘要：提供一种电磁波吸收透明基材，其具有树脂基材或玻璃基材即透明基材、及配置在上述透明基材的至少一个表面上的被覆层，上述被覆层为包含电磁波吸收颗粒的黏结剂树脂的层，上述电磁波吸收颗粒包含具有氧缺陷的六方晶体的钨青铜，上述钨青铜由通式：MxWO3-y（这里，元素M包括从至少K、Rb、及Cs中选出的1种类以上，0.15≦x≦0.33，且0＜y≦0.46）表示，上述电磁波吸收颗粒中的氧空孔浓度NV为4.3×1014cm-3以上且8.0×1021cm-3以下。

9. 发明专利

TW201309821A 類鑽碳傾斜構造黑色被覆膜與其製造方法及黑色遮光板、使用其之快門葉审中-公开
简体标题：类钻碳倾斜构造黑色被覆膜与其制造方法及黑色遮光板、使用其之快门叶
公开(公告)号：TW201309821A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW101126930
申请日：2012-07-26
申请人：住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：小野勝史 , ONO, KATSUSHI , 水沼昌平 , MIZUNUMA, SHOUHEI
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/35 , G03B9/08
CPC分类号： G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B5/003 , G03B9/00
摘要：本發明提供一種提高快門葉之低反射性、黑色性、輕量性、滑動性、撥水性之類鑽碳(DLC)傾斜構造黑色被覆膜，並且提供一種於表面層具有該DLC傾斜構造黑色被覆膜、以樹脂薄膜等為基底基材、輕量化且高溫高濕特性優異之黑色遮光板。本發明之DLC傾斜構造黑色被覆膜係藉由濺鍍法形成之含有鈦、碳、氧之類鑽碳(DLC)傾斜構造黑色被覆膜(A)，其特徵在於：具有DLC傾斜構造黑色被覆膜(A)之碳含量以C/Ti原子數比計為2.0~30.0，氧含量以O/Ti原子數比計為0.8~2.2，且C/Ti原子數比及O/Ti原子數比於膜厚方向上連續地發生變化之構造；DLC傾斜構造黑色被覆膜(A)之膜厚為20 nm以上。
简体摘要：本发明提供一种提高快门叶之低反射性、黑色性、轻量性、滑动性、拨水性之类钻碳(DLC)倾斜构造黑色被覆膜，并且提供一种于表面层具有该DLC倾斜构造黑色被覆膜、以树脂薄膜等为基底基材、轻量化且高温高湿特性优异之黑色遮光板。本发明之DLC倾斜构造黑色被覆膜系借由溅镀法形成之含有钛、碳、氧之类钻碳(DLC)倾斜构造黑色被覆膜(A)，其特征在于：具有DLC倾斜构造黑色被覆膜(A)之碳含量以C/Ti原子数比计为2.0~30.0，氧含量以O/Ti原子数比计为0.8~2.2，且C/Ti原子数比及O/Ti原子数比于膜厚方向上连续地发生变化之构造；DLC倾斜构造黑色被覆膜(A)之膜厚为20 nm以上。

10. 发明专利

TW201910268A 電磁波吸收粒子、電磁波吸收粒子分散液、電磁波吸收粒子的製造方法审中-公开
简体标题：电磁波吸收粒子、电磁波吸收粒子分散液、电磁波吸收粒子的制造方法
公开(公告)号：TW201910268A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107126814
申请日：2018-08-02
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：岡田美香 , OKADA, MIKA , 小野勝史 , ONO, KATSUSHI , 吉尾里司 , YOSHIO, SATOSHI , 足立健治 , ADACHI, KENJI , 町田佳輔 , MACHIDA, KEISUKE
IPC分类号： C01G41/00 , C01G41/02 , C09D5/32
摘要：提供一種電磁波吸收粒子，其包含具有氧缺陷的六方晶體的鎢青銅，上述鎢青銅由通式：MxWO3－y（此處，元素M包括從至少K、Rb、及Cs中選出的1種以上，0.15≦x≦0.33，並且0＜y≦0.46）表示，氧空孔濃度NV為4.3×1014cm－3以上且8.0×1021cm－3以下。
简体摘要：提供一种电磁波吸收粒子，其包含具有氧缺陷的六方晶体的钨青铜，上述钨青铜由通式：MxWO3－y（此处，元素M包括从至少K、Rb、及Cs中选出的1种以上，0.15≦x≦0.33，并且0＜y≦0.46）表示，氧空孔浓度NV为4.3×1014cm－3以上且8.0×1021cm－3以下。

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