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1. 发明专利

TWI467596B 帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式有权
简体标题：带电粒子线照射设备、带电粒子线照射方法及带电粒子线照射进程
公开(公告)号：TWI467596B
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW100128678
申请日：2011-08-11
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：橘正則 , TACHIBANA, MASANORI
IPC分类号： G21K5/10 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1043 , A61N2005/1087

2. 发明专利

TWI551323B 帶電粒子束照射裝置有权
简体标题：带电粒子束照射设备
公开(公告)号：TWI551323B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW103131362
申请日：2014-09-11
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：橘正則 , TACHIBANA, MASANORI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1087

3. 发明专利

TW201513912A 帶電粒子束照射裝置审中-公开
简体标题：带电粒子束照射设备
公开(公告)号：TW201513912A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103131362
申请日：2014-09-11
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：橘正則 , TACHIBANA, MASANORI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1087
摘要：縮短層切換時間並縮短照射時間。本發明的帶電粒子束照射裝置(1)具備：加速器(11)，用以射出帶電粒子束；照射噴嘴(12)，用以向被照射體照射帶電粒子束；射束輸送線路(13)，用以向照射噴嘴(12)輸送帶電粒子束；降能器(18)，設置於射束輸送線路(13)，並用以調整帶電粒子束的能量；複數個電磁鐵(25)，比射束輸送線路(13)中的降能器(18)更靠下游側設置；電磁鐵電源(27)，對應於各個複數個電磁鐵(25)而設置；以及，控制部(30)，用以依據帶電粒子束的能量而控制電磁鐵(25)的參數，其中，電磁鐵電源(27)具有記憶部(27a)，其用以記憶被照射體中的被照射帶電粒子束之每一層的電磁鐵(25)的參數，控制部(30)用以對電磁鐵電源(27)發送有關層切換之訊號。
简体摘要：缩短层切换时间并缩短照射时间。本发明的带电粒子束照射设备(1)具备：加速器(11)，用以射出带电粒子束；照射喷嘴(12)，用以向被照射体照射带电粒子束；射束输送线路(13)，用以向照射喷嘴(12)输送带电粒子束；降能器(18)，设置于射束输送线路(13)，并用以调整带电粒子束的能量；复数个电磁铁(25)，比射束输送线路(13)中的降能器(18)更靠下游侧设置；电磁铁电源(27)，对应于各个复数个电磁铁(25)而设置；以及，控制部(30)，用以依据带电粒子束的能量而控制电磁铁(25)的参数，其中，电磁铁电源(27)具有记忆部(27a)，其用以记忆被照射体中的被照射带电粒子束之每一层的电磁铁(25)的参数，控制部(30)用以对电磁铁电源(27)发送有关层切换之信号。

4. 发明专利

TWI490009B 粒子射線照射裝置有权
简体标题：粒子射线照射设备
公开(公告)号：TWI490009B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW102103725
申请日：2013-01-31
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：橘正則 , TACHIBANA, MASANORI , 原章文 , HARA, SHOUBUN , 井上淳一 , INOUE, JUNICHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1075 , A61N5/1043 , A61N2005/1087 , G21K1/093 , G21K5/04 , H01J37/304

5. 发明专利

TW201341012A 粒子射線照射裝置审中-公开
简体标题：粒子射线照射设备
公开(公告)号：TW201341012A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW102103725
申请日：2013-01-31
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：橘正則 , TACHIBANA, MASANORI , 原章文 , HARA, SHOUBUN , 井上淳一 , INOUE, JUNICHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1075 , A61N5/1043 , A61N2005/1087 , G21K1/093 , G21K5/04 , H01J37/304
摘要：本發明提供一種帶電粒子射線治療裝置(1)，其以進行高精確度之粒子射線的掃描控制為目的，向患者(50)的腫瘤(51)照射帶電粒子射線(R)，且具備：掃描電磁鐵(6)，掃描帶電粒子射線(R)；掃描儀電源(7)，向掃描電磁鐵(6)供給電流；及掃描控制器(10)，藉由向掃描儀電源(7)發送電流指令值來控制基於掃描電磁鐵(6)之帶電粒子射線(R)的掃描，掃描控制器(10)的動作時序的週期與掃描儀電源(7)的動作時序的週期相等。
简体摘要：本发明提供一种带电粒子射线治疗设备(1)，其以进行高精确度之粒子射线的扫描控制为目的，向患者(50)的肿瘤(51)照射带电粒子射线(R)，且具备：扫描电磁铁(6)，扫描带电粒子射线(R)；扫描仪电源(7)，向扫描电磁铁(6)供给电流；及扫描控制器(10)，借由向扫描仪电源(7)发送电流指令值来控制基于扫描电磁铁(6)之带电粒子射线(R)的扫描，扫描控制器(10)的动作时序的周期与扫描仪电源(7)的动作时序的周期相等。

6. 发明专利

TWI403312B 射束排程器及射束排程器之射束分配方法有权
简体标题：射束调度器及射束调度器之射束分配方法
公开(公告)号：TWI403312B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW099141226
申请日：2010-11-29
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：橘正則 , TACHIBANA, MASANORI , 矢野芳則 , YANO, YOSHINORI
IPC分类号： A61B6/08

7. 发明专利

TW201200104A 射束排程器及射束排程器之射束分配方法审中-公开
简体标题：射束调度器及射束调度器之射束分配方法
公开(公告)号：TW201200104A
公开(公告)日：2012-01-01
申请号：TW099141226
申请日：2010-11-29
申请人：住友重機械工業股份有限公司
发明人：橘正則 , 矢野芳則
IPC分类号： A61B
摘要：本發明之目的為謀求粒子束照射設施之有效利用。本發明之射束排序器（1），當從多數照射室（A～D）中之一個照射室收到照射請求時，對照射請求附加到分配射束為止之最大容許等待時間，將照射請求追加至待機列表之順位尾端，判定向1個照射室分配射束為止之預測等待時間是否超出最大容許等待時間，當判定為預測等待時間超出最大容許等待時間時，提前該照射請求在待機列表中之順位，向與待機列表中最高順位的照射請求對應之照射室分配射束。
简体摘要：本发明之目的为谋求粒子束照射设施之有效利用。本发明之射束排序器（1），当从多数照射室（A～D）中之一个照射室收到照射请求时，对照射请求附加到分配射束为止之最大容许等待时间，将照射请求追加至待机列表之顺位尾端，判定向1个照射室分配射束为止之预测等待时间是否超出最大容许等待时间，当判定为预测等待时间超出最大容许等待时间时，提前该照射请求在待机列表中之顺位，向与待机列表中最高顺位的照射请求对应之照射室分配射束。

8. 发明专利

TW201209848A 帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式审中-公开
简体标题：带电粒子线照射设备、带电粒子线照射方法及带电粒子线照射进程
公开(公告)号：TW201209848A
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：TW100128678
申请日：2011-08-11
申请人：住友重機械工業股份有限公司
发明人：橘正則
IPC分类号： G21K , A61N
CPC分类号： A61N5/1043 , A61N2005/1087
摘要：本發明的目的在於提供一種帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式,其高精確度地控制帶電粒子線的照射量。本發明的帶電粒子線照射裝置(100)具備:掃描磁鐵(3),於被照射物(52)上掃描帶電粒子線(R);照射量設定部(10),設定帶電粒子線(R)於藉由掃描磁鐵(3)於被照射物上掃描之帶電粒子線(R)的掃描線(L)上各目標掃描位置上的照射量;及掃描速度設定部(11),根據被設定之照射量,設定帶電粒子線於各個目標掃描位置上的目標掃描速度。
简体摘要：本发明的目的在于提供一种带电粒子线照射设备、带电粒子线照射方法及带电粒子线照射进程,其高精确度地控制带电粒子线的照射量。本发明的带电粒子线照射设备(100)具备:扫描磁铁(3),于被照射物(52)上扫描带电粒子线(R);照射量设置部(10),设置带电粒子线(R)于借由扫描磁铁(3)于被照射物上扫描之带电粒子线(R)的扫描线(L)上各目标扫描位置上的照射量;及扫描速度设置部(11),根据被设置之照射量,设置带电粒子线于各个目标扫描位置上的目标扫描速度。

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