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1. 发明专利

TWI687763B 光阻組合物及製造光阻組合物之方法有权
简体标题：光阻组合物及制造光阻组合物之方法
公开(公告)号：TWI687763B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW104141842
申请日：2015-12-11
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 藤田真吾 , FUJITA, SHINGO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/24 , C08F20/28 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027

2. 发明专利

TWI682242B 抗蝕劑組合物及抗蝕劑圖案之製造方法有权
简体标题：抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案之制造方法
公开(公告)号：TWI682242B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW104137238
申请日：2015-11-11
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：增山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 藤田真吾 , FUJITA, SHINGO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/10 , G03F7/038 , G03F7/38 , H01L21/027

3. 发明专利

TW201708958A 阻劑組合物审中-公开
简体标题：阻剂组合物
公开(公告)号：TW201708958A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105120055
申请日：2016-06-24
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：鈴木雄喜 , SUZUKI, YUKI , 向井優一 , MUKAI, YUICHI , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： G03F7/033 , C08F220/32 , C08F220/18 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046
摘要：本發明之目的在於提供一種不產生殘渣、可以良好之CD均一性(CDU)製造阻劑圖案之阻劑組合物。本發明係一種阻劑組合物，其含有樹脂(A1)與酸產生劑，上述樹脂(A1)包含式(I)所表示之結構單元、式(II)所表示之結構單元及具有酸不穩定基之結構單元。 [式中，R1及R2表示亦可具有鹵素原子之烷基、氫原子或鹵素原子；Ra25表示羧基、氰基或脂肪族烴基；A1表示單鍵、＊-A2-O-、＊-A2-CO-O-、＊-A2-CO-O-A3-CO-O-等；A2及A3表示烷二基；w1表示0~8之整數；L1表示單鍵或＊-L2-CO-O-(L3-CO-O)g-；L2及L3表示2價烴基；g表示0或1；R3表示直鏈或支鏈之烷基，三級烷基除外；＊表示與氧原子之鍵結鍵]
简体摘要：本发明之目的在于提供一种不产生残渣、可以良好之CD均一性(CDU)制造阻剂图案之阻剂组合物。本发明系一种阻剂组合物，其含有树脂(A1)与酸产生剂，上述树脂(A1)包含式(I)所表示之结构单元、式(II)所表示之结构单元及具有酸不稳定基之结构单元。 [式中，R1及R2表示亦可具有卤素原子之烷基、氢原子或卤素原子；Ra25表示羧基、氰基或脂肪族烃基；A1表示单键、＊-A2-O-、＊-A2-CO-O-、＊-A2-CO-O-A3-CO-O-等；A2及A3表示烷二基；w1表示0~8之整数；L1表示单键或＊-L2-CO-O-(L3-CO-O)g-；L2及L3表示2价烃基；g表示0或1；R3表示直链或支链之烷基，三级烷基除外；＊表示与氧原子之键结键]

4. 发明专利

TW201638063A 化合物、樹脂及光阻組合物审中-公开
简体标题：化合物、树脂及光阻组合物
公开(公告)号：TW201638063A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105105170
申请日：2016-02-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 山口訓史 , YAMAGUCHI, SATOSHI , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C07C69/54 , C07C69/63 , C07C69/753 , C07C69/757 , C08F220/26 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C69/653 , C07C69/753 , C07C69/757 , C07C2603/74 , C08F220/68 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38
摘要：一種由式(I)表示之化合物，其中R1表示氫原子、鹵素原子或C1-C6烷基，其中氫原子可由鹵素原子替代，L1表示C1-C8氟化烷二基，X1表示*-CO-O-、*-O-CO-、*-O-CO-O-或*-O-，其中*表示至L1之結合位點，且R2表示C1-C18烴基團，其中亞甲基可由氧原子、羰基或磺醯基替代且其中氫原子可由羥基替代，或其中兩個氫原子可各自由氧原子替代，以與鍵結至該氧原子之C1-C8烷二基一起形成一個縮酮結構，且該縮酮結構中之氫原子可由氟原子替代。
简体摘要：一种由式(I)表示之化合物，其中R1表示氢原子、卤素原子或C1-C6烷基，其中氢原子可由卤素原子替代，L1表示C1-C8氟化烷二基，X1表示*-CO-O-、*-O-CO-、*-O-CO-O-或*-O-，其中*表示至L1之结合位点，且R2表示C1-C18烃基团，其中亚甲基可由氧原子、羰基或磺酰基替代且其中氢原子可由羟基替代，或其中两个氢原子可各自由氧原子替代，以与键结至该氧原子之C1-C8烷二基一起形成一个缩酮结构，且该缩酮结构中之氢原子可由氟原子替代。

5. 发明专利

TW201630864A 化合物、樹脂、光阻組合物及光阻圖案之製造方法审中-公开
简体标题：化合物、树脂、光阻组合物及光阻图案之制造方法
公开(公告)号：TW201630864A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104137216
申请日：2015-11-11
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：安立由香子 , ANRYU, YUKAKO , 藤田真吾 , FUJITA, SHINGO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C07C69/635 , C07C69/63 , C07C69/708 , C08F20/26 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： C08F22/10 , C07C69/653 , C07C69/73 , C07C69/75 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C08F220/22 , C08F220/28 , C08F2220/283 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要：本發明之目的在於提供一種可製造CD均勻性良好之光阻圖案之化合物、樹脂及光阻組合物。本發明係關於一種式(I)所表示之化合物、包含源自其之結構單元之樹脂及光阻組合物。 [式中，R1表示可具有鹵素原子之碳數1~6之烷基、氫原子或鹵素原子；R2表示全氟烷基或＊-CHRf1Rf2，Rf1及Rf2分別表示全氟烷基；A1表示單鍵、烷二基等；A2表示烷二基；W1表示2價之脂環式烴基]。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种可制造CD均匀性良好之光阻图案之化合物、树脂及光阻组合物。本发明系关于一种式(I)所表示之化合物、包含源自其之结构单元之树脂及光阻组合物。 [式中，R1表示可具有卤素原子之碳数1~6之烷基、氢原子或卤素原子；R2表示全氟烷基或＊-CHRf1Rf2，Rf1及Rf2分别表示全氟烷基；A1表示单键、烷二基等；A2表示烷二基；W1表示2价之脂环式烃基]。

6. 发明专利

TW201616228A 樹脂、光阻組合物及光阻圖案之製造方法审中-公开
简体标题：树脂、光阻组合物及光阻图案之制造方法
公开(公告)号：TW201616228A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104130675
申请日：2015-09-16
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：嶋田雅彥 , SHIMADA, MASAHIKO , 鈴木雄喜 , SUZUKI, YUKI , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027 , C08F220/22 , C08F220/26 , C08F220/18
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F222/18 , C08F2222/185 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要：本發明之目的在於提供一種可製造保存穩定性(缺陷、線邊緣粗糙度)良好之光阻圖案之樹脂及光阻組合物。本發明之光阻組合物含有：樹脂(A1)，其含有式(a4)所表示之結構單元及具有金剛烷內酯之結構單元，且不具有酸不穩定基；樹脂(A2)，其具有酸不穩定基；以及酸產生劑。 (式(a4)中，R3表示氫原子或甲基。R4表示碳數1~24之具有氟原子之飽和烴基，該飽和烴基所包含之亞甲基亦可經氧原子或羰基取代)。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种可制造保存稳定性(缺陷、线边缘粗糙度)良好之光阻图案之树脂及光阻组合物。本发明之光阻组合物含有：树脂(A1)，其含有式(a4)所表示之结构单元及具有金刚烷内酯之结构单元，且不具有酸不稳定基；树脂(A2)，其具有酸不稳定基；以及酸产生剂。 (式(a4)中，R3表示氢原子或甲基。R4表示碳数1~24之具有氟原子之饱和烃基，该饱和烃基所包含之亚甲基亦可经氧原子或羰基取代)。

7. 发明专利

TWI491600B 鹽類及含有其之光阻組合物有权
简体标题：盐类及含有其之光阻组合物
公开(公告)号：TWI491600B
公开(公告)日：2015-07-11
申请号：TW099118806
申请日：2010-06-09
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 杉原昌子 , SUGIHARA, MASAKO , 島田雅彥 , SHIMADA, MASAHIKO
IPC分类号： C07D327/06 , C07C381/12 , C07C309/17 , G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： C07D327/06 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D317/12 , C07D317/16 , C07D317/24 , C07D319/12 , C07D321/02 , C07D327/04 , C07D339/02 , C07D339/06 , C07D339/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/38

8. 发明专利

TW201641522A 化合物、樹脂及光阻組合物审中-公开
简体标题：化合物、树脂及光阻组合物
公开(公告)号：TW201641522A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105104513
申请日：2016-02-16
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 鈴木雄喜 , SUZUKI, YUKI , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C08F20/32 , C08F20/38 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： C08F216/38 , C07D321/04 , C07D327/06 , C08F220/22 , C08F220/28 , C08F2220/1875 , C08F2220/281 , C08F2220/282 , C08F2220/283 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/38
摘要：一種由式(I)表示之化合物：其中R1表示氫原子或甲基；R2表示C1-C12烴基；Xa及Xb各獨立地表示氧原子或硫原子；X11表示其中氫原子可經氟原子置換之C1-C12二價飽和烴基；且A1表示C1-C12二價飽和烴基或*-A2-X1-(A3-X2)a-A4-，其中*表示與氧原子之結合位點，A2、A3及A4各獨立地表示C1-C12二價烴基，X1及X2各獨立地表示-O-、-CO-O-、-O-CO-或-O-CO-O-，且「a」表示0或1。
简体摘要：一种由式(I)表示之化合物：其中R1表示氢原子或甲基；R2表示C1-C12烃基；Xa及Xb各独立地表示氧原子或硫原子；X11表示其中氢原子可经氟原子置换之C1-C12二价饱和烃基；且A1表示C1-C12二价饱和烃基或*-A2-X1-(A3-X2)a-A4-，其中*表示与氧原子之结合位点，A2、A3及A4各独立地表示C1-C12二价烃基，X1及X2各独立地表示-O-、-CO-O-、-O-CO-或-O-CO-O-，且“a”表示0或1。

9. 发明专利

TW201635016A 光阻組合物及製造光阻組合物之方法审中-公开
简体标题：光阻组合物及制造光阻组合物之方法
公开(公告)号：TW201635016A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104141842
申请日：2015-12-11
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 藤田真吾 , FUJITA, SHINGO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/24 , C08F20/28 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , G03F7/38
摘要：本發明提供一種光阻組合物，其包含：具有酸不穩定基團的樹脂(A1)；包含由式(I)表示之結構單元的樹脂(A2)；其中R1表示C1-C13氟化飽和烴基，A1表示單鍵、C1-C6烷二基，或*-A2-X1-(A3-X2)a-(A4)b-，且R2表示C1-C18烴基；及酸產生劑。
简体摘要：本发明提供一种光阻组合物，其包含：具有酸不稳定基团的树脂(A1)；包含由式(I)表示之结构单元的树脂(A2)；其中R1表示C1-C13氟化饱和烃基，A1表示单键、C1-C6烷二基，或*-A2-X1-(A3-X2)a-(A4)b-，且R2表示C1-C18烃基；及酸产生剂。

10. 发明专利

TW201632501A 鹽、酸產生劑、光阻組合物、及光阻圖案之製造方法审中-公开
简体标题：盐、酸产生剂、光阻组合物、及光阻图案之制造方法
公开(公告)号：TW201632501A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW105100319
申请日：2016-01-06
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：坂本宏 , SAKAMOTO, HIROMU , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/17 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： C07D327/06 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07D307/93 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D337/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/38
摘要：本發明係關於由式(I)表示之鹽：其中R1表示C1至C12烷基，其中亞甲基可由氧原子或羰基代替；Q1及Q2各自獨立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基；A1表示含內酯環基團，其具有4至24個碳原子；R2表示酸不穩定性基團；且「m」表示0至3之整數。
简体摘要：本发明系关于由式(I)表示之盐：其中R1表示C1至C12烷基，其中亚甲基可由氧原子或羰基代替；Q1及Q2各自独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基；A1表示含内酯环基团，其具有4至24个碳原子；R2表示酸不稳定性基团；且“m”表示0至3之整数。

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