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1. 发明专利

TW201012806A 具有１，３－二烯結構的化合物及其製造方法 COMPOUND HAVING 1,3-DIENE STRUCTURE AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF 审中-公开
简体标题：具有１，３－二烯结构的化合物及其制造方法 COMPOUND HAVING 1,3-DIENE STRUCTURE AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
公开(公告)号：TW201012806A
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW098125486
申请日：2009-07-29
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：中谷智也
IPC分类号： C07D , C07C , C08G , C09K , H01L
CPC分类号： C07C17/269 , C07C41/16 , C07C43/225 , C07C2603/18 , C08G61/02 , C08G61/12 , C08G61/126 , C08G2261/135 , C08G2261/15 , C08G2261/312 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/3241 , C08G2261/3243 , C08G2261/51 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1425 , C09K2211/1433 , C09K2211/1458 , C09K2211/1466 , H01L51/0035 , H01L51/0036 , H01L51/0039 , H01L51/0042 , H01L51/0094 , H01L51/5048 , H05B33/14 , Y10S428/917
摘要：本發明係為含有下述式(I)表示之2價基之化合物：
(式(I)中，Ar 1 表示伸芳基、2價雜環基或2價芳族胺基。J 1 表示伸苯基，J 2 表示伸烷基，X表示氧原子或硫原子。j為0或1，k為0至3之整數，l為0或1，並滿足1≦j+k+l≦5。m為1或2。R 1 表示氫原子、烷基、烷氧基、烷硫基、芳基、芳基氧基、芳硫基、芳基烷基、芳基烷氧基、芳基烷硫基、芳基烯基、芳基炔基、胺基、取代胺基、矽烷基、取代矽烷基、鹵素原子、醯基、醯氧基、亞胺殘基、胺基甲醯基、醯亞胺基、1價雜環基、羧基、取代羧基、氰基或硝基。存在複數個之R 1 可相同亦可不同。J 1 、J 2 、X、j、k及l存在複數個時，各個可相同亦可不同)。
简体摘要：本发明系为含有下述式(I)表示之2价基之化合物： (式(I)中，Ar 1 表示伸芳基、2价杂环基或2价芳族胺基。J 1 表示伸苯基，J 2 表示伸烷基，X表示氧原子或硫原子。j为0或1，k为0至3之整数，l为0或1，并满足1≦j+k+l≦5。m为1或2。R 1 表示氢原子、烷基、烷氧基、烷硫基、芳基、芳基氧基、芳硫基、芳基烷基、芳基烷氧基、芳基烷硫基、芳基烯基、芳基炔基、胺基、取代胺基、硅烷基、取代硅烷基、卤素原子、酰基、酰氧基、亚胺残基、胺基甲酰基、酰亚胺基、1价杂环基、羧基、取代羧基、氰基或硝基。存在复数个之R 1 可相同亦可不同。J 1 、J 2 、X、j、k及l存在复数个时，各个可相同亦可不同)。

2. 发明专利

TW201302677A 含氟化合物及含有該含氟化合物之組成物以及薄膜审中-公开
简体标题：含氟化合物及含有该含氟化合物之组成物以及薄膜
公开(公告)号：TW201302677A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101111320
申请日：2012-03-30
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED , 劍橋顯示科技有限公司 , CAMBRIDGE DISPLAY TECHNOLOGY LIMITED
发明人：中谷智也 , NAKATANI, TOMOYA , 田中健太 , TANAKA, KENTA , 布洛格斯傑瑞米 , BURROUGHES, JEREMY
IPC分类号： C07C25/22 , C09K11/06 , C08J5/18 , H01L51/50
CPC分类号： C07C22/08 , C07C49/813 , C07C2603/18 , C08G61/02 , C08G2261/146 , C08G2261/3142 , C08G2261/5222 , C08G2261/95 , C09K11/06 , C09K2211/1007 , C09K2211/1011 , H01J29/20 , H01L51/0039 , H01L51/0043
摘要：本發明提供一種式(1)所示之含氟化合物， [式中，Ar1、Ar2、Ar3、Ar4以及Ar5分別獨立，表示可具有取代基之伸芳基，n1、n2以及n3分別獨立表示0或是1，Z1以及Z2分別獨立，表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基、氰基或是以-CpFqHrOs所示之基(p表示1以上10以下的整數，q表示1以上2p+1以下的整數，r表示0以上2p+1-q以下的整數，s表示0或1)。但是Ar1、Ar2、Ar3、Ar4以及Ar5之中，至少一個是可具有取代基的茀二基，Z1、Z2以及前述伸芳基之取代基中，至少一個是-CpFqHrOs所示之基]。
简体摘要：本发明提供一种式(1)所示之含氟化合物， [式中，Ar1、Ar2、Ar3、Ar4以及Ar5分别独立，表示可具有取代基之伸芳基，n1、n2以及n3分别独立表示0或是1，Z1以及Z2分别独立，表示氢原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基、氰基或是以-CpFqHrOs所示之基(p表示1以上10以下的整数，q表示1以上2p+1以下的整数，r表示0以上2p+1-q以下的整数，s表示0或1)。但是Ar1、Ar2、Ar3、Ar4以及Ar5之中，至少一个是可具有取代基的茀二基，Z1、Z2以及前述伸芳基之取代基中，至少一个是-CpFqHrOs所示之基]。

3. 发明专利

TW201518397A 高分子化合物及使用該高分子化合物之發光元件审中-公开
简体标题：高分子化合物及使用该高分子化合物之发光组件
公开(公告)号：TW201518397A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103130728
申请日：2014-09-05
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：柿本秀信 , KAKIMOTO, HIDENOBU , 増井希望 , MASUI, NOZOMI , 中谷智也 , NAKATANI, TOMOYA , 飛田憲之 , HIDA, NORIYUKI , 八文字保孝 , YATSUMONJI, YASUTAKA
IPC分类号： C08L65/00 , C08G61/00 , H05B33/20 , H01L51/50
CPC分类号： H01L51/0039 , C08G61/12 , C08G61/122 , C08G61/128 , C08G2261/12 , C08G2261/1412 , C08G2261/148 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/3221 , C08G2261/411 , C08G2261/512 , C08G2261/52 , C08G2261/95 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1433 , C09K2211/1466 , C09K2211/1475 , C09K2211/1483 , C09K2211/185 , H01L51/0003 , H01L51/0035 , H01L51/0043 , H01L51/0052 , H01L51/006 , H01L51/0067 , H01L51/5012 , H01L51/5016 , H01L51/5056
摘要：本發明係提供一種高分子化合物，其係包含：下述式(1)所示的構成單元；以及下述式(X)所示的構成單元以及/或下述式(Y)所示的構成單元；其中高分子化合物中所含羥基之含量未達0.02莫耳%； [式中，Ar1表示伸芳基，該基可具有取代基] [式中，aX1及aX2分別獨立表示0以上的整數；ArX1及ArX3分別獨立表示伸芳基或2價雜環基，該等基可具有取代基；ArX2及ArX4分別獨立表示伸芳基、2價雜環基或至少1種伸芳基與至少1種2價雜環基直接鍵結之2價基，該等基可具有取代基；存在複數個ArX2及ArX4時，該等分別可為相同，亦可為相異；RX1、RX2及RX3分別獨立表示烷基、芳基或1價雜環基，該等基可具有取代基；存在複數個RX2及RX3時，該等分別可為相同，亦可為相異] [式中，ArY1表示伸芳基、2價雜環基或至少1種伸芳基與至少1種2價雜環基直接鍵結之2價基，該等基可具有取代基]。
简体摘要：本发明系提供一种高分子化合物，其系包含：下述式(1)所示的构成单元；以及下述式(X)所示的构成单元以及/或下述式(Y)所示的构成单元；其中高分子化合物中所含羟基之含量未达0.02莫耳%； [式中，Ar1表示伸芳基，该基可具有取代基] [式中，aX1及aX2分别独立表示0以上的整数；ArX1及ArX3分别独立表示伸芳基或2价杂环基，该等基可具有取代基；ArX2及ArX4分别独立表示伸芳基、2价杂环基或至少1种伸芳基与至少1种2价杂环基直接键结之2价基，该等基可具有取代基；存在复数个ArX2及ArX4时，该等分别可为相同，亦可为相异；RX1、RX2及RX3分别独立表示烷基、芳基或1价杂环基，该等基可具有取代基；存在复数个RX2及RX3时，该等分别可为相同，亦可为相异] [式中，ArY1表示伸芳基、2价杂环基或至少1种伸芳基与至少1种2价杂环基直接键结之2价基，该等基可具有取代基]。

5. 发明专利

TWI441896B 高分子化合物、發光材料，及發光元件有权
简体标题：高分子化合物、发光材料，及发光组件
公开(公告)号：TWI441896B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW095134037
申请日：2006-09-14
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：秋野喜彥 , AKINO, NOBUHIKO , 關根千津 , SEKINE, CHIZU , 三上智司 , MIKAMI, SATOSHI , 中谷智也 , NAKATANI, TOMOYA
IPC分类号： C09K11/06 , C08G61/12 , H05B33/14 , G02F1/1335
CPC分类号： C09K11/025 , C08G61/02 , C08G61/10 , C08K5/0041 , C08L65/00 , C09D5/22 , C09K11/06 , C09K2211/1416 , C09K2211/1425 , C09K2211/1441 , C09K2211/145 , C09K2211/1458 , C09K2211/1466 , C09K2211/185 , H01L51/0035 , H01L51/0039 , H01L51/0043 , H01L51/0085 , H01L51/5016

7. 发明专利

TW201026816A 胺系高分子化合物及使用該化合物的發光元件 AMINE HIGH MOLECULAR COMPOUND AND LIGHT-EMITTING ELEMENT USING SAME 审中-公开
简体标题：胺系高分子化合物及使用该化合物的发光组件 AMINE HIGH MOLECULAR COMPOUND AND LIGHT-EMITTING ELEMENT USING SAME
公开(公告)号：TW201026816A
公开(公告)日：2010-07-16
申请号：TW098139258
申请日：2009-11-19
申请人：住友化學股份有限公司 , 薩美甚股份有限公司
发明人：大內一榮 , 中谷智也
IPC分类号： C09K , C07C , C08L , H05B , H01L
CPC分类号： C08G61/02 , C08G2261/3142 , C08G2261/5222 , C09B3/14 , C09B19/00 , C09B21/00 , C09B57/00 , C09B57/008 , C09B69/109 , C09K11/06 , H01L51/0039 , H01L51/0043 , H01L51/006 , H01L51/0085 , H01L51/5012 , H05B33/14
摘要：本發明是有關含有下述式(1a)所示結構單元之高分子化合物。
[式中，A環及B環表示芳香族烴環。R 1 表示下述式(2)所示之基。R 2 表示芳基或1價之芳香族雜環基。]
[式中，Ar 1 表示伸芳基，或2個以上之伸芳基直接鍵結之2價基。Ar 4 及Ar 5 表示芳基或1價之芳香族雜環基。Ar 2 及Ar 3 表示伸芳基、或2價之芳香族雜環基。R 6 表示氫原子、烷基、芳基、或1價之芳香族雜環基。]
简体摘要：本发明是有关含有下述式(1a)所示结构单元之高分子化合物。 [式中，A环及B环表示芳香族烃环。R 1 表示下述式(2)所示之基。R 2 表示芳基或1价之芳香族杂环基。] [式中，Ar 1 表示伸芳基，或2个以上之伸芳基直接键结之2价基。Ar 4 及Ar 5 表示芳基或1价之芳香族杂环基。Ar 2 及Ar 3 表示伸芳基、或2价之芳香族杂环基。R 6 表示氢原子、烷基、芳基、或1价之芳香族杂环基。]

8. 发明专利

TWI632191B 高分子化合物的製造方法有权
简体标题：高分子化合物的制造方法
公开(公告)号：TWI632191B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW103130728
申请日：2014-09-05
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：柿本秀信 , KAKIMOTO, HIDENOBU , 増井希望 , MASUI, NOZOMI , 中谷智也 , NAKATANI, TOMOYA , 飛田憲之 , HIDA, NORIYUKI , 八文字保孝 , YATSUMONJI, YASUTAKA
IPC分类号： C08L65/00 , C08G61/00 , H05B33/20 , H01L51/50

9. 发明专利

TW201139502A 高分子化合物的製造方法 METHOD FOR PRODUCING HIGH-POLYMER COMPOUND 审中-公开
简体标题：高分子化合物的制造方法 METHOD FOR PRODUCING HIGH-POLYMER COMPOUND
公开(公告)号：TW201139502A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW100106349
申请日：2011-02-25
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：後藤修 , 福島大介 , 中谷智也
IPC分类号： C08G , B01J
CPC分类号： C08G61/12 , C08G61/02 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/411
摘要：本發明解決的課題，在於提供一種以短時間聚合所得之高分子化合物的分子量變高之高分子化合物的製造方法。解決課題的手段係具有式(2)所示的重複單元之高分子化合物的製造方法，其包含將具有至少2個的含有硼原子的第1官能基之第1芳香族化合物及具有至少2個的可與第1官能基反應之第二官能基之第二芳香族化合物，在有機溶劑、鈀錯合物、鹼及式(1)所示的化合物之存在下聚合之步驟。
[式中，R a 、R b 、R c 、R d 、R e 及R f 可為相同或相異，分別表示氫原子或一價的有機基，或者R a 至R f 內的2個連結形成非芳香族性的環，其餘可為相同或相異，分別表示氫原子或一價的有機基。]　－Ar－ (2) [式中，Ar表示從芳香族化合物除去2個氫原子後之二價基。]
简体摘要：本发明解决的课题，在于提供一种以短时间聚合所得之高分子化合物的分子量变高之高分子化合物的制造方法。解决课题的手段系具有式(2)所示的重复单元之高分子化合物的制造方法，其包含将具有至少2个的含有硼原子的第1官能基之第1芳香族化合物及具有至少2个的可与第1官能基反应之第二官能基之第二芳香族化合物，在有机溶剂、钯错合物、碱及式(1)所示的化合物之存在下聚合之步骤。 [式中，R a 、R b 、R c 、R d 、R e 及R f 可为相同或相异，分别表示氢原子或一价的有机基，或者R a 至R f 内的2个链接形成非芳香族性的环，其余可为相同或相异，分别表示氢原子或一价的有机基。]　－Ar－ (2) [式中，Ar表示从芳香族化合物除去2个氢原子后之二价基。]

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