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1. 发明专利

TWI286664B 化學增强型正光阻組合物和及鹽 CHEMICAL AMPLIFYING TYPE POSITIVE RESIST COMPOSITION AND SULFONIUM SALT 失效
简体标题：化学增强型正光阻组合物和及盐 CHEMICAL AMPLIFYING TYPE POSITIVE RESIST COMPOSITION AND SULFONIUM SALT
公开(公告)号：TWI286664B
公开(公告)日：2007-09-11
申请号：TW090114376
申请日：2001-06-14
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY LTD.
发明人：上谷保則 UETANI, YASUNORI , 大橋賢治 , 釜淵明 AKIRA KAMABUCHI
IPC分类号： G03F , C07C , C07D
CPC分类号： G03F7/039 , C07C381/00 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/115 , Y10S430/122
摘要：本發明揭露一種化學增強型正光阻組合物，其可提供顯著改善線邊緣粗糙度的光阻圖案，並且其各種光阻性能如耐乾蝕刻性、靈敏度和解析度均優良，此組合物包括：(A)一種酸發生劑，其含有(a)由下式(I)表示的鹽，
其中每一個Q1和Q2表示烷基或環烷基，或Q1和Q2與相鄰的硫原子一起形成雜環基；Q3表示氫原子，Q4表示烷基或環烷基，或Q3和Q4與其相鄰的CHC(O)基一起形成2-氧代環烷基；Q5SO3-表示有機磺酸根離子；和
(b)至少一種鹽，選自由下式(IIa)表示的三苯基鹽和由下式(IIb)表示的二苯基碘鹽：
其中P1-P5各自獨立表示氫原子、羥基、烷基或烷氧基，P6SO3-和P7SO3-各自表示有機磺酸根離子；以及(B)一種樹脂，該樹脂包括具有對酸不穩定的基團的聚合單元，並且其本身不溶或微溶於鹼，但透過酸的作用變為可溶於鹼。
简体摘要：本发明揭露一种化学增强型正光阻组合物，其可提供显着改善线边缘粗糙度的光阻图案，并且其各种光阻性能如耐干蚀刻性、灵敏度和分辨率均优良，此组合物包括：(A)一种酸发生剂，其含有(a)由下式(I)表示的盐，其中每一个Q1和Q2表示烷基或环烷基，或Q1和Q2与相邻的硫原子一起形成杂环基；Q3表示氢原子，Q4表示烷基或环烷基，或Q3和Q4与其相邻的CHC(O)基一起形成2-氧代环烷基；Q5SO3-表示有机磺酸根离子；和 (b)至少一种盐，选自由下式(IIa)表示的三苯基盐和由下式(IIb)表示的二苯基碘盐：其中P1-P5各自独立表示氢原子、羟基、烷基或烷氧基，P6SO3-和P7SO3-各自表示有机磺酸根离子；以及(B)一种树脂，该树脂包括具有对酸不稳定的基团的聚合单元，并且其本身不溶或微溶于碱，但透过酸的作用变为可溶于碱。

2. 发明专利

TWI305866B 鹽及其用途 SULFONIUM SALT AND USE THEREOF 有权
简体标题： 盐及其用途 SULFONIUM SALT AND USE THEREOF
公开(公告)号：TWI305866B
公开(公告)日：2009-02-01
申请号：TW091134722
申请日：2002-11-29
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY LTD.
发明人：釜淵明 AKIRA KAMABUCHI , 荒木香 KAORU ARAKI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0395 , C07C311/48 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/122
摘要：本發明提供一種以下式(I)表示之鹽:

其中,Q1、Q2及Q3各自獨立地表示氫、羥基、具有1至6個碳原子之烷基、或具有1至6個碳原子之烷氧基,惟所有的Q1、Q2及Q3皆不相同;並且Q4及Q5各自獨立地表示具有1至8個碳原子之全氟烷基。
本發明亦提供一種化學改大型正向光阻劑組成物,該光阻劑組成物包括上述鹽及樹脂,該樹脂含有具有對酸呈不穩定之基團的結構單元,以及該樹脂本身係不溶或微溶於鹼性水溶液中,惟與酸作用後將變得可溶於鹼性水溶液中。
本發明復提供一種包括上述鹽與敏化劑之聚合反應起始劑組成物。
简体摘要：本发明提供一种以下式(I)表示之盐: 其中,Q1、Q2及Q3各自独立地表示氢、羟基、具有1至6个碳原子之烷基、或具有1至6个碳原子之烷氧基,惟所有的Q1、Q2及Q3皆不相同;并且Q4及Q5各自独立地表示具有1至8个碳原子之全氟烷基。本发明亦提供一种化学改大型正向光阻剂组成物,该光阻剂组成物包括上述盐及树脂,该树脂含有具有对酸呈不稳定之基团的结构单元,以及该树脂本身系不溶或微溶于碱性水溶液中,惟与酸作用后将变得可溶于碱性水溶液中。本发明复提供一种包括上述盐与敏化剂之聚合反应起始剂组成物。

3. 发明专利

TWI235887B 琥珀醯亞胺衍生物 SUCCINIMIDE DERIVATIVE 失效
简体标题：琥珀酰亚胺衍生物 SUCCINIMIDE DERIVATIVE
公开(公告)号：TWI235887B
公开(公告)日：2005-07-11
申请号：TW090128919
申请日：1996-10-24
申请人：住友化學工業股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY LTD.
发明人：釜淵明 AKIRA KAMABUCHI , 竹山尚幹 , 富岡淳 , 尾崎晴喜
IPC分类号： G03F
CPC分类号： C07D207/46 , Y02P20/55
摘要： N-(10-樟腦磺醯氧基)琥珀醯亞胺代表以化學式(I)：
(I)被提供彼可產生以N-羥基琥珀醯亞胺與10-樟腦磺酸，由此之鹽或由此之鹵化物反應。用此化合物為酸產生劑，一絕緣塗料組成物可得以包括鹼溶性樹脂具保護基可被酸之作用移除；且此絕緣塗料組成物具極佳之熱抗性、顯影後存留膜厚度之比例、膜厚度之均勻性、輪廓、光速及解析度並於時間延遲效應和樣式附著上有改良。
简体摘要： N-(10-樟脑磺酰氧基)琥珀酰亚胺代表以化学式(I)： (I)被提供彼可产生以N-羟基琥珀酰亚胺与10-樟脑磺酸，由此之盐或由此之卤化物反应。用此化合物为酸产生剂，一绝缘涂料组成物可得以包括碱溶性树脂具保护基可被酸之作用移除；且此绝缘涂料组成物具极佳之热抗性、显影后存留膜厚度之比例、膜厚度之均匀性、轮廓、光速及分辨率并于时间延迟效应和样式附着上有改良。

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