专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201604507A 致冷裝置审中-公开
简体标题：致冷设备
公开(公告)号：TW201604507A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104105828
申请日：2015-02-24
申请人：伸和控制工業股份有限公司 , SHINWA CONTROLS CO., LTD.
发明人：関篤史 , SEKI, ATSUSHI , 青木茂雄 , AOKI, SHIGEO , 細井史幸 , HOSOI, FUMIYUKI
IPC分类号： F25B1/00
CPC分类号： F25B49/02 , F25B1/00 , F25B25/005 , F25B49/022 , F25B49/025 , F25B2600/021 , F25B2600/0253 , F25B2700/1933 , F25B2700/21151 , Y02B30/741
摘要：提供一種致冷裝置，設定溫度及工件溫度的溫度差小，且冷凍回路中的蒸發器的冷媒吸入側及冷媒吐出側的溫度差幾乎無的情況也不會對於壓縮機施加過負荷，可穩定地保溫動作的功能。在此致冷裝置中，電路基板(PCB2)(106)是在設定溫度及工件溫度的溫度差少的保溫設定時，對於由溫度感測器(T2)被檢出的冷媒回路側冷媒檢出溫度進行PID運算，電路基板(PCB1)(105)是將依據其結果生成的對於變頻器(107)的驅動控制訊號串行通訊將壓縮機(102)的旋轉數由一定的範圍對應工件溫度地控制，且電路基板(106)是對於由溫度感測器(T1)被檢出的工件溫度進行PID運算，電路基板(105)是藉由依據其結果生成的脈衝訊號將步進馬達(SM1)驅動而將電子控制閥(EV1)中的開閉控制將冷媒流量控制。
简体摘要：提供一种致冷设备，设置温度及工件温度的温度差小，且冷冻回路中的蒸发器的冷媒吸入侧及冷媒吐出侧的温度差几乎无的情况也不会对于压缩机施加过负荷，可稳定地保温动作的功能。在此致冷设备中，电路基板(PCB2)(106)是在设置温度及工件温度的温度差少的保温设置时，对于由温度传感器(T2)被检出的冷媒回路侧冷媒检出温度进行PID运算，电路基板(PCB1)(105)是将依据其结果生成的对于变频器(107)的驱动控制信号串行通信将压缩机(102)的旋转数由一定的范围对应工件温度地控制，且电路基板(106)是对于由温度传感器(T1)被检出的工件温度进行PID运算，电路基板(105)是借由依据其结果生成的脉冲信号将步进马达(SM1)驱动而将电子控制阀(EV1)中的开闭控制将冷媒流量控制。

2. 发明专利

TW201541004A 冷卻氫供給站及氫冷卻裝置审中-公开
简体标题：冷却氢供给站及氢冷却设备
公开(公告)号：TW201541004A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW103143879
申请日：2014-12-16
申请人：伸和控制工業股份有限公司 , SHINWA CONTROLS CO., LTD.
发明人：関篤史 , SEKI, ATSUSHI , 樋口剛 , HIGUCHI, TSUYOSHI
IPC分类号： F17C5/06 , F25B1/00 , H01M8/06
CPC分类号： F17C5/06 , B60L11/1892 , B60L2240/36 , F17C2221/012 , F17C2223/0123 , F17C2223/036 , F17C2225/0123 , F17C2225/036 , F17C2227/0341 , F17C2227/0348 , F17C2227/0355 , F17C2227/0388 , F17C2250/0439 , F17C2260/025 , F17C2265/061 , F17C2265/065 , F17C2270/0168 , F17C2270/0184 , F25B25/005 , F25B41/04 , F25D17/02 , H01M8/04208 , Y02E60/321 , Y02P90/45 , Y02T90/34
摘要：本發明之冷卻氫供給站係具備有：供第1冷媒作循環的第1冷媒路；相對第1冷媒路的一部分而設，可進行第1冷媒的冷卻的水冷式冷凍機單元；供第2冷媒通流的第2冷媒路；在第1冷媒路的其他一部分與第2冷媒路的一部分之間，可藉由第1冷媒來進行第2冷媒的冷卻的第1熱交換器；貯藏有氫的氫貯藏部；供搬送被貯藏在氫貯藏部的氫的氫流路；及在第2冷媒路的其他一部分與氫流路的一部分之間，可藉由第2冷媒來進行氫的冷卻的第2熱交換器。氫係藉由第2熱交換器，被冷卻至-43℃至-20℃的溫度範圍內，氫冷卻能力係當將氫冷卻至-40℃時為13.5kW至16.5kW。
简体摘要：本发明之冷却氢供给站系具备有：供第1冷媒作循环的第1冷媒路；相对第1冷媒路的一部分而设，可进行第1冷媒的冷却的水冷式冷冻机单元；供第2冷媒通流的第2冷媒路；在第1冷媒路的其他一部分与第2冷媒路的一部分之间，可借由第1冷媒来进行第2冷媒的冷却的第1热交换器；贮藏有氢的氢贮藏部；供搬送被贮藏在氢贮藏部的氢的氢流路；及在第2冷媒路的其他一部分与氢流路的一部分之间，可借由第2冷媒来进行氢的冷却的第2热交换器。氢系借由第2热交换器，被冷却至-43℃至-20℃的温度范围内，氢冷却能力系当将氢冷却至-40℃时为13.5kW至16.5kW。

3. 发明专利

TWI620888B 冷卻氫供給站及氫冷卻裝置有权
简体标题：冷却氢供给站及氢冷却设备
公开(公告)号：TWI620888B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW103143879
申请日：2014-12-16
申请人：伸和控制工業股份有限公司 , SHINWA CONTROLS CO., LTD.
发明人：関篤史 , SEKI, ATSUSHI , 樋口剛 , HIGUCHI, TSUYOSHI
IPC分类号： F17C5/06 , F25B1/00 , H01M8/06
CPC分类号： F17C5/06 , B60L11/1892 , B60L2240/36 , F17C2221/012 , F17C2223/0123 , F17C2223/036 , F17C2225/0123 , F17C2225/036 , F17C2227/0341 , F17C2227/0348 , F17C2227/0355 , F17C2227/0388 , F17C2250/0439 , F17C2260/025 , F17C2265/061 , F17C2265/065 , F17C2270/0168 , F17C2270/0184 , F25B25/005 , F25B41/04 , F25D17/02 , H01M8/04208 , Y02E60/321 , Y02P90/45 , Y02T90/34

4. 发明专利

TWI603399B 電漿處理裝置用冷卻器裝置有权
简体标题：等离子处理设备用冷却器设备
公开(公告)号：TWI603399B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW105118590
申请日：2016-06-14
申请人：伸和控制工業股份有限公司 , SHINWA CONTROLS CO., LTD.
发明人：関篤史 , SEKI, ATSUSHI , 坂井清一郎 , SAKAI, SEIICHIRO
IPC分类号： H01L21/3065 , C23C16/46 , F25B1/00
CPC分类号： F25B49/02 , C23C14/24 , C23C14/541 , C23C16/4411 , C23C16/463 , F25B1/00 , F25B39/00 , F25B39/024 , F25B2400/01 , F25B2600/0253 , F25B2700/21151 , F25B2700/21152 , F25B2700/2117 , H01J37/32522 , H01J37/32724 , H01J37/32935 , H01J37/3299 , H01J2237/2001 , H01J2237/3344 , H01L21/3065 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L21/67248

5. 发明专利

TW201717275A 電漿處理裝置用冷卻器裝置审中-公开
简体标题：等离子处理设备用冷却器设备
公开(公告)号：TW201717275A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105118590
申请日：2016-06-14
申请人：伸和控制工業股份有限公司 , SHINWA CONTROLS CO., LTD.
发明人：関篤史 , SEKI, ATSUSHI , 坂井清一郎 , SAKAI, SEIICHIRO
IPC分类号： H01L21/3065 , C23C16/46 , F25B1/00
CPC分类号： F25B49/02 , C23C14/24 , C23C14/541 , C23C16/4411 , C23C16/463 , F25B1/00 , F25B39/00 , F25B39/024 , F25B2400/01 , F25B2600/0253 , F25B2700/21151 , F25B2700/21152 , F25B2700/2117 , H01J37/32522 , H01J37/32724 , H01J37/32935 , H01J37/3299 , H01J2237/2001 , H01J2237/3344 , H01L21/3065 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L21/67248
摘要：提供一種電漿處理裝置用冷卻器裝置，即使加工對象亦即作為電漿處理裝置中的目標之試料的表面積大，而兼作為試料台之下部電極為大型，仍保精度良好地做保溫控制，能夠將試料以要求之精度予以均一地蝕刻。該冷卻器裝置中，於套用在和具備了加熱裝置的冷媒循環連接之電漿處理裝置(400)的構成中，在兼作為當試料(404)的表面積大的情形下和其相對應之大型的試料台之下部電極(403)，附設有能夠將冷媒流路分歧而和冷媒循環以相連之方式連接之下部電極冷媒管的對於下部電極(403)之保溫部，針對從設置於保溫部的冷媒流路鄰近之溫度感測器檢測出的下部電極冷媒管冷媒檢測溫度，控制裝置將基於做包含比例、積分、微分在內之PID演算的結果而生成之加熱調整控制訊號傳輸給加熱裝置，以進行反饋控制而使得下部電極冷媒管冷媒檢測溫度成為設定溫度。
简体摘要：提供一种等离子处理设备用冷却器设备，即使加工对象亦即作为等离子处理设备中的目标之试料的表面积大，而兼作为试料台之下部电极为大型，仍保精度良好地做保温控制，能够将试料以要求之精度予以均一地蚀刻。该冷却器设备中，于套用在和具备了加热设备的冷媒循环连接之等离子处理设备(400)的构成中，在兼作为当试料(404)的表面积大的情形下和其相对应之大型的试料台之下部电极(403)，附设有能够将冷媒流路分歧而和冷媒循环以相连之方式连接之下部电极冷媒管的对于下部电极(403)之保温部，针对从设置于保温部的冷媒流路邻近之温度传感器检测出的下部电极冷媒管冷媒检测温度，控制设备将基于做包含比例、积分、微分在内之PID演算的结果而生成之加热调整控制信号传输给加热设备，以进行反馈控制而使得下部电极冷媒管冷媒检测温度成为设置温度。

6. 发明专利

TW201920887A 溫度控制裝置审中-公开
简体标题：温度控制设备
公开(公告)号：TW201920887A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107125422
申请日：2018-07-24
申请人：日商伸和控制工業股份有限公司 , SHINWA CONTROLS CO., LTD.
发明人：関篤史 , SEKI, ATSUSHI
IPC分类号： F25B1/00 , F16K11/07 , H01L21/3065
摘要：本發明之解決課題在於涵蓋複數個階段來控制溫度控制對象的控制溫度。　　本發明之解決手段如下：藉由第1流量控制用三向閥(103)來混合從第1供給手段(101)所供給之低溫側流體與從第2供給手段(102)所供給之高溫側流體，並作為溫度控制用流體而傳送至溫度控制對象，藉由第2流量控制用三向閥(108)來分配從溫度控制對象所返回之溫度控制用流體並送回第1及第2供給手段。藉由第3流量控制用三向閥(112)，使不從第1供給手段供給至第1流量控制用三向閥之低溫側流體，經由旁通流路與藉由第2流量控制用三向閥所分配之溫度控制用流體一同迴流至第1供給手段。另一方面，藉由第4流量控制用三向閥(116)，使不從第2供給手段供給至第1流量控制用三向閥之高溫側流體，經由旁通流路與藉由第2流量控制用三向閥所分配之溫度控制用流體一同迴流至第2供給手段。
简体摘要：本发明之解决课题在于涵盖复数个阶段来控制温度控制对象的控制温度。　　本发明之解决手段如下：借由第1流量控制用三向阀(103)来混合从第1供给手段(101)所供给之低温侧流体与从第2供给手段(102)所供给之高温侧流体，并作为温度控制用流体而发送至温度控制对象，借由第2流量控制用三向阀(108)来分配从温度控制对象所返回之温度控制用流体并送回第1及第2供给手段。借由第3流量控制用三向阀(112)，使不从第1供给手段供给至第1流量控制用三向阀之低温侧流体，经由旁通流路与借由第2流量控制用三向阀所分配之温度控制用流体一同回流至第1供给手段。另一方面，借由第4流量控制用三向阀(116)，使不从第2供给手段供给至第1流量控制用三向阀之高温侧流体，经由旁通流路与借由第2流量控制用三向阀所分配之温度控制用流体一同回流至第2供给手段。

7. 发明专利

TWI644070B 冷卻氫供給站及氫冷卻裝置有权
简体标题：冷却氢供给站及氢冷却设备
公开(公告)号：TWI644070B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW105142508
申请日：2016-12-21
申请人：伸和控制工業股份有限公司 , SHINWA CONTROLS CO., LTD.
发明人：関篤史 , SEKI, ATSUSHI , 酒井勝敏 , SAKAI, KATSUTOSHI , 井上紘文 , INOUE, HIROFUMI
IPC分类号： F25J1/02 , F25B41/00 , B60L11/18

8. 发明专利

TW201736792A 冷卻氫供給站及氫冷卻裝置审中-公开
简体标题：冷却氢供给站及氢冷却设备
公开(公告)号：TW201736792A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105142508
申请日：2016-12-21
申请人：伸和控制工業股份有限公司 , SHINWA CONTROLS CO., LTD.
发明人：関篤史 , SEKI, ATSUSHI , 酒井勝敏 , SAKAI, KATSUTOSHI , 井上紘文 , INOUE, HIROFUMI
IPC分类号： F25J1/02 , F25B41/00 , B60L11/18
CPC分类号： F17C5/06 , F25B1/00 , F25D17/02
摘要：提供一種，採用藉由變頻控制來驅動空冷扇的空冷式凝結器，且可理想地高精度實現對氫的充分高效率冷卻的冷卻氫供給站、及該冷卻氫供給站所使用的氫冷卻裝置。本發明係為一種氫冷卻裝置，係具備：空冷式凝結器，係相對第1冷媒路的一部分而設，藉由驅動空冷扇而可進行第1冷媒之冷卻；和第1熱交換器，係在第1冷媒路的其他一部分與第2冷媒路的一部分之間，可藉由第1冷媒來進行第2冷媒之冷卻；和第2熱交換器，係在第2冷媒路的其他一部分與氫流路的一部分之間，可藉由第2冷媒來進行氫的冷卻。空冷扇的驅動旋轉數係被變頻控制，以使得從空冷式凝結器至第1熱交換器為止的第1冷媒之壓力會被維持在1.5MPa~1.7MPa之範圍內。
简体摘要：提供一种，采用借由变频控制来驱动空冷扇的空冷式凝结器，且可理想地高精度实现对氢的充分高效率冷却的冷却氢供给站、及该冷却氢供给站所使用的氢冷却设备。本发明系为一种氢冷却设备，系具备：空冷式凝结器，系相对第1冷媒路的一部分而设，借由驱动空冷扇而可进行第1冷媒之冷却；和第1热交换器，系在第1冷媒路的其他一部分与第2冷媒路的一部分之间，可借由第1冷媒来进行第2冷媒之冷却；和第2热交换器，系在第2冷媒路的其他一部分与氢流路的一部分之间，可借由第2冷媒来进行氢的冷却。空冷扇的驱动旋转数系被变频控制，以使得从空冷式凝结器至第1热交换器为止的第1冷媒之压力会被维持在1.5MPa~1.7MPa之范围内。

9. 发明专利

TWI595199B 致冷裝置有权
简体标题：致冷设备
公开(公告)号：TWI595199B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW104105828
申请日：2015-02-24
申请人：伸和控制工業股份有限公司 , SHINWA CONTROLS CO., LTD.
发明人：関篤史 , SEKI, ATSUSHI , 青木茂雄 , AOKI, SHIGEO , 細井史幸 , HOSOI, FUMIYUKI
IPC分类号： F25B1/00
CPC分类号： F25B49/02 , F25B1/00 , F25B25/005 , F25B49/022 , F25B49/025 , F25B2600/021 , F25B2600/0253 , F25B2700/1933 , F25B2700/21151 , Y02B30/741

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式