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    • 2. 发明专利
    • 用於離子束中和之方法及裝置
    • 用于离子束中和之方法及设备
    • TW350974B
    • 1999-01-21
    • TW086110393
    • 1997-07-22
    • 伊藤公司
    • 陳中
    • H01L
    • H01J37/026H01J2237/0041H01J2237/31701
    • 用於沿著離子束路徑維持一離子束(14)從離子源(12)到一離子植入站(16)的方法與裝置,在離子植入站處工件係被加以離子束處理。一離子束中和器(44)是被定位於離子處理站之上游,並包括約束離子束路徑的吸持結構(120)。一定位於吸持結構內的電子源(126)將電子發射到離子束。由吸持結構支撐的一排磁鐵(124)產生一磁場,以吸持在吸持結構內移動的電子。一內部磁鐵過濾場是是藉由復數個軸向延長的過濾桿(208)而建立於吸持結構內,該些過濾桿具有界限離子束的壓縮磁鐵(224),其方向大致被定位成於離子束路徑平行。此內部磁場限制較高能量之電子(300)離開離子束路徑,並允許較低能量之電子(301)沿著離子束漂移。
    • 用于沿着离子束路径维持一离子束(14)从离子源(12)到一离子植入站(16)的方法与设备,在离子植入站处工件系被加以离子束处理。一离子束中和器(44)是被定位于离子处理站之上游,并包括约束离子束路径的吸持结构(120)。一定位于吸持结构内的电子源(126)将电子发射到离子束。由吸持结构支撑的一排磁铁(124)产生一磁场,以吸持在吸持结构内移动的电子。一内部磁铁过滤场是是借由复数个轴向延长的过滤杆(208)而创建于吸持结构内,该些过滤杆具有界限离子束的压缩磁铁(224),其方向大致被定位成于离子束路径平行。此内部磁场限制较高能量之电子(300)离开离子束路径,并允许较低能量之电子(301)沿着离子束漂移。