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1. 发明专利

TWI431168B 工件之表面處理系統有权
简体标题：工件之表面处理系统
公开(公告)号：TWI431168B
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：TW097119436
申请日：2008-05-26
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：杉浦裕 , SUGIURA, YUTAKA , 濱田良介 , HAMADA, RYOSUKE , 植村哲朗 , UEMURA, TETSURO , 中田英樹 , NAKADA, HIDEKI
IPC分类号： C25D19/00
CPC分类号： B08B9/0821 , B08B9/28 , B65G37/02 , C25D17/00 , C25D17/16 , Y10S134/902

2. 发明专利

TWI433966B 表面處理裝置有权
简体标题：表面处理设备
公开(公告)号：TWI433966B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW095149926
申请日：2006-12-29
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：杉浦裕 , SUGIURA, YUTAKA , 濱田良介 , HAMADA, RYOSUKE , 植村哲朗 , UEMURA, TETSURO , 中田英樹 , NAKADA, HIDEKI
IPC分类号： C25D17/16 , C25D17/18

3. 发明专利

TWI429788B 旋轉表面處理裝置之運轉條件決定方法有权
简体标题：旋转表面处理设备之运转条件决定方法
公开(公告)号：TWI429788B
公开(公告)日：2014-03-11
申请号：TW095149738
申请日：2006-12-28
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：杉浦裕 , SUGIURA, YUTAKA , 森田正信 , MORITA, MASANOBU
IPC分类号： C25D17/16 , G05B11/01 , C25D5/08
CPC分类号： C25D21/12 , C25D17/00 , C25D17/02 , G05B19/042 , G05B2219/23399 , G05B2219/23448 , G05B2219/25064

4. 发明专利

TW201346075A 工件回收裝置审中-公开
简体标题：工件回收设备
公开(公告)号：TW201346075A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102128173
申请日：2008-05-26
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：杉浦裕 , SUGIURA, YUTAKA , 濱田良介 , HAMADA, RYOSUKE , 植村哲朗 , UEMURA, TETSURO , 中田英樹 , NAKADA, HIDEKI
IPC分类号： C25D19/00
CPC分类号： B08B9/0821 , B08B9/28 , B65G37/02 , C25D17/00 , C25D17/16 , Y10S134/902
摘要：本發明係關於工件之表面處理系統(1)，其特徵在於：將收納有工件之處理容器(9)依次搬送至一系列的裝置中以用於各裝置之作業，由此獲得經表面處理之工件，上述工件之表面處理系統包括：搬送裝置(2)，其將上述處理容器依次搬送至系統內之一系列的裝置中；搬入搬出裝置(3)，其將處理容器搬入至搬送裝置中，又將處理容器自搬送裝置搬出；表面處理裝置(4)，其自搬送裝置中接受處理容器，且一面使該處理容器旋轉，一面向該處理容器內供給表面處理液，以對工件實施表面處理；以及工件回收裝置(5)，其自搬送裝置中接受處理容器，使該處理容器上下反轉，自下方向該處理容器內噴水以使上述工件流出，並收集該工件；上述搬送裝置之搬送順序為，表面處理裝置、其次工件回收裝置。
简体摘要：本发明系关于工件之表面处理系统(1)，其特征在于：将收纳有工件之处理容器(9)依次搬送至一系列的设备中以用于各设备之作业，由此获得经表面处理之工件，上述工件之表面处理系统包括：搬送设备(2)，其将上述处理容器依次搬送至系统内之一系列的设备中；搬入搬出设备(3)，其将处理容器搬入至搬送设备中，又将处理容器自搬送设备搬出；表面处理设备(4)，其自搬送设备中接受处理容器，且一面使该处理容器旋转，一面向该处理容器内供给表面处理液，以对工件实施表面处理；以及工件回收设备(5)，其自搬送设备中接受处理容器，使该处理容器上下反转，自下方向该处理容器内喷水以使上述工件流出，并收集该工件；上述搬送设备之搬送顺序为，表面处理设备、其次工件回收设备。

5. 发明专利

TW201346074A 水洗裝置审中-公开
简体标题：水洗设备
公开(公告)号：TW201346074A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102128172
申请日：2008-05-26
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：杉浦裕 , SUGIURA, YUTAKA , 濱田良介 , HAMADA, RYOSUKE , 植村哲朗 , UEMURA, TETSURO , 中田英樹 , NAKADA, HIDEKI
IPC分类号： C25D19/00
CPC分类号： B08B9/0821 , B08B9/28 , B65G37/02 , C25D17/00 , C25D17/16 , Y10S134/902
摘要：本發明係關於工件之表面處理系統(1)，其特徵在於：將收納有工件之處理容器(9)依次搬送至一系列的裝置中以用於各裝置之作業，由此獲得經表面處理之工件，上述工件之表面處理系統包括：搬送裝置(2)，其將上述處理容器依次搬送至系統內之一系列的裝置中；搬入搬出裝置(3)，其將處理容器搬入至搬送裝置中，又將處理容器自搬送裝置搬出；表面處理裝置(4)，其自搬送裝置中接受處理容器，且一面使該處理容器旋轉，一面向該處理容器內供給表面處理液，以對工件實施表面處理；以及工件回收裝置(5)，其自搬送裝置中接受處理容器，使該處理容器上下反轉，自下方向該處理容器內噴水以使上述工件流出，並收集該工件；上述搬送裝置之搬送順序為，表面處理裝置、其次工件回收裝置。
简体摘要：本发明系关于工件之表面处理系统(1)，其特征在于：将收纳有工件之处理容器(9)依次搬送至一系列的设备中以用于各设备之作业，由此获得经表面处理之工件，上述工件之表面处理系统包括：搬送设备(2)，其将上述处理容器依次搬送至系统内之一系列的设备中；搬入搬出设备(3)，其将处理容器搬入至搬送设备中，又将处理容器自搬送设备搬出；表面处理设备(4)，其自搬送设备中接受处理容器，且一面使该处理容器旋转，一面向该处理容器内供给表面处理液，以对工件实施表面处理；以及工件回收设备(5)，其自搬送设备中接受处理容器，使该处理容器上下反转，自下方向该处理容器内喷水以使上述工件流出，并收集该工件；上述搬送设备之搬送顺序为，表面处理设备、其次工件回收设备。

6. 发明专利

TWI482886B 工件回收裝置有权
简体标题：工件回收设备
公开(公告)号：TWI482886B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW102128173
申请日：2008-05-26
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：杉浦裕 , SUGIURA, YUTAKA , 濱田良介 , HAMADA, RYOSUKE , 植村哲朗 , UEMURA, TETSURO , 中田英樹 , NAKADA, HIDEKI
IPC分类号： C25D19/00
CPC分类号： B08B9/0821 , B08B9/28 , B65G37/02 , C25D17/00 , C25D17/16 , Y10S134/902

7. 发明专利

TWI482885B 水洗裝置有权
简体标题：水洗设备
公开(公告)号：TWI482885B
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW102128172
申请日：2008-05-26
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：杉浦裕 , SUGIURA, YUTAKA , 濱田良介 , HAMADA, RYOSUKE , 植村哲朗 , UEMURA, TETSURO , 中田英樹 , NAKADA, HIDEKI
IPC分类号： C25D19/00
CPC分类号： B08B9/0821 , B08B9/28 , B65G37/02 , C25D17/00 , C25D17/16 , Y10S134/902

8. 发明专利

TWI352750B 小物體的表面處理裝置 SURFACE TREATMENT APPARATUS FOR SMALL OBJECT 有权
简体标题：小物体的表面处理设备 SURFACE TREATMENT APPARATUS FOR SMALL OBJECT
公开(公告)号：TWI352750B
公开(公告)日：2011-11-21
申请号：TW096119540
申请日：2007-05-31
申请人：上村工業股份有限公司
发明人：杉浦裕 , 奧田朋士 , 中田英樹
IPC分类号： C25D
CPC分类号： C25D17/22 , C25D21/10
摘要：本發明之小物體的鍍覆處理裝置(1)，係藉由螺栓(26)將基板(23)、底板(24)、電極環(21)、及罩體(25)一體化所構成者，其藉由垂直旋轉軸(3)使處理容器(2)旋轉，使小物體(100)一面接觸電極環(21)接觸，且一面經由流出機構使鍍覆液(4)從處理容器(2)內向外流通，同時藉由向處理容器(2)內之鍍覆液(4)通電，而對小物體(100)施行鍍覆，該小物體的鍍覆處理裝置之特徵在於：流出機構係藉由在底板(24)與電極環(21)之間，於圓周方向每隔適當間隔夾持比小物體(100)之最小尺寸薄的薄板構件(61)，而在鄰接之薄板構件(61)之間所構成之間隙通路。
简体摘要：本发明之小物体的镀覆处理设备(1)，系借由螺栓(26)将基板(23)、底板(24)、电极环(21)、及罩体(25)一体化所构成者，其借由垂直旋转轴(3)使处理容器(2)旋转，使小物体(100)一面接触电极环(21)接触，且一面经由流出机构使镀覆液(4)从处理容器(2)内向外流通，同时借由向处理容器(2)内之镀覆液(4)通电，而对小物体(100)施行镀覆，该小物体的镀覆处理设备之特征在于：流出机构系借由在底板(24)与电极环(21)之间，于圆周方向每隔适当间隔夹持比小物体(100)之最小尺寸薄的薄板构件(61)，而在邻接之薄板构件(61)之间所构成之间隙通路。

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