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1. 发明专利

TWI592520B 表面處理裝置有权
简体标题：表面处理设备
公开(公告)号：TWI592520B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW102120550
申请日：2013-06-10
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：堀田輝幸 , HOTTA, TERUYUKI , 山本久光 , YAMAMOTO, HISAMITSU , 內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI , 石崎隆浩 , ISHIZAKI, TAKAHIRO
IPC分类号： C25D17/00 , C25D21/00 , C23C18/16
CPC分类号： B05C3/09 , B05B16/20 , B05C3/00 , B05C5/002 , B05C11/11 , B08B3/041 , C23C18/1619 , Y10T137/8593

2. 发明专利

TW201920775A 表面處理裝置及表面處理方法审中-公开
简体标题：表面处理设备及表面处理方法
公开(公告)号：TW201920775A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131845
申请日：2018-09-11
申请人：日商上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：奥田朋士 , OKUDA, TOMOJI , 松山大輔 , MATSUYAMA, DAISUKE , 立花司 , TACHIBANA, SHINJI , 內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI
IPC分类号： C25D5/08 , C25D21/12
摘要：提供一種在對被處理物實施表面處理時，可提升表面處理品質的表面處理裝置及表面處理方法。一種表面處理裝置，係對至少一部分被浸漬於液的被處理物實施表面處理之裝置，其特徵為：該裝置，係具有朝向被處理物的被處理面噴射處理液的噴射部，前述噴射部係對向於前述被處理物而設，且具有噴射部旋轉手段及被處理物旋轉手段之中至少一方，該噴射部旋轉手段，係在相對於前述被處理物的被處理面平行的面內使前述噴射部旋轉，該被處理物旋轉手段，係在相對於從前述噴射部噴射的處理液的噴射方向垂直的面內使前述被處理物旋轉。
简体摘要：提供一种在对被处理物实施表面处理时，可提升表面处理品质的表面处理设备及表面处理方法。一种表面处理设备，系对至少一部分被浸渍于液的被处理物实施表面处理之设备，其特征为：该设备，系具有朝向被处理物的被处理面喷射处理液的喷射部，前述喷射部系对向于前述被处理物而设，且具有喷射部旋转手段及被处理物旋转手段之中至少一方，该喷射部旋转手段，系在相对于前述被处理物的被处理面平行的面内使前述喷射部旋转，该被处理物旋转手段，系在相对于从前述喷射部喷射的处理液的喷射方向垂直的面内使前述被处理物旋转。

3. 发明专利

TW201827644A 表面處理裝置审中-公开
简体标题：表面处理设备
公开(公告)号：TW201827644A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106121746
申请日：2017-06-29
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI , 仲宣彥 , NAKA, NOBUHIKO
IPC分类号： C23C18/31 , C25D17/00 , C25D17/06
摘要：本發明提供一種表面處理裝置，能夠抑制因粉塵的混入而導致的不良產生。輥以能夠旋轉的方式固定在從橫防護壁突出設置的旋轉軸上。橫防護壁垂直固定在下防護壁上，該下防護壁固定在外壁上。吊架的垂下板穿過兩側的下防護壁之間的空間而對夾緊件進行支承。在由橫防護壁、下防護壁、外壁形成的空間中充滿了水等液體。液體被充滿到將旋轉軸的一半覆蓋的程度。因此，能夠通過液體來捕捉搬送機構所產生的微小的粉塵，防止粉塵在空氣中漂浮而從空間朝向基板進入。
简体摘要：本发明提供一种表面处理设备，能够抑制因粉尘的混入而导致的不良产生。辊以能够旋转的方式固定在从横防护壁突出设置的旋转轴上。横防护壁垂直固定在下防护壁上，该下防护壁固定在外壁上。吊架的垂下板穿过两侧的下防护壁之间的空间而对夹紧件进行支承。在由横防护壁、下防护壁、外壁形成的空间中充满了水等液体。液体被充满到将旋转轴的一半覆盖的程度。因此，能够通过液体来捕捉搬送机构所产生的微小的粉尘，防止粉尘在空气中漂浮而从空间朝向基板进入。

4. 发明专利

TWI630176B 無電解電鍍用前處理劑、以及使用前述無電解電鍍用前處理劑之印刷配線基板之前處理方法、以及其製造方法有权
简体标题：无电解电镀用前处理剂、以及使用前述无电解电镀用前处理剂之印刷配线基板之前处理方法、以及其制造方法
公开(公告)号：TWI630176B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW103120028
申请日：2014-06-10
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：西條義司 , SAIJO, YOSHIKAZU , 山本久光 , YAMAMOTO, HISAMITSU , 內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI , 岡町琢也 , OKAMACHI, TAKUYA , 米田拓也 , KOMEDA, TAKUYA
IPC分类号： C01C1/16 , C07C43/13 , C01B33/113 , C23C18/24 , H05K3/38

5. 发明专利

TWI554606B 去鑽污液及去鑽污處理方法有权
简体标题：去钻污液及去钻污处理方法
公开(公告)号：TWI554606B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW101134467
申请日：2012-09-20
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：西條義司 , SAIJO, YOSHIKAZU , 山本久光 , YAMAMOTO, HISAMITSU , 內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI
IPC分类号： C11D7/06 , C11D7/18 , H05K3/00 , H05K3/42
CPC分类号： C09K13/02 , H05K3/0055 , H05K3/381 , H05K2203/0793 , H05K2203/0796

6. 发明专利

TW201829081A 超音波處理裝置审中-公开
简体标题：超音波处理设备
公开(公告)号：TW201829081A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106136293
申请日：2017-10-23
申请人：日商上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：山本久光 , YAMAMOTO, HISAMITSU , 內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI , 西條義司 , SAIJO, YOSHIKAZU , 奥田朋士 , OKUDA, TOMOJI , 西中豊 , NISHINAKA, YUTAKA , 中西巧典 , NAKANISHI, YOSHINORI
IPC分类号： B08B3/12 , H01L21/304
摘要：本發明的課題，是在於提供一種得以防止超音波處理不均勻的超音波處理裝置。　　本發明的解決手段具有以下要旨。本發明的超音波處理裝置，係具有：用以對被處理物實施超音波處理的超音波槽、及對上述被處理物的表面側發出超音波振盪的第1超音波振動體、以及對上述被處理物的背面側發出超音波振盪的第2超音波振動體；上述第1超音波振動體，是以與上述第2超音波振動體不相向的方式所配置。
简体摘要：本发明的课题，是在于提供一种得以防止超音波处理不均匀的超音波处理设备。　　本发明的解决手段具有以下要旨。本发明的超音波处理设备，系具有：用以对被处理物实施超音波处理的超音波槽、及对上述被处理物的表面侧发出超音波振荡的第1超音波振动体、以及对上述被处理物的背面侧发出超音波振荡的第2超音波振动体；上述第1超音波振动体，是以与上述第2超音波振动体不相向的方式所配置。

7. 发明专利

TW201823651A 乾燥裝置审中-公开
简体标题：干燥设备
公开(公告)号：TW201823651A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106131889
申请日：2017-09-18
申请人：日商上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI , 奥田朋士 , OKUDA, TOMOJI , 西中豊 , NISHINAKA, YUTAKA , 松山大輔 , MATSUYAMA, DAISUKE
IPC分类号： F26B3/06 , H01L21/02
摘要：本發明的課題在於提供一種可抑制被處理物的乾燥不均勻等之乾燥不良的乾燥裝置。　　解決手段為本發明的乾燥裝置，其要旨在於具備：進行被處理物的乾燥處理之乾燥槽、及上述被處理物的固定具、及與上述被處理物的表面相向之加熱手段、以及與上述被處理物的背面相向之加熱手段；且將上述加熱手段的長邊方向相對於水平線以傾斜之方式設置。
简体摘要：本发明的课题在于提供一种可抑制被处理物的干燥不均匀等之干燥不良的干燥设备。　　解决手段为本发明的干燥设备，其要旨在于具备：进行被处理物的干燥处理之干燥槽、及上述被处理物的固定具、及与上述被处理物的表面相向之加热手段、以及与上述被处理物的背面相向之加热手段；且将上述加热手段的长边方向相对于水平线以倾斜之方式设置。

8. 发明专利

TW201416496A 表面處理裝置审中-公开
简体标题：表面处理设备
公开(公告)号：TW201416496A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW102132001
申请日：2013-09-05
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：堀田輝幸 , HOTTA, TERUYUKI , 山本久光 , YAMAMOTO, HISAMITSU , 石崎隆浩 , ISHIZAKI, TAKAHIRO , 內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI , 岡町琢也 , OKAMACHI, TAKUYA , 星俊作 , HOSHI, SYUNSAKU , 淺富士夫 , ASA, FUJIO , 水本純司 , MIZUMOTO, JUNJI
IPC分类号： C25D17/06
CPC分类号： C23C18/1619 , C23C18/1628 , H05K3/0085 , H05K3/181 , H05K2203/1518
摘要：本發明提供表面處理裝置。為了以高品質對沿豎直方向被保持的工件進行非電解鍍層處理等表面處理，在電解鍍銅槽(200)等各槽設置具有噴出口(6)的噴液部(4)，處理液(Q)從噴液部(4)的噴出口(6)朝向板狀工件(10)相對於水平面向斜上方噴出，使處理液(Q)與被搬送用吊架(16)把持的板狀工件(10)的上部接觸，在處理液(Q)順著板狀工件(10)移動的期間，使處理液(Q)附著於板狀工件(10)的表面。
简体摘要：本发明提供表面处理设备。为了以高品质对沿竖直方向被保持的工件进行非电解镀层处理等表面处理，在电解镀铜槽(200)等各槽设置具有喷出口(6)的喷液部(4)，处理液(Q)从喷液部(4)的喷出口(6)朝向板状工件(10)相对于水平面向斜上方喷出，使处理液(Q)与被搬送用吊架(16)把持的板状工件(10)的上部接触，在处理液(Q)顺着板状工件(10)移动的期间，使处理液(Q)附着于板状工件(10)的表面。

9. 发明专利

TW201331357A 去鑽污液及去鑽污處理方法审中-公开
简体标题：去钻污液及去钻污处理方法
公开(公告)号：TW201331357A
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW101134467
申请日：2012-09-20
申请人：上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：西條義司 , SAIJO, YOSHIKAZU , 山本久光 , YAMAMOTO, HISAMITSU , 內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI
IPC分类号： C11D7/06 , C11D7/18 , H05K3/00 , H05K3/42
CPC分类号： C09K13/02 , H05K3/0055 , H05K3/381 , H05K2203/0793 , H05K2203/0796
摘要：本發明提供一種去鑽污液，其係將形成於樹脂基板的非貫通孔內的鑽污確實除去，同時不會嚴重破壞該樹脂基板表面，可形成密著性優異的鍍敷被膜；及使用該去鑽污液之去鑽污處理方法。本發明係使用含有0.2~0.4 mol/L的過錳酸鹽、及鹼金屬氫氧化物，而過錳酸鹽與鹼金屬氫氧化物之莫耳濃度比為1：5~1：20的去鑽污液。
简体摘要：本发明提供一种去钻污液，其系将形成于树脂基板的非贯通孔内的钻污确实除去，同时不会严重破坏该树脂基板表面，可形成密着性优异的镀敷被膜；及使用该去钻污液之去钻污处理方法。本发明系使用含有0.2~0.4 mol/L的过锰酸盐、及碱金属氢氧化物，而过锰酸盐与碱金属氢氧化物之莫耳浓度比为1：5~1：20的去钻污液。

10. 发明专利

TW202026463A 表面處理裝置审中-公开
简体标题：表面处理设备
公开(公告)号：TW202026463A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108140677
申请日：2019-11-08
申请人：日商上村工業股份有限公司 , C. UYEMURA & CO., LTD.
发明人：內海雅之 , UTSUMI, MASAYUKI , 竹內雅治 , TAKEUCHI, MASAHARU
IPC分类号： C23C18/54
摘要：本發明提供表面處理裝置，減少澆流式的表面處理裝置的處理液的飛散量。在各處理室的入口側和出口側具有膜形成機構。膜形成機構以流量5L/min～10L/min噴射不間斷的0.01 MPa 程度的層流狀的液體。該液體膜防止在飛散防止部件的表面反彈的液滴彈起而進入處理室。即使板狀工件晃動，由於由膜形成機構成的膜是液體，因此即使板狀工件與液體膜碰撞，液體也會沿板狀工件流動。由此，會減小板狀工件的晃動。減小各處理室內的空氣向搬運方向的流入量。
简体摘要：本发明提供表面处理设备，减少浇流式的表面处理设备的处理液的飞散量。在各处理室的入口侧和出口侧具有膜形成机构。膜形成机构以流量5L/min～10L/min喷射不间断的0.01 MPa 程度的层流状的液体。该液体膜防止在飞散防止部件的表面反弹的液滴弹起而进入处理室。即使板状工件晃动，由于由膜形成机构成的膜是液体，因此即使板状工件与液体膜碰撞，液体也会沿板状工件流动。由此，会减小板状工件的晃动。减小各处理室内的空气向搬运方向的流入量。

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