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1. 发明专利

TWI450358B 電漿處理裝置之基板支持座失效
简体标题：等离子处理设备之基板支持座
公开(公告)号：TWI450358B
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：TW098137014
申请日：2009-10-30
申请人：三菱重工業股份有限公司 , MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：松田龍一 , MATSUDA, RYUICHI , 松倉明彥 , MATSUKURA, AKIHIKO , 上滿憲二郎 , UEMITSU, KENJIRO , 柳田尚志 , YANAGIDA, HISASHI
IPC分类号： H01L21/683 , H01J37/32
CPC分类号： H01L21/6831 , C23C16/4586 , H01L21/67069

2. 发明专利

TW201032287A 電漿處理裝置之基板支撐台失效
简体标题：等离子处理设备之基板支撑台
公开(公告)号：TW201032287A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：TW098129165
申请日：2009-08-28
申请人：三菱重工業股份有限公司
发明人：加福秀考 , 松倉明彥 , 柳田尚志
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C16/4586 , C23C16/4581 , C23C16/46 , H01J37/32724 , H01L21/6831
摘要：本發明係提供一種以較高溫度穩定地控制基板之電漿處理裝置之基板支撐台。該基座支持台係具有:靜電吸附板14,其內藏用於靜電性吸附基板W之第1電極、用於對基板W施加偏壓之第2電極,及用於加熱基板之加熱器;筒狀突緣13,其係熔著於靜電吸附板14之下面,包含具有與靜電吸附板14同等之熱特性之合金而構成;及支持台10,其係於與突緣13之下面相對之面具有O型環12,介以O型環12而安裝突緣13;且,於改變施加於基板W之偏壓功率時,改變加熱基板W之加熱功率,以使基板W之溫度保持恆定。
简体摘要：本发明系提供一种以较高温度稳定地控制基板之等离子处理设备之基板支撑台。该基座支持台系具有:静电吸附板14,其内藏用于静电性吸附基板W之第1电极、用于对基板W施加偏压之第2电极,及用于加热基板之加热器;筒状突缘13,其系熔着于静电吸附板14之下面,包含具有与静电吸附板14同等之热特性之合金而构成;及支持台10,其系于与突缘13之下面相对之面具有O型环12,介以O型环12而安装突缘13;且,于改变施加于基板W之偏压功率时,改变加热基板W之加热功率,以使基板W之温度保持恒定。

3. 发明专利

TWI248984B 靜電夾盤支持機構及支持台裝置及電漿處理裝置失效
简体标题：静电夹盘支持机构及支持台设备及等离子处理设备
公开(公告)号：TWI248984B
公开(公告)日：2006-02-11
申请号：TW092119683
申请日：2003-07-18
申请人：三菱重工業股份有限公司 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：柳田尚志
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/4586 , H01L21/6831
摘要：本發明的課題：作成可容易地進行靜電夾盤板32的安裝及拆卸的靜電夾盤支持機構。
本發明的解決手段：將靜電夾盤板32以推壓固定具固定在支持台31，使得銅管34下端部的插座45抗拒依壓縮彈簧構件53的彈起固定具51的推上力而嵌合在嵌合插座47，藉由解放來自支持台31的靜電夾盤板32的固定而依壓縮彈簧構件53的彈起固定具51的推上力來推上鋼管34的插頭45，與靜電夾盤板32一起朝上方側移動鋼管34，作成可容易地進行靜電夾盤板32的安裝及拆卸的靜電夾盤支持機構。
简体摘要：本发明的课题：作成可容易地进行静电夹盘板32的安装及拆卸的静电夹盘支持机构。本发明的解决手段：将静电夹盘板32以推压固定具固定在支持台31，使得铜管34下端部的插座45抗拒依压缩弹簧构件53的弹起固定具51的推上力而嵌合在嵌合插座47，借由解放来自支持台31的静电夹盘板32的固定而依压缩弹簧构件53的弹起固定具51的推上力来推上钢管34的插头45，与静电夹盘板32一起朝上方侧移动钢管34，作成可容易地进行静电夹盘板32的安装及拆卸的静电夹盘支持机构。

4. 发明专利

TWI406355B 電漿處理裝置之基板支撐台失效
简体标题：等离子处理设备之基板支撑台
公开(公告)号：TWI406355B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：TW098129165
申请日：2009-08-28
申请人：三菱重工業股份有限公司 , MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：加福秀考 , KAFUKU, HIDETAKA , 松倉明彥 , MATSUKURA, AKIHIKO , 柳田尚志 , YANAGIDA, HISASHI
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： C23C16/4586 , C23C16/4581 , C23C16/46 , H01J37/32724 , H01L21/6831

5. 发明专利

TW201029104A 電漿處理裝置之基板支持座失效
简体标题：等离子处理设备之基板支持座
公开(公告)号：TW201029104A
公开(公告)日：2010-08-01
申请号：TW098137014
申请日：2009-10-30
申请人：三菱重工業股份有限公司
发明人：松田龍一 , 松倉明彥 , 上滿憲二郎 , 柳田尚志
IPC分类号： H01L , H01J
CPC分类号： H01L21/6831 , C23C16/4586 , H01L21/67069
摘要：本發明提供一種構造簡單並可防止連接端子之放電的電漿處理裝置之基板支持座。本發明之電漿處理裝置之基板支持座，其係將靜電吸附基板W且對基板W施加偏壓之靜電吸盤13設置於真空室內之支持座10上面者，其中在支持座10上面設置O形環12，將O形環12之外周側作為真空室密閉，且將共用靜電吸附電壓供給及偏壓電力供給之共用連接端子17配置於O形環12之內周側之大氣側。
简体摘要：本发明提供一种构造简单并可防止连接端子之放电的等离子处理设备之基板支持座。本发明之等离子处理设备之基板支持座，其系将静电吸附基板W且对基板W施加偏压之静电吸盘13设置于真空室内之支持座10上面者，其中在支持座10上面设置O形环12，将O形环12之外周侧作为真空室密闭，且将共享静电吸附电压供给及偏压电力供给之共享连接端子17配置于O形环12之内周侧之大气侧。

6. 发明专利

TW200403355A 靜電夾盤支持機構及支持台裝置及電漿處理裝置失效
简体标题：静电夹盘支持机构及支持台设备及等离子处理设备
公开(公告)号：TW200403355A
公开(公告)日：2004-03-01
申请号：TW092119683
申请日：2003-07-18
申请人：三菱重工業股份有限公司 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：柳田尚志
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/4586 , H01L21/6831
摘要：本發明的課題：作成可容易地進行靜電夾盤板32的安裝及拆卸的靜電夾盤支持機構。本發明的解決手段：將靜電夾盤板32以推壓固定具固定在支持台31，使得銅管34下端部的插座45抗拒依壓縮彈簧構件53的彈起固定具51的推上力而嵌合在嵌合插座47，藉由解放來自支持台31的靜電夾盤板32的固定而依壓縮彈簧構件53的彈起固定具51的推上力來推上鋼管34的插頭45，與靜電夾盤板32一起朝上方側移動鋼管34，作成可容易地進行靜電夾盤板32的安裝及拆卸的靜電夾盤支持機構。
简体摘要：本发明的课题：作成可容易地进行静电夹盘板32的安装及拆卸的静电夹盘支持机构。本发明的解决手段：将静电夹盘板32以推压固定具固定在支持台31，使得铜管34下端部的插座45抗拒依压缩弹簧构件53的弹起固定具51的推上力而嵌合在嵌合插座47，借由解放来自支持台31的静电夹盘板32的固定而依压缩弹簧构件53的弹起固定具51的推上力来推上钢管34的插头45，与静电夹盘板32一起朝上方侧移动钢管34，作成可容易地进行静电夹盘板32的安装及拆卸的静电夹盘支持机构。

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