专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201321322A 刻劃裝置审中-公开
简体标题：刻划设备
公开(公告)号：TW201321322A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101123414
申请日：2012-06-29
申请人：三星鑽石工業股份有限公司 , MITSUBOSHI DIAMOND INDUSTRIAL CO., LTD.
发明人：蘇宇航 , SU, YUHANG , 池田剛史 , IKEDA, TAKESHI , 山本幸司 , YAMAMOTO, KOJI
IPC分类号： C03B33/10 , B23K26/04
摘要：本發明係提供一種於前一次刻劃後，下一次刻劃時不受殘留冷媒影響之刻劃裝置。本發明之刻劃裝置A係具備工作台1、刻劃頭9、及使刻劃頭9相對工作台1移動之移動機構6、8、M；刻劃頭9具備雷射照射部10，其對工作台1上之脆性材料基板W照射雷射光束，形成作為加熱區域之雷射點；及冷媒噴射部11，其朝向雷射點之移動方向之後方位置噴射包含液體之冷媒，形成作為冷卻區域之冷卻點；沿著基板W假定之刻劃預定線使雷射點及冷卻點依序移動，形成熱應力之刻劃線；刻劃頭9進一步具備朝向雷射點之移動方向前方位置噴射氣體之氣體噴射部12。
简体摘要：本发明系提供一种于前一次刻划后，下一次刻划时不受残留冷媒影响之刻划设备。本发明之刻划设备A系具备工作台1、刻划头9、及使刻划头9相对工作台1移动之移动机构6、8、M；刻划头9具备激光照射部10，其对工作台1上之脆性材料基板W照射激光光束，形成作为加热区域之激光点；及冷媒喷射部11，其朝向激光点之移动方向之后方位置喷射包含液体之冷媒，形成作为冷却区域之冷却点；沿着基板W假定之刻划预定线使激光点及冷却点依序移动，形成热应力之刻划线；刻划头9进一步具备朝向激光点之移动方向前方位置喷射气体之气体喷射部12。

2. 发明专利

TWI637922B 玻璃基板之倒角方法及雷射加工裝置有权
简体标题：玻璃基板之倒角方法及激光加工设备
公开(公告)号：TWI637922B
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：TW103135558
申请日：2014-10-14
申请人：三星鑽石工業股份有限公司 , MITSUBOSHI DIAMOND INDUSTRIAL CO., LTD.
发明人：佐島德武 , SASHIMA, TOKUTAKE , 清水政二 , SHIMIZU, SEIJI , 村上政直 , MURAKAMI, MASANAO , 蘇宇航 , SU, YUHANG
IPC分类号： C03B33/09 , B26D3/02

3. 发明专利

TW201529503A 玻璃基板之倒角方法及雷射加工裝置审中-公开
简体标题：玻璃基板之倒角方法及激光加工设备
公开(公告)号：TW201529503A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103135558
申请日：2014-10-14
申请人：三星鑽石工業股份有限公司 , MITSUBOSHI DIAMOND INDUSTRIAL CO., LTD.
发明人：佐島德武 , SASHIMA, TOKUTAKE , 清水政二 , SHIMIZU, SEIJI , 村上政直 , MURAKAMI, MASANAO , 蘇宇航 , SU, YUHANG
IPC分类号： C03B33/09 , B26D3/02
摘要：本發明能以簡單之方法進行倒角，且對具有開口等之玻璃基板之開口等之內周面亦可進行倒角。該玻璃基板之倒角方法係對玻璃基板照射雷射光而進行基板端面之倒角，該方法包括第1步驟及第2步驟。第1步驟係自玻璃基板端部之第1主面側起，照射被玻璃基板之第1主面及內部吸收之中紅外光之雷射光。第2步驟係將雷射光沿著玻璃基板之端部掃描，而將玻璃基板之第1主面側及與第1主面相反之第2主面側之邊緣進行熔融倒角。
简体摘要：本发明能以简单之方法进行倒角，且对具有开口等之玻璃基板之开口等之内周面亦可进行倒角。该玻璃基板之倒角方法系对玻璃基板照射激光光而进行基板端面之倒角，该方法包括第1步骤及第2步骤。第1步骤系自玻璃基板端部之第1主面侧起，照射被玻璃基板之第1主面及内部吸收之中红外光之激光光。第2步骤系将激光光沿着玻璃基板之端部扫描，而将玻璃基板之第1主面侧及与第1主面相反之第2主面侧之边缘进行熔融倒角。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式