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1. 发明专利

TW201627053A 過濾器排氣用填充劑及過濾器排氣裝置审中-公开
简体标题：过滤器排气用填充剂及过滤器排气设备
公开(公告)号：TW201627053A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104141105
申请日：2015-12-08
申请人： RASA工業股份有限公司 , RASA INDUSTRIES, LTD.
发明人：小林稔季 , KOBAYASHI, TOSHIKI , 遠藤好司 , ENDO, KOJI
IPC分类号： B01D53/04 , B01D53/68 , B01J20/18 , G21F9/02
CPC分类号： B01J20/18 , G21C9/00 , G21F9/02 , Y02E30/31
摘要：提供一種能比以往還有效地吸附放射性碘之也可對應嚴重事故之過濾器排氣用填充劑及過濾器排氣裝置。一種過濾器排氣用填充劑1，對X型沸石進行造粒而形成，X型沸石所具有的離子交換位置的一部分以銀取代，剩餘部分以選自於由鉛、鎳及銅所組成的群中的至少一種的金屬取代，離子交換位置之中，以銀取代的離子交換位置(a)與以銀以外的金屬取代的離子交換位置(b)的構成比率(a/b)被設定為60/40~80/20。而且，銀的含量被設定為17~26重量%。【代表圖】
简体摘要：提供一种能比以往还有效地吸附放射性碘之也可对应严重事故之过滤器排气用填充剂及过滤器排气设备。一种过滤器排气用填充剂1，对X型沸石进行造粒而形成，X型沸石所具有的离子交换位置的一部分以银取代，剩余部分以选自于由铅、镍及铜所组成的群中的至少一种的金属取代，离子交换位置之中，以银取代的离子交换位置(a)与以银以外的金属取代的离子交换位置(b)的构成比率(a/b)被设置为60/40~80/20。而且，银的含量被设置为17~26重量%。【代表图】

2. 发明专利

TWI642476B 放射性碘吸附劑及放射性碘的處理方法有权
简体标题：放射性碘吸附剂及放射性碘的处理方法
公开(公告)号：TWI642476B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW103129291
申请日：2014-08-26
申请人： RASA工業股份有限公司 , RASA INDUSTRIES, LTD.
发明人：小林稔季 , KOBAYASHI, TOSHIKI , 遠藤好司 , ENDO, KOJI
IPC分类号： B01J20/18 , B01D53/04 , B01D53/68 , G21F9/02

3. 发明专利

TW201641424A 過濾器排氣用填充劑及過濾器排氣裝置审中-公开
简体标题：过滤器排气用填充剂及过滤器排气设备
公开(公告)号：TW201641424A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105107125
申请日：2016-03-09
申请人： RASA工業股份有限公司 , RASA INDUSTRIES, LTD.
发明人：小林稔季 , KOBAYASHI, TOSHIKI , 遠藤好司 , ENDO, KOJI
IPC分类号： C01B39/32 , B01J20/18 , B01D53/02 , B01D53/68 , G21F9/02
CPC分类号： B01J20/183 , B01D53/04 , B01D53/0407 , B01D53/68 , B01D2253/108 , B01D2257/202 , B01D2257/2068 , B01J20/18 , B01J20/3085 , B01J39/14 , B01J47/00 , C01B39/026 , C01B39/22 , C01B39/32 , C01B39/46 , G21C9/004 , G21F9/02 , G21Y2002/10 , G21Y2004/10 , Y02E30/40
摘要：提供一種能比以往還有效地吸附放射性碘之也可對應嚴重事故之過濾器排氣用填充劑及過濾器排氣裝置。一種過濾器排氣用填充劑，對L型沸石進行造粒而形成，L型沸石所具有的離子交換位置的至少一部分以銀取代，離子交換位置之中，以銀取代的離子交換位置(a)與不以銀取代的離子交換位置(b)的構成比率(a/b)設定為25/75~55/45，銀的含量設定為在乾燥狀態下7~12重量%。
简体摘要：提供一种能比以往还有效地吸附放射性碘之也可对应严重事故之过滤器排气用填充剂及过滤器排气设备。一种过滤器排气用填充剂，对L型沸石进行造粒而形成，L型沸石所具有的离子交换位置的至少一部分以银取代，离子交换位置之中，以银取代的离子交换位置(a)与不以银取代的离子交换位置(b)的构成比率(a/b)设置为25/75~55/45，银的含量设置为在干燥状态下7~12重量%。

4. 发明专利

TWI507565B 電解生成裝置有权
简体标题：电解生成设备
公开(公告)号：TWI507565B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：TW100147243
申请日：2011-12-20
申请人： RASA工業股份有限公司 , RASA INDUSTRIES, LTD.
发明人：渡部啟司 , WATANABE, KEIJI , 田村健治 , TAMURA, KENJI , 小林稔季 , KOBAYASHI, TOSHIKI
IPC分类号： C25B3/12
CPC分类号： C25B3/12 , C25B9/14

5. 发明专利

TW201500470A 絕緣材料用組成物审中-公开
简体标题：绝缘材料用组成物
公开(公告)号：TW201500470A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103116666
申请日：2014-05-12
申请人： RASA工業股份有限公司 , RASA INDUSTRIES, LTD.
发明人：中野正 , NAKANO, TADASHI , 橋本俊將 , HASHIMOTO, TOSHIMASA , 野野村務 , NONOMURA, TSUTOMU
IPC分类号： C08L83/07 , C08L101/06 , C08G77/38 , C08G77/20 , C08F290/06 , C08K5/56 , C08K5/29 , C08K5/548 , C09D183/07 , C09D4/02 , C09D201/06 , C09D7/12 , C09D5/25 , H01B3/46 , G06F3/041
CPC分类号： C08F230/08 , C08F2/44 , G03F7/027 , G03F7/0388 , G03F7/0757 , G03F7/085 , C08F2230/085 , C08F2220/286 , C08F2222/1026 , C08F222/1006
摘要：提供一種對觸控面板等的電子元件具有優良的密著性，進而對有機溶劑等的顯影液具有耐性(耐化學性)之絕緣材料用組成物。一種絕緣材料用組成物，包含：具有交聯性官能基的矽氧烷寡聚物、聚合引發劑、密著促進劑，密著促進劑包含鋁及/或鋯的配位化合物、碳二亞胺化合物、巰基矽烷化合物，具有交聯性官能基的矽氧烷寡聚物包含三氧矽基丙烯酸烷酯或三氧矽基甲基丙烯酸烷酯，更包含多官能性丙烯酸單體，包含聚N-甲氧甲基化合物當作耐化學性增進劑。【代表圖】
简体摘要：提供一种对触摸皮肤等的电子组件具有优良的密着性，进而对有机溶剂等的显影液具有耐性(耐化学性)之绝缘材料用组成物。一种绝缘材料用组成物，包含：具有交联性官能基的硅氧烷寡聚物、聚合引发剂、密着促进剂，密着促进剂包含铝及/或锆的配位化合物、碳二亚胺化合物、巯基硅烷化合物，具有交联性官能基的硅氧烷寡聚物包含三氧硅基丙烯酸烷酯或三氧硅基甲基丙烯酸烷酯，更包含多官能性丙烯酸单体，包含聚N-甲氧甲基化合物当作耐化学性增进剂。【代表图】

6. 发明专利

TWI675802B 過濾器排氣用填充劑及過濾器排氣裝置有权
简体标题：过滤器排气用填充剂及过滤器排气设备
公开(公告)号：TWI675802B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW105107125
申请日：2016-03-09
申请人：日商RASA工業股份有限公司 , RASA INDUSTRIES, LTD.
发明人：小林稔季 , KOBAYASHI, TOSHIKI , 遠藤好司 , ENDO, KOJI
IPC分类号： C01B39/32 , B01J20/18 , B01D53/02 , B01D53/68 , G21F9/02

7. 发明专利

TWI612101B 絕緣材料用組成物有权
简体标题：绝缘材料用组成物
公开(公告)号：TWI612101B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW103116666
申请日：2014-05-12
申请人： RASA工業股份有限公司 , RASA INDUSTRIES, LTD.
发明人：中野正 , NAKANO, TADASHI , 橋本俊將 , HASHIMOTO, TOSHIMASA , 野野村務 , NONOMURA, TSUTOMU
IPC分类号： C08L83/07 , C08L101/06 , C08G77/38 , C08G77/20 , C08F290/06 , C08K5/56 , C08K5/29 , C08K5/548 , C09D183/07 , C09D4/02 , C09D201/06 , C09D7/12 , C09D5/25 , H01B3/46 , G06F3/041
CPC分类号： C08F230/08 , C08F2/44 , G03F7/027 , G03F7/0388 , G03F7/0757 , G03F7/085 , C08F2230/085 , C08F2220/286 , C08F2222/1026 , C08F222/1006

8. 发明专利

TW201542291A 放射性碘吸附劑及放射性碘的處理方法审中-公开
简体标题：放射性碘吸附剂及放射性碘的处理方法
公开(公告)号：TW201542291A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW103129291
申请日：2014-08-26
申请人： RASA工業股份有限公司 , RASA INDUSTRIES, LTD.
发明人：小林稔季 , KOBAYASHI, TOSHIKI , 遠藤好司 , ENDO, KOJI
IPC分类号： B01J20/18 , B01D53/04 , B01D53/68 , G21F9/02
CPC分类号： G21F9/02 , B01D53/685 , B01D53/82 , B01D2253/108 , B01D2257/202 , B01J20/186 , B01J20/28004 , B01J20/28011 , G21C9/00 , G21D3/06 , G21Y2002/50 , G21Y2002/60 , G21Y2004/10 , G21Y2004/20 , Y02E30/40
摘要：本發明的課題為提供一種放射性碘吸附劑，能比以往還有效地吸附放射性碘，且可除去成為核反應器事故的原因之一的氫。本發明的解決手段為一種放射性碘吸附劑，對X型沸石進行造粒而形成，藉由以銀取代X型沸石所具有的離子交換位置，使該X型沸石的微細孔的尺寸適合氫分子的尺寸，銀成分的比例在乾燥狀態下為36重量%以上，粒子的尺寸為10×20mesh，硬度為94%以上，在150℃下乾燥減量3小時時的含水量為12重量%以下。【代表圖】
简体摘要：本发明的课题为提供一种放射性碘吸附剂，能比以往还有效地吸附放射性碘，且可除去成为核反应器事故的原因之一的氢。本发明的解决手段为一种放射性碘吸附剂，对X型沸石进行造粒而形成，借由以银取代X型沸石所具有的离子交换位置，使该X型沸石的微细孔的尺寸适合氢分子的尺寸，银成分的比例在干燥状态下为36重量%以上，粒子的尺寸为10×20mesh，硬度为94%以上，在150℃下干燥减量3小时时的含水量为12重量%以下。【代表图】

9. 发明专利

TW201229321A 電解生成裝置 ELECTROLYSIS DEVICE 审中-公开
简体标题：电解生成设备 ELECTROLYSIS DEVICE
公开(公告)号：TW201229321A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW100147243
申请日：2011-12-20
申请人： RASA工業股份有限公司
发明人：渡部啟司 , 田村健治 , 小林稔季
IPC分类号： C25B
CPC分类号： C25B3/12 , C25B9/14
摘要：本發明的課題為提供一種適合工業上生成三甲基鎵所代表的有機金屬化合物之電解生成裝置。本發明的解決手段為一種電解生成裝置100，藉由金屬與含有有機化合物的電解液之電解反應生成有機金屬化合物，包含:金屬在熔點以上的溫度熔融，以熔融金屬的狀態被導入，並且被供給電解液之配設陽極50及陰極60的電解槽10；儲存電解液之儲存槽20，在電解槽10的內部中，陽極50及陰極60各自被配置成與熔融金屬及電解液接觸的狀態，在電解槽10與儲存槽20之間電解液被循環。
简体摘要：本发明的课题为提供一种适合工业上生成三甲基镓所代表的有机金属化合物之电解生成设备。本发明的解决手段为一种电解生成设备100，借由金属与含有有机化合物的电解液之电解反应生成有机金属化合物，包含:金属在熔点以上的温度熔融，以熔融金属的状态被导入，并且被供给电解液之配设阳极50及阴极60的电解槽10；存储电解液之存储槽20，在电解槽10的内部中，阳极50及阴极60各自被配置成与熔融金属及电解液接触的状态，在电解槽10与存储槽20之间电解液被循环。

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