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1. 发明专利

TWI537063B 塗裝方法有权
简体标题：涂装方法
公开(公告)号：TWI537063B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW101150267
申请日：2012-12-26
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：李永華 , LEE, YUNG HUA , 李哲宇 , LEE, CHE YU , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 周雅惠 , CHOU, YA HUI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B05D3/12 , B05D5/00

2. 发明专利

TW201827254A 轉印膜、其製造方法及包含其之外殼审中-公开
简体标题：转印膜、其制造方法及包含其之外壳
公开(公告)号：TW201827254A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106103067
申请日：2017-01-25
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO.,LTD.
发明人：劉郁茹 , LIU, YU-JU , 徐禎邦 , HSU, CHEN-PANG , 楊益承 , YANG, YI-CHENG
IPC分类号： B44C1/16
摘要：本發明提供一種轉印膜、其製造方法及包含其之外殼。轉印膜包含一硬塗層、一第一黏著層及一光學效果層。硬塗層具有相對的一第一表面與一第二表面。第一表面具有至少一紋理區域。第一黏著層位於具有紋理區域的第一表面。光學效果層位於第一黏著層遠離硬塗層的一黏著表面。光學效果層包含一基質與複數個光散射粒子。光散射粒子分散於基質中。白光對硬塗層的一硬塗層穿透度、白光對第一黏著層的一第一黏著層穿透度以及白光對光學效果層的基質的一基質穿透度彼此相異。
简体摘要：本发明提供一种转印膜、其制造方法及包含其之外壳。转印膜包含一硬涂层、一第一黏着层及一光学效果层。硬涂层具有相对的一第一表面与一第二表面。第一表面具有至少一纹理区域。第一黏着层位于具有纹理区域的第一表面。光学效果层位于第一黏着层远离硬涂层的一黏着表面。光学效果层包含一基质与复数个光散射粒子。光散射粒子分散于基质中。白光对硬涂层的一硬涂层穿透度、白光对第一黏着层的一第一黏着层穿透度以及白光对光学效果层的基质的一基质穿透度彼此相异。

3. 发明专利

TWI552888B 具內紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法有权
简体标题：具内纹路的转印膜、应用转印膜之壳体结构及其制备方法
公开(公告)号：TWI552888B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW103116993
申请日：2014-05-14
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：黃桂齡 , HUANG, KUEI LING , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 林凱尉 , LIN, KAI WEI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 劉郁茹 , LIU, YU JU , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B44C1/16

4. 发明专利

TWI537833B 防僞印紋的產生方法及其產生裝置有权
简体标题：防伪印纹的产生方法及其产生设备
公开(公告)号：TWI537833B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW102109333
申请日：2013-03-15
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：高俊杰 , KAO, CHUN CHIEH , 魏士雯 , WEI, SHIH WEN , 蔡秀英 , TSAI, HSIU YING
IPC分类号： G06K19/06

5. 发明专利

TW201542396A 具內紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法审中-公开
简体标题：具内纹路的转印膜、应用转印膜之壳体结构及其制备方法
公开(公告)号：TW201542396A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW103116993
申请日：2014-05-14
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：黃桂齡 , HUANG, KUEI LING , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 林凱尉 , LIN, KAI WEI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 劉郁茹 , LIU, YU JU , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B44C1/16
摘要：一種具內紋路的轉印膜、應用轉印膜之殼體結構及其製備方法。殼體結構包含一基板、一黏著層、一油墨層、一紫外線硬化樹脂層以及一熱風乾燥塗層。黏著層設置於基板。油墨層設置於黏著層相反於基板之一側。油墨層相反於黏著層之一側具有一立體圖案。紫外線硬化樹脂層設置於油墨層相反於黏著層之一側。紫外線硬化樹脂層面對油墨層之一側具有對應立體圖案之一凹凸紋路。熱風乾燥塗層設置於紫外線硬化樹脂層相反於油墨層之一側。藉此，殼體結構的內部具有圖案並且轉印膜具有軟性的觸感。
简体摘要：一种具内纹路的转印膜、应用转印膜之壳体结构及其制备方法。壳体结构包含一基板、一黏着层、一油墨层、一紫外线硬化树脂层以及一热风干燥涂层。黏着层设置于基板。油墨层设置于黏着层相反于基板之一侧。油墨层相反于黏着层之一侧具有一三維图案。紫外线硬化树脂层设置于油墨层相反于黏着层之一侧。紫外线硬化树脂层面对油墨层之一侧具有对应三維图案之一凹凸纹路。热风干燥涂层设置于紫外线硬化树脂层相反于油墨层之一侧。借此，壳体结构的内部具有图案并且转印膜具有软性的触感。

6. 实用新型

TWM508440U 轉向式輸送裝置有权
简体标题：转向式输送设备
公开(公告)号：TWM508440U
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW104200645
申请日：2015-01-15
申请人：正美企業股份有限公司
发明人：邱建忠 , CHIU, CHIEN CHUNG
IPC分类号： B41F22/00

7. 实用新型

TWM497593U 網版印刷用之塗佈裝置失效
简体标题：网版印刷用之涂布设备
公开(公告)号：TWM497593U
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW103215001
申请日：2014-08-22
申请人：正美企業股份有限公司
发明人：張興華 , CHANG, HSING HUA
IPC分类号： B41F15/14

8. 实用新型

TWM484506U 具外紋路的轉印膜及應用轉印膜之殼體結構有权
简体标题：具外纹路的转印膜及应用转印膜之壳体结构
公开(公告)号：TWM484506U
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：TW103208416
申请日：2014-05-14
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：黃桂齡 , HUANG, KUEI LING , 李鴻昌 , LEE, HUNG CHANG , 林凱尉 , LIN, KAI WEI , 徐禎邦 , HSU, CHEN PANG , 劉郁茹 , LIU, YU JU , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： B29C70/00

9. 发明专利

TW201109395A 紫外線硬化塗料之組成物及其塗裝方法审中-公开
简体标题：紫外线硬化涂料之组成物及其涂装方法
公开(公告)号：TW201109395A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：TW098130811
申请日：2009-09-11
申请人：正美企業股份有限公司
发明人：陳駿鵬
IPC分类号： C09D , B05D , B41M
摘要：一種紫外線硬化塗料之組成物及其塗裝方法,包含有55至75重量百分比的紫外線硬化樹脂、2至10重量百分比的二丙烯酸三丙二醇脂、2至10重量百分比的三羥甲基丙烷三丙烯酸、2至20重量百分比的甲苯、2至15重量百分比的醋酸丁酯以及2至25重量百分比的甲基異丁酮。此紫外線硬化塗料組成物可藉由壓印的方式,直接於一工件的表面上形成立體紋路或圖樣,可簡化工件表面的圖紋加工程序。
简体摘要：一种紫外线硬化涂料之组成物及其涂装方法,包含有55至75重量百分比的紫外线硬化树脂、2至10重量百分比的二丙烯酸三丙二醇脂、2至10重量百分比的三羟甲基丙烷三丙烯酸、2至20重量百分比的甲苯、2至15重量百分比的醋酸丁酯以及2至25重量百分比的甲基异丁酮。此紫外线硬化涂料组成物可借由压印的方式,直接于一工件的表面上形成三維纹路或图样,可简化工件表面的图纹加工进程。

10. 发明专利

TW592999B 隱藏圖文之製法无效
简体标题：隐藏图文之制法
公开(公告)号：TW592999B
公开(公告)日：2004-06-21
申请号：TW092117592
申请日：2003-06-27
申请人：正美企業股份有限公司
发明人：翁金標
IPC分类号： B44F
CPC分类号： B41M3/14 , B41M3/146 , B41M3/148
摘要：本發明是在提供一種隱藏圖文之製法，係包括下列步驟：1、先經由印刷設計後，再印刷原稿；2、將該印刷原稿轉換為一電腦稿；3、將該電腦稿予以防偽處理；3-1、由電腦稿之設計圖檔單取其中一色版；3-2、電腦稿之過濾片檔案製作；3-3、圖像版畫線條化處理：將過濾片檔案與之前選取之色版重疊對齊，依該色版圖樣之深淺比例轉換為相對應之粗細比例的線條填充圖樣；3-4、將防偽圖案以圖像浮雕線條變形處理，使該線條填充圖樣上與防偽圖案重疊的線段會產生角度與位移變形，此變形後之線條填充圖樣即為一防偽輸出品；藉此，使具絕佳之防偽效果者。伍、(一)、本案代表圖為：第＿＿＿3＿＿＿圖
(二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明：131、設計圖檔132、取其中一色版133、過濾片檔案製作134、圖像版畫線條化處理135、將防偽圖案以圖像浮雕線條變形處理136、輸出品137、與設計圖檔的其它色版結合14、輸出品
简体摘要：本发明是在提供一种隐藏图文之制法，系包括下列步骤：1、先经由印刷设计后，再印刷原稿；2、将该印刷原稿转换为一电脑稿；3、将该电脑稿予以防伪处理；3-1、由电脑稿之设计图档单取其中一色版；3-2、电脑稿之过滤片文档制作；3-3、图像版画线条化处理：将过滤片文档与之前选取之色版重叠对齐，依该色版图样之深浅比例转换为相对应之粗细比例的线条填充图样；3-4、将防伪图案以图像浮雕线条变形处理，使该线条填充图样上与防伪图案重叠的线段会产生角度与位移变形，此变形后之线条填充图样即为一防伪输出品；借此，使具绝佳之防伪效果者。伍、(一)、本案代表图为：第＿＿＿3＿＿＿图 (二)、本案代表图之组件代表符号简单说明：131、设计图档132、取其中一色版133、过滤片文档制作134、图像版画线条化处理135、将防伪图案以图像浮雕线条变形处理136、输出品137、与设计图档的其它色版结合14、输出品

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