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    • 5. 发明专利
    • 光檢波器電路及其製作方法(二) PHOTODETECTOR CIRCUITS
    • 光检波器电路及其制作方法(二) PHOTODETECTOR CIRCUITS
    • TW200403769A
    • 2004-03-01
    • TW092118847
    • 2003-07-10
    • 昆提克股份有限公司 QINETIQ LIMITED
    • 約翰路易斯葛萊斯普 JOHN LEWIS GLASPER大衛約翰羅賓斯 DAVID JOHN ROBBINS梁永義 WENG YEE LEONG
    • H01L
    • H01L27/1443H01L27/14603H01L27/14687H01L31/107
    • 一種光檢波器電路係結合有一雪崩式光二極體結構,其中該結構具有一接觸層係用以在環狀區18上方與該環狀防護環8形成歐姆接觸。製程中,其起始基板可為一種由p型矽在絕緣體上(SOI)晶圓構成的柄晶圓或是一種以二氧化矽絕緣層4形成一電氣隔離式p型位阱的塊狀矽基板,並藉由習知的微影技術及蝕刻法於該絕緣層4內產生一視窗6。藉由使施體雜質擴散到基板之內以產生一n+環狀防護環8,並依熱學方式成長一較薄二氧化矽絕緣層22以覆蓋住該基板上露出於視窗6內的表面。然後透過該薄氧化物層選擇性地植入p型施體(例如硼)以增加該防護環8內靠近基板表面處的摻雜位準。隨後於該絕緣層22內製作一視窗24,然後再依磊晶方式於基板上因視窗24而露出的區域上,選擇性地成長一層12。使用該薄氧化物層22可減小須為磊晶沈積作業期間之側壁缺陷的產生負責的界面面積,如是引致減小了由熱膨脹係數失配造成的決定性效應而引玫減少了視窗邊緣上的缺陷且因此減小了光二極體的漏電流。在成長了該磊晶層12之後,藉由溼性氧化物蝕刻法(例如氫氟酸浸漬法)移除該絕緣層22之剩餘部分以露出底下之防護環8的環狀部分26。隨後,於該裝置表面上澱積一n+型磊晶-多晶矽層14並使之與該防護環8形成歐姆接觸,而同時形成該光二極體的頂部接點。這種製造程序不致顯著地增加製程的複雜度。雖則較之習知設計會需要一額外的遮罩以便於該絕緣層22內定義出視窗24,然而事實上使層14與防護環8形成歐姆接觸意指不再需要在該防護環上提供分開的接點,結果對兩種製程而言其整體遮罩數目或所用製程步驟數目可為相似的。
    • 一种光检波器电路系结合有一雪崩式光二极管结构,其中该结构具有一接触层系用以在环状区18上方与该环状防护环8形成欧姆接触。制程中,其起始基板可为一种由p型硅在绝缘体上(SOI)晶圆构成的柄晶圆或是一种以二氧化硅绝缘层4形成一电气隔离式p型位阱的块状硅基板,并借由习知的微影技术及蚀刻法于该绝缘层4内产生一窗口6。借由使施体杂质扩散到基板之内以产生一n+环状防护环8,并依热学方式成长一较薄二氧化硅绝缘层22以覆盖住该基板上露出于窗口6内的表面。然后透过该薄氧化物层选择性地植入p型施体(例如硼)以增加该防护环8内靠近基板表面处的掺杂位准。随后于该绝缘层22内制作一窗口24,然后再依磊晶方式于基板上因窗口24而露出的区域上,选择性地成长一层12。使用该薄氧化物层22可减小须为磊晶沉积作业期间之侧壁缺陷的产生负责的界面面积,如是引致减小了由热膨胀系数失配造成的决定性效应而引玫减少了窗口边缘上的缺陷且因此减小了光二极管的漏电流。在成长了该磊晶层12之后,借由湿性氧化物蚀刻法(例如氢氟酸浸渍法)移除该绝缘层22之剩余部分以露出底下之防护环8的环状部分26。随后,于该设备表面上淀积一n+型磊晶-多晶硅层14并使之与该防护环8形成欧姆接触,而同时形成该光二极管的顶部接点。这种制造进程不致显着地增加制程的复杂度。虽则较之习知设计会需要一额外的遮罩以便于该绝缘层22内定义出窗口24,然而事实上使层14与防护环8形成欧姆接触意指不再需要在该防护环上提供分开的接点,结果对两种制程而言其整体遮罩数目或所用制程步骤数目可为相似的。
    • 6. 发明专利
    • 寬能帶間隙電晶體 WIDE BANDGAP TRANSISTORS
    • 宽能带间隙晶体管 WIDE BANDGAP TRANSISTORS
    • TW200302577A
    • 2003-08-01
    • TW092100031
    • 2003-01-02
    • 昆提克股份有限公司 QINETIQ LIMITED
    • 提蒙西强納遜飛利浦 TIMOTHY JONATHAN PHILLIPS
    • H01L
    • H01L29/66318H01L29/1004H01L29/7371
    • 一種符合垂直幾何構架之雙極電晶體包含一設置有一基極接點21之基極區域1,射極與集極區域2、3以由該基極區域抽出少數載子配置而成,以及一目的以抑制少數載子經由該基極接點進入至該基極區域之結構,其中該基極區域具有一大於0.5eV之能帶間隙以及一大於10^17cm-3之摻雜程度。如所示之該基極包含一防止載子由該基極接點21處進入之除外異質連接4,但是該基極區域可選擇地包含一「高-低」摻雜同質連接。該建構顯示甚至於多指電晶體中之熱失控的改善抑制。其尤其係有用於如以砷化銦鎵為基準的高功率、高頻率電晶體。該集極區域較佳地具有一異質結構。
    • 一种符合垂直几何构架之双极晶体管包含一设置有一基极接点21之基极区域1,射极与集极区域2、3以由该基极区域抽出少数载子配置而成,以及一目的以抑制少数载子经由该基极接点进入至该基极区域之结构,其中该基极区域具有一大于0.5eV之能带间隙以及一大于10^17cm-3之掺杂程度。如所示之该基极包含一防止载子由该基极接点21处进入之除外异质连接4,但是该基极区域可选择地包含一“高-低”掺杂同质连接。该建构显示甚至于多指晶体管中之热失控的改善抑制。其尤其系有用于如以砷化铟镓为基准的高功率、高频率晶体管。该集极区域较佳地具有一异质结构。
    • 9. 发明专利
    • 用於行動電話基地台之發射網路
    • 用于移动电话基地台之发射网络
    • TW554631B
    • 2003-09-21
    • TW091105413
    • 2002-03-21
    • 昆提克股份有限公司
    • 諾曼理查尼摩史密斯
    • H04WH04Q
    • H04W88/08H01Q21/30
    • 用於行動無線電網路之發射網路合併有兩個發射多工器122ABE和122CD。第一發射多工器122ABE接收三個發射機124A,124B和124E之輸出信號之一個群,並在各個帶通濾波器126A,126B和126E中將其濾波。第二發射多工器122CD接收二個另外之發射機124C和124D之輸出信號之一個群,並在各個帶通濾波器126C和126D中將其濾波。每個信號群之發射頻率是不鄰近的,其是由濾波器126提供在諸發射機間之隔離改良。經各個帶通濾波器126濾波之輸出信號是在濾波器輸出128X和128Y被組合,在此處信號是在組合器132中組合,提供這些輸出間之隔離程度,並能使信號以最小失真組合。自組合器132之信號是經一收發合用器而饋送至一發射/接收天線。
    • 用于行动无线电网络之发射网络合并有两个发射多任务器122ABE和122CD。第一发射多任务器122ABE接收三个发射机124A,124B和124E之输出信号之一个群,并在各个带通滤波器126A,126B和126E中将其滤波。第二发射多任务器122CD接收二个另外之发射机124C和124D之输出信号之一个群,并在各个带通滤波器126C和126D中将其滤波。每个信号群之发射频率是不邻近的,其是由滤波器126提供在诸发射机间之隔离改良。经各个带通滤波器126滤波之输出信号是在滤波器输出128X和128Y被组合,在此处信号是在组合器132中组合,提供这些输出间之隔离程度,并能使信号以最小失真组合。自组合器132之信号是经一收发合用器而馈送至一发射/接收天线。