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1. 发明专利

TWI310061B 形成無光層用組成物及使用該組成物之脫模片,及使用該脫模片所得之合成皮革失效
简体标题：形成无光层用组成物及使用该组成物之脱模片,及使用该脱模片所得之合成皮革
公开(公告)号：TWI310061B
公开(公告)日：2009-05-21
申请号：TW092100607
申请日：2003-01-13
申请人：大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：須藤健一郎 , 川越圭生 , 渡邊浩 , 久保田毅 , 松平耕市郎
IPC分类号： D06N , B32B
CPC分类号： D06N3/0097 , B32B27/12 , D21H27/001 , Y10S428/904 , Y10T156/11 , Y10T156/1195 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/24372 , Y10T428/24405 , Y10T428/24438 , Y10T428/249981
摘要：本發明提供一種形成無光層用組成物及使用該組成物製造而成之無光感合成皮革製造用脫模片,其特徵為不經壓紋加工、起毛加工,亦具有漆黑性高之消光面;形成無光層用組成物中,含有熱硬化性樹脂、與消光劑等必要成份;上述消光劑是由含有一種或兩種以上之有機及/或無機的多孔性微粒子所成;上述多孔性微粒子之平均粒徑在0.5~20��m之範圍,比表面積在1~1000平方公尺/公克之範圍;係適合於合成皮革之製造上,製成脫模片使用的形成無光層用組成物。
简体摘要：本发明提供一种形成无光层用组成物及使用该组成物制造而成之无光感合成皮革制造用脱模片,其特征为不经压纹加工、起毛加工,亦具有漆黑性高之消光面;形成无光层用组成物中,含有热硬化性树脂、与消光剂等必要成份;上述消光剂是由含有一种或两种以上之有机及/或无机的多孔性微粒子所成;上述多孔性微粒子之平均粒径在0.5~20��m之范围,比表面积在1~1000平方公尺/公克之范围;系适合于合成皮革之制造上,制成脱模片使用的形成无光层用组成物。

2. 发明专利

TW200905252A 防眩層用硬化性樹脂組成物及防眩薄膜 CURABLE RESIN COMPOSITION FOR ANTIGLARE LAYER AND ANTIGLARE LAYER 审中-公开
简体标题：防眩层用硬化性树脂组成物及防眩薄膜 CURABLE RESIN COMPOSITION FOR ANTIGLARE LAYER AND ANTIGLARE LAYER
公开(公告)号：TW200905252A
公开(公告)日：2009-02-01
申请号：TW097110937
申请日：2008-03-27
申请人：大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：吉原俊夫 TOSHIO YOSHIHARA , 牛山章伸 AKINOBU USHIYAMA , 新貝藍 AI SHINKAI
IPC分类号： G02B , C08K , C08L , B32B , G02F
CPC分类号： G02B1/10 , G02B5/0221 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612 , Y10T428/25
摘要：本發明提供一種防眩薄膜,其主要設置於LCD、CRT、PDP等顯示器之前面,防止外光之反射,減少由於皂化處理而溶出或脫落至鹼性溶液中之反應性無機微粒子,且耐皂化性優異。本發明之防眩薄膜之特徵在於:於透明基材薄膜上,具有最表面具有凹凸形狀之防眩層;該防眩層至少包含由如下硬化性樹脂組成物硬化而成之凹凸層,該硬化性樹脂組成物包含平均粒徑為1 ��m以上且10 ��m以下之透光性微粒子A、平均粒徑為30 nm以上且100 nm以下且表面含有反應性官能基b之反應性無機微粒子B、及含有與該反應性官能基b具有交聯反應性之反應性官能基c的黏合劑成分C;上述防眩層具有透明基材薄膜之相反側之界面及其附近之上述反應性無機微粒子B之粒子數較少的表皮層,且相較於表皮層,於透明基材薄膜側具有上述微粒子B均勻存在之區域。
简体摘要：本发明提供一种防眩薄膜,其主要设置于LCD、CRT、PDP等显示器之前面,防止外光之反射,减少由于皂化处理而溶出或脱落至碱性溶液中之反应性无机微粒子,且耐皂化性优异。本发明之防眩薄膜之特征在于:于透明基材薄膜上,具有最表面具有凹凸形状之防眩层;该防眩层至少包含由如下硬化性树脂组成物硬化而成之凹凸层,该硬化性树脂组成物包含平均粒径为1 ��m以上且10 ��m以下之透光性微粒子A、平均粒径为30 nm以上且100 nm以下且表面含有反应性官能基b之反应性无机微粒子B、及含有与该反应性官能基b具有交联反应性之反应性官能基c的黏合剂成分C;上述防眩层具有透明基材薄膜之相反侧之界面及其附近之上述反应性无机微粒子B之粒子数较少的表皮层,且相较于表皮层,于透明基材薄膜侧具有上述微粒子B均匀存在之区域。

3. 发明专利

TWI300510B 光擴散構件、用於使用光擴散構件之透射式螢幕的光學構件、和透射式螢幕 LIGHT DIFFUSING MEMBER, OPTICAL MEMBER FOR TRANSMISSION SCREEN USING LIGHT DIFFUSING MEMBER, AND TRANSMISSION SCREEN 失效
简体标题：光扩散构件、用于使用光扩散构件之透射式屏幕的光学构件、和透射式屏幕 LIGHT DIFFUSING MEMBER, OPTICAL MEMBER FOR TRANSMISSION SCREEN USING LIGHT DIFFUSING MEMBER, AND TRANSMISSION SCREEN
公开(公告)号：TWI300510B
公开(公告)日：2008-09-01
申请号：TW094119395
申请日：2005-06-10
申请人：大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：馬場重樹 BABA, SHIGEKI , 大高規彥 OTAKA, NORIHIKO , 魚谷幸史 UOTANI, YUKIFUMI , 中野公一 NAKANO, KOICHI , 橋本浩二 HASHIMOTO, KOJI
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G03B21/625
摘要：提供一種用於透射式螢幕的光擴散構件,其在保持優
良的光擴散功效和抗反射功效時,仍具有滿意的表面保護
功效。用於透射式螢幕的該光擴散構件,包含設在具有一
單層或多層構造的一基材表面上的一硬塗層,其中該基材
和該硬塗層內含有細顆粒,且該硬塗層內所含之該等細顆
粒的平均粒徑為5至15微米;該硬塗層具有滿足式子
(d-2)≦t≦d所代表之要求的一厚度,其中t代表該硬
塗層的該厚度(微米),且d代表該等細顆粒的該平均粒
徑(微米);且該細顆粒的一部份突出該硬塗層的表面
上,以構成凸部和凹部。
简体摘要：提供一种用于透射式屏幕的光扩散构件,其在保持优良的光扩散功效和抗反射功效时,仍具有满意的表面保护功效。用于透射式屏幕的该光扩散构件,包含设在具有一单层或多层构造的一基材表面上的一硬涂层,其中该基材和该硬涂层内含有细颗粒,且该硬涂层内所含之该等细颗粒的平均粒径为5至15微米;该硬涂层具有满足式子 (d-2)≦t≦d所代表之要求的一厚度,其中t代表该硬涂层的该厚度(微米),且d代表该等细颗粒的该平均粒径(微米);且该细颗粒的一部份突出该硬涂层的表面上,以构成凸部和凹部。

4. 发明专利

TW200832049A 曝光用遮罩之管理方法及曝光用遮罩 METHOD FOR MANAGING LIGHT EXPOSURE MASK AND LIGHT EXPOSURE MASK 审中-公开
公开(公告)号：TW200832049A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW096130684
申请日：2007-08-20
申请人：大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：島田周 SHU SHIMADA , 山本英樹 HIDEKI YAMAMOTO , 內藤昭彥 AKIHIKO NAITOH
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F1/82 , G03F7/70916
摘要：本發明係提供不需要施行對曝光用遮罩的成長性異物所造成之污染進行管理的遮罩或晶圓檢查,未依存遮罩履歷,具通用性且不致增加遮罩製造或檢查所需要的時間.成本,經常可運用依潔淨狀態使用遮罩的曝光用遮罩之管理方法,以及不致發生因成長性異物造成污染情況的曝光用遮罩。在使用上述曝光用遮罩的環境中,從上述環境中所實測得硫酸離子濃度、在上述曝光用遮罩表面上所吸附的最大硫酸離子吸附量、以及在上述曝光用遮罩表面發生上述異物的上述曝光用遮罩表面上所存在硫酸離子量的臨限値,計算出經一定時間後的上述曝光用遮罩表面之硫酸離子吸附量,並設定未發生上述異物的上述曝光用遮罩使用期限,且在上述使用期限前便將上述曝光用遮罩施行再洗淨後再使用。
简体摘要：本发明系提供不需要施行对曝光用遮罩的成长性异物所造成之污染进行管理的遮罩或晶圆检查,未依存遮罩履历,具通用性且不致增加遮罩制造或检查所需要的时间.成本,经常可运用依洁净状态使用遮罩的曝光用遮罩之管理方法,以及不致发生因成长性异物造成污染情况的曝光用遮罩。在使用上述曝光用遮罩的环境中,从上述环境中所实测得硫酸离子浓度、在上述曝光用遮罩表面上所吸附的最大硫酸离子吸附量、以及在上述曝光用遮罩表面发生上述异物的上述曝光用遮罩表面上所存在硫酸离子量的临限値,计算出经一定时间后的上述曝光用遮罩表面之硫酸离子吸附量,并设置未发生上述异物的上述曝光用遮罩使用期限,且在上述使用期限前便将上述曝光用遮罩施行再洗净后再使用。

5. 发明专利

TW200830602A 微型反應器失效
简体标题：微型反应器
公开(公告)号：TW200830602A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：TW096144605
申请日：2007-11-23
申请人：大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：木原健 KIHARA, TAKESHI , 八木裕 YAGI, HIROSHI , 竹內明彥 TAKEUCHI, AKIHIKO
IPC分类号： H01M
CPC分类号： B01J19/0093 , B01J23/80 , B01J37/0217 , B01J37/0225 , B01J37/0242 , B01J37/349 , B01J2219/00153 , B01J2219/00783 , B01J2219/00822 , B01J2219/00835 , B01J2219/0086 , B01J2219/00873 , C01B3/384 , C01B2203/0227 , C01B2203/066 , C01B2203/0805 , C01B2203/1064 , C01B2203/1076 , H01M8/0618 , H01M2250/30 , Y02B90/18 , Y02P20/52
摘要：一種微型反應器1,其具備有:真空框體2;配設於此真空框體2的真空密閉腔3內的微型反應器本體4;位於微型反應器本體4的至少1個面之除氣發熱基板6,微型反應器本體4具有,藉由原料供給管5A來與真空框體2的外部連接之原料導入口19a、及藉由氣體排出管5B來與真空框體2的外部連接之氣體排出口19b,除氣發熱基板6具有基板7、在基板7上呈相互非接觸狀態加以配設之發熱體9及除氣材層10。
简体摘要：一种微型反应器1,其具备有:真空框体2;配设于此真空框体2的真空密闭腔3内的微型反应器本体4;位于微型反应器本体4的至少1个面之除气发热基板6,微型反应器本体4具有,借由原料供给管5A来与真空框体2的外部连接之原料导入口19a、及借由气体排出管5B来与真空框体2的外部连接之气体排出口19b,除气发热基板6具有基板7、在基板7上呈相互非接触状态加以配设之发热体9及除气材层10。

6. 发明专利

TWI297785B 光學元件有权
简体标题：光学组件
公开(公告)号：TWI297785B
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：TW091132785
申请日：2002-11-07
申请人：大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：鹿島啓二 KEIJI KASHIMA
IPC分类号： G02B , G02F
CPC分类号： G02B1/10 , G02B5/3016 , G02B7/008
摘要：本發明係提供即使對製造影像顯示裝置等的光學機器
之際之加熱,各種光學特性安定的聚合性液晶材料經予硬
化而成的光學元件為主目的者。為達成上述目的,具有支
持材及於前述支持材上聚合性液晶材料具有指定的液晶規
則性並經予硬化而成的光學機能層之光學元件,前述光學
元件係在指定溫度經予熱處理而成者,以前述熱處理後的
前述光學機能層之膜厚為A,以再度在前述的熱處理溫度加
熱前述光學元件60分鐘後的前述光學機能層之膜厚為B時
,以(A-B)/A定義的前述光學機能層之膜厚減少率設成
5%以下為特徵。
简体摘要：本发明系提供即使对制造影像显示设备等的光学机器之际之加热,各种光学特性安定的聚合性液晶材料经予硬化而成的光学组件为主目的者。为达成上述目的,具有支持材及于前述支持材上聚合性液晶材料具有指定的液晶规则性并经予硬化而成的光学机能层之光学组件,前述光学组件系在指定温度经予热处理而成者,以前述热处理后的前述光学机能层之膜厚为A,以再度在前述的热处理温度加热前述光学组件60分钟后的前述光学机能层之膜厚为B时 ,以(A-B)/A定义的前述光学机能层之膜厚减少率设成 5%以下为特征。

7. 发明专利

TW200817716A 光學積層體、偏光板、及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学积层体、偏光板、及影像显示设备
公开(公告)号：TW200817716A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：TW096130457
申请日：2007-08-17
申请人：大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：古井玄 FURUI, GEN , 岩田行光 IWATA, YUKIMITSU , 小林篤弘 KOBAYASHI, ATSUHIRO , 堀尾智之 HORIO, TOMOYUKI
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02F1/133502 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/02 , Y10T428/24355
摘要：本發明提供一種作為光學積層體具有充分之硬度,且發揮良好之防眩性之光學積層體。該光學積層體係具有透光性基材及於上述透光性基材上設置之硬塗層的光學積層體,其特徵在於:上述硬塗層由透明硬塗層A及硬塗層B二層構成,上述硬塗層B係最表面具有凹凸形狀者,將凹凸之平均間隔設為Sm,將凹凸部之平均傾斜角設為��a,將凹凸之平均粗糙度設為Rz,將設為Rz/Sm時,0.0010≦≦0.14 0.25≦��a≦5.0上述透明硬塗層A與透光性基材之界面實質上並不存在。
简体摘要：本发明提供一种作为光学积层体具有充分之硬度,且发挥良好之防眩性之光学积层体。该光学积层体系具有透光性基材及于上述透光性基材上设置之硬涂层的光学积层体,其特征在于:上述硬涂层由透明硬涂层A及硬涂层B二层构成,上述硬涂层B系最表面具有凹凸形状者,将凹凸之平均间隔设为Sm,将凹凸部之平均倾斜角设为��a,将凹凸之平均粗糙度设为Rz,将设为Rz/Sm时,0.0010≦≦0.14 0.25≦��a≦5.0上述透明硬涂层A与透光性基材之界面实质上并不存在。

8. 发明专利

TW200816898A 多層印刷配線板及其製造方法 MULTILAYERED PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME 审中-公开
简体标题：多层印刷配线板及其制造方法 MULTILAYERED PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
公开(公告)号：TW200816898A
公开(公告)日：2008-04-01
申请号：TW096126039
申请日：2007-07-17
申请人：大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：佐原隆廣 SAHARA, TAKAHIRO , 小林厚志 KOBAYASHI, ATSUSHI , 竹內清 TAKEUCHI, KIYOSHI , 伊賀上真左彥 IGAUE, MASAHIKO
IPC分类号： H05K
CPC分类号： H05K1/183 , H01L2224/16225 , H01L2224/16227 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/73265 , H01L2924/00011 , H01L2924/00014 , H01L2924/15153 , H01L2924/15313 , H01L2924/19105 , H01L2924/30107 , H05K1/0298 , H05K1/0306 , H05K3/284 , H05K3/4069 , H05K3/4614 , H05K3/4697 , H05K2201/10515 , H05K2201/10636 , H05K2203/049 , H05K2203/061 , H05K2203/063 , Y02P70/611 , Y10T29/49126 , H01L2924/00 , H01L2224/0401
摘要：一種多層印刷配線板,其特徵為具備:電子零件安裝用的凹洞(cavity);和被設置於與上述凹洞分離的位置,且內設有電子零件的區域。
简体摘要：一种多层印刷配线板,其特征为具备:电子零件安装用的凹洞(cavity);和被设置于与上述凹洞分离的位置,且内设有电子零件的区域。

9. 发明专利

TW200813485A 微透鏡之製造方法 METHOD FOR MANUFACTURING MICROLENS 审中-公开
简体标题：微透镜之制造方法 METHOD FOR MANUFACTURING MICROLENS
公开(公告)号：TW200813485A
公开(公告)日：2008-03-16
申请号：TW096127640
申请日：2007-07-27
申请人：大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：鈴木勝敏 KATSUTOSHI SUZUKI , 栗原正彰 MASAAKI KURIHARA
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B3/0018 , G03F7/0005 , G03F7/2022
摘要：本發明主要目的係提供可依簡便方法形成具有最大膜厚位置不同於重心位置之形狀,且其形狀滑順之微透鏡的微透鏡之製造方法。本發明係藉由提供下述微透鏡之製造方法,而解決上述問題;該方法係包括有:基礎形狀形成用曝光步驟,其係對在基板上所形成的感光性樹脂層,使用微透鏡基礎形狀形成用遮罩施行曝光;以及變形用曝光步驟,其係對上述感光性樹脂層,使用微透鏡變形用遮罩,施行具有與上述基礎形狀形成用曝光步驟施行之際的曝光不同單位格子曝光分佈之曝光;可形成最大膜厚位置不同於重心位置的微透鏡。
简体摘要：本发明主要目的系提供可依简便方法形成具有最大膜厚位置不同于重心位置之形状,且其形状滑顺之微透镜的微透镜之制造方法。本发明系借由提供下述微透镜之制造方法,而解决上述问题;该方法系包括有:基础形状形成用曝光步骤,其系对在基板上所形成的感光性树脂层,使用微透镜基础形状形成用遮罩施行曝光;以及变形用曝光步骤,其系对上述感光性树脂层,使用微透镜变形用遮罩,施行具有与上述基础形状形成用曝光步骤施行之际的曝光不同单位格子曝光分布之曝光;可形成最大膜厚位置不同于重心位置的微透镜。

10. 发明专利

TW200810111A 電晶體元件及該製造方法以及發光元件及顯示器审中-公开
简体标题：晶体管组件及该制造方法以及发光组件及显示器
公开(公告)号：TW200810111A
公开(公告)日：2008-02-16
申请号：TW096109957
申请日：2007-03-22
申请人：國立大學法人大阪大學 OSAKA UNIVERSITY , 住友化學股份有限公司 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED , 大日本印刷股份有限公司 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. , 先鋒股份有限公司 PIONEER CORPORATION
发明人：橫山正明 YOKOYAMA, MASAAKI , 中山健一 NAKAYAMA, KENICHI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L51/0504 , B82Y10/00 , C08G2261/92 , H01L27/3262 , H01L51/0037 , H01L51/0046 , H01L51/0053 , H01L51/006 , H01L51/0078 , H01L51/0081 , H01L51/5096 , H01L51/5203 , H01L51/5296
摘要：本發明乃有關一種電晶體元件及該製造方法以發光元件及顯示器,提供在射極電極-集極電極間,可以低電壓且大電流調變之電晶體元件。又,提供如是電晶體元件之製造方法,或提供具有該電晶體元件之發光元件及顯示器。電晶體元件乃具有射極電極3與集極電極2。於射極電極3與集極電極2間,設置半導體層及薄片狀之基極電極4。半導體層5乃設於射極電極3與基極電極4間及集極電極2與基極電極4,構成各第2半導體層5B及第2第1半導體層5A,更且基極電極之厚度為80nm以下者為佳。又,至少於射極電極與基極電極間或集極電極與基極電極間,設置暗電流抑制層。
简体摘要：本发明乃有关一种晶体管组件及该制造方法以发光组件及显示器,提供在射极电极-集极电极间,可以低电压且大电流调制之晶体管组件。又,提供如是晶体管组件之制造方法,或提供具有该晶体管组件之发光组件及显示器。晶体管组件乃具有射极电极3与集极电极2。于射极电极3与集极电极2间,设置半导体层及薄片状之基极电极4。半导体层5乃设于射极电极3与基极电极4间及集极电极2与基极电极4,构成各第2半导体层5B及第2第1半导体层5A,更且基极电极之厚度为80nm以下者为佳。又,至少于射极电极与基极电极间或集极电极与基极电极间,设置暗电流抑制层。

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