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    • 2. 发明专利
    • 濺射靶及其製造方法 SPUTTERING TARGET AND THE MANUFACTURE THEREOF
    • 溅射靶及其制造方法 SPUTTERING TARGET AND THE MANUFACTURE THEREOF
    • TWI265203B
    • 2006-11-01
    • TW092123232
    • 2003-08-22
    • 三井金屬礦業股份有限公司 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
    • 尾野直紀 NAOKI ONO
    • C23C
    • 一種濺射靶和濺射靶的製造方法,所製得之濺鍍靶不產生弧光,可安定形成膜,當結球產生時不致產生因顆粒引起的基板等之品質劣化。
      本發明的濺射靶係經由黏結材料接合由複數個分割靶材所構成的靶材和襯板的濺射靶。分割靶材之中,在互相鄰接的不同厚度的分割靶材的鄰接部之中,於厚度較厚之一方的分割靶材的鄰接部分,形成具有與厚度較薄的分割靶材的厚度略同的厚度的水平部分,且在厚度較厚之一方的分割靶材,從水平部分至上部靶面形成連續傾斜部分。
    • 一种溅射靶和溅射靶的制造方法,所制得之溅镀靶不产生弧光,可安定形成膜,当结球产生时不致产生因颗粒引起的基板等之品质劣化。 本发明的溅射靶系经由黏结材料接合由复数个分割靶材所构成的靶材和衬板的溅射靶。分割靶材之中,在互相邻接的不同厚度的分割靶材的邻接部之中,于厚度较厚之一方的分割靶材的邻接部分,形成具有与厚度较薄的分割靶材的厚度略同的厚度的水平部分,且在厚度较厚之一方的分割靶材,从水平部分至上部靶面形成连续倾斜部分。
    • 9. 发明专利
    • 多層積層配線板 MULTI-LAYER LAMINATE WIRING BOARD
    • 多层积层配线板 MULTI-LAYER LAMINATE WIRING BOARD
    • TW200529724A
    • 2005-09-01
    • TW094105562
    • 2005-02-24
    • 三井金屬礦業股份有限公司 MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
    • 林克彥 HAYASHI, KATSUHIKO
    • H05K
    • H05K3/462H05K3/005H05K3/4046H05K3/4623H05K3/4626H05K2201/0154H05K2201/0347H05K2201/096H05K2203/033
    • 本發明的多層基層配線板,係在絕緣基板之兩面上形成自導電性金屬所構成的配線圖案,至少積層2片經由貫通絕緣基板的貫通孔的導電性金屬連接形成在該絕緣基板上的個別的配線圖案的兩面配線基板,且在各兩面配線基板之間具有電性的連接的多層配線基板,藉由配置在形成於個別的兩面配線基板的積層面的連接端子的表面的低熔點導電性金屬層接合,電性連接個別的兩面配線基板,且在個別的兩面配線基板的連接端子部份以外的部分,選擇性地經網版印刷塗敷的聚醯亞胺系黏著性樹脂,黏著至少2片兩面配線基板。若由本發明的多層基層配線板,可確實積層多層積層基板,且確實電性連接各層間。
    • 本发明的多层基层配线板,系在绝缘基板之两面上形成自导电性金属所构成的配线图案,至少积层2片经由贯通绝缘基板的贯通孔的导电性金属连接形成在该绝缘基板上的个别的配线图案的两面配线基板,且在各两面配线基板之间具有电性的连接的多层配线基板,借由配置在形成于个别的两面配线基板的积层面的连接端子的表面的低熔点导电性金属层接合,电性连接个别的两面配线基板,且在个别的两面配线基板的连接端子部份以外的部分,选择性地经网版印刷涂敷的聚酰亚胺系黏着性树脂,黏着至少2片两面配线基板。若由本发明的多层基层配线板,可确实积层多层积层基板,且确实电性连接各层间。