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    • 82. 发明专利
      TW200911120A 除草活性組合物 HERBICIDALLY ACTIVE COMPOSITION 审中-公开
    • 除草活性組合物 HERBICIDALLY ACTIVE COMPOSITION
    • 除草活性组合物 HERBICIDALLY ACTIVE COMPOSITION
    • TW200911120A
    • 2009-03-16
    • TW097121953
    • 2008-06-12
    • 巴地斯顏料化工廠 BASF SE
    • 艾柯 胡珀 HUPE, EIKE , 威廉 卡爾 莫柏 MOBERG, WILLIAM KARL , 羅柏 雷因哈德 REINHARD, ROBERT , 奔德 希維尼齊 SIEVERNICH, BERND , 伊莫 基勒 KIBLER, ELMAR
    • A01N , C07D , A01P
    • A01N37/46 , A01N43/60 , A01N33/18 , A01N43/10 , A01N43/40 , A01N43/42 , A01N43/50 , A01N43/54 , A01N43/70 , A01N43/80 , A01N43/82 , A01N47/12 , A01N47/30 , A01N2300/00
    • 本發明係關於除草活性組合物,其包含至少一種式I之二酮化合物:
      097121953P01.bmp
      其中:R^x、R^y各自為氫或一起形成化學鍵;R^1為氰基或硝基;R^2為氫、氟、氯、C1-C2烷基、乙烯基或C1-C2烷氧基;R^3為氟或氫;R^4為甲基;R^5為氫、甲基或乙基;R^6為氫、甲基或乙基;且R^7為氫或鹵素;及至少一種選自由以下各者組成之群之其他活性化合物:b1)脂質生物合成抑制劑;b2)乙醯乳酸合成抑制劑(ALS抑制劑);b3)光合作用抑制劑;b4)原原-IX (protoporphyrinogen-IX)氧化抑制劑;b5)漂白劑除草劑;b6)烯醇式丙酮醯莽草酸3-磷酸合成抑制劑(enolpyruvyl
      shikimate 3-phosphate synthase inhibitor;EPSP抑制劑);b7)麩醯胺合成抑制劑;b8)7,8-二氫喋酸合成抑制劑(7,8
      -dihydropteroate synthase inhibitor;DHP抑制劑);b9)有絲分裂抑制劑;b10)極長鏈脂肪酸之合成抑制劑(VLCFA抑制劑);b11)纖維素生物合成抑制劑;b12)去偶合除草劑;b13)生長素除草劑;b14)生長素轉運抑制劑;b15)其他除草劑;及C)安全劑。
    • 本发明系关于除草活性组合物,其包含至少一种式I之二酮化合物: 097121953P01.bmp 其中:R^x、R^y各自为氢或一起形成化学键;R^1为氰基或硝基;R^2为氢、氟、氯、C1-C2烷基、乙烯基或C1-C2烷氧基;R^3为氟或氢;R^4为甲基;R^5为氢、甲基或乙基;R^6为氢、甲基或乙基;且R^7为氢或卤素;及至少一种选自由以下各者组成之群之其他活性化合物:b1)脂质生物合成抑制剂;b2)乙酰乳酸合成抑制剂(ALS抑制剂);b3)光合作用抑制剂;b4)原原-IX (protoporphyrinogen-IX)氧化抑制剂;b5)漂白剂除草剂;b6)烯醇式丙酮酰莽草酸3-磷酸合成抑制剂(enolpyruvyl shikimate 3-phosphate synthase inhibitor;EPSP抑制剂);b7)麸酰胺合成抑制剂;b8)7,8-二氢喋酸合成抑制剂(7,8 -dihydropteroate synthase inhibitor;DHP抑制剂);b9)有丝分裂抑制剂;b10)极长链脂肪酸之合成抑制剂(VLCFA抑制剂);b11)纤维素生物合成抑制剂;b12)去偶合除草剂;b13)生长素除草剂;b14)生长素转运抑制剂;b15)其他除草剂;及C)安全剂。
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    • 88. 发明专利
      TW200417319A 殺真菌劑 FUNGICIDES 审中-公开
    • 殺真菌劑 FUNGICIDES
    • 杀真菌剂 FUNGICIDES
    • TW200417319A
    • 2004-09-16
    • TW092132750
    • 2003-11-21
    • 辛堅塔股份有限公司 SYNGENTA LIMITED
    • 派屈克 傑夫 克勞力 PATRICK JELF CROWLEY , 羅傑 莎曼 ROGER SALMON
    • A01N
    • C07D403/12 , A01N43/42 , A01N43/54 , C07D215/20 , C07D215/54 , C07D215/60 , C07D217/02 , C07D239/74 , C07D409/12
    • 通式(1)殺真菌化合物：092132750p01.bmp其中X與Y之一為N或N–氧化物，而另一個為CR，或X與Y兩者均為N；Z為H，鹵基，C1–6烷基，視情況被鹵基或C1–4烷氧基取代，C3–6環烷基，視情況被鹵基或C1–4烷氧基取代，C2–4烯基，視情況被鹵基取代，C2–4炔基，視情況被鹵基取代，C1–6烷氧基，視情況被鹵基或C1–4烷氧基取代，C2–4烯氧基，視情況被鹵基取代，C2–4炔氧基，視情況被鹵基取代，氰基、硝基、C1–4烷氧羰基、–OSO2R’、S(O)nR’、–COR”、–CONR”R”’、–CR”＝NOR’、NR”R”’、NR”COR’、NR”CO2R’，其中n為0,1或2，R’為C1–6烷基，視情況被鹵素取代，且R”與R”’係獨立為H或C1–6烷基，或在–CONR”R”’之情況中，可接合而形成5–或6–員環，含有單一氮原子、飽和碳原子及選用之單一氧原子；R為H、鹵基、C1–8烷基、C3–6環烷基、C2–8烯基、C2–8炔基、C1–8烷氧基、C1–8烷硫基、硝基、胺基、單–或二–(C1–6)烷胺基、單–或二–(C2–6)烯基–胺基、單–或二–(C2–6)炔基胺基、甲醯胺基、C1–4烷基(甲醯基)胺基、C1–4烷羰基胺基、C1–4烷氧羰基胺基、C1–4烷基(C1–4烷基–羰基)胺基、氰基、甲醯基、C1–4烷羰基、C1–4烷氧羰基、胺基–羰基、單–或二–(C1–4)烷基胺基羰基、羧基、C1–4烷羰基氧基、芳基(C1–4)烷羰基氧基、C1–4烷基亞磺醯基、C1–4烷基磺醯基或C1–4烷基–磺醯基氧基；R1為C1–4烷基、C2–4烯基或 C2–4炔基，其中烷基、烯基及炔基係視情況在其末端碳原子上被一、二或三個鹵原子，被氰基，被C1–4烷羰基，被C1–4烷氧羰基，或被羥基取代，或R1為烷氧烷基、烷基硫基烷基、烷基亞磺醯基烷基或烷基磺醯基烷基，其中碳原子總數為2或3，或R1為直鏈C1–4烷氧基；R2為H、C1–4烷基、C1–4烷氧基甲基或氧基甲基，其中基部份基團之苯環係視情況被C1–4烷氧基取代；R3與R4係獨立為H、C1–3烷基、C2–3烯基或C2–3炔基，其條件是，兩者不同時為H，且當兩者為H以外者時，其合併之碳原子總數不超過4，或R3與R4和彼等所連接之碳原子一起接合，以形成3或4員碳環，視情況含有一個O、S或N原子，且視情況被鹵基或C1–4烷基取代；及R5為H、C1–4@e B!烷基或C3–6環烷基，其中烷基或環烷基係視情況被以下基團取代，鹵基、羥基、C1–6烷氧基、氰基、C1–4烷羰基–氧基、胺基羰基氧基、單–或二(C1–4)烷胺基羰基氧基、–S(O)n(C1–6)–烷基，其中n為0,1或2，三唑基(例如1,2,4–三唑–1–基)、三(C1–4)烷基矽烷基氧基、視情況經取代之苯氧基、視情況經取代之吩基氧基、視情況經取代之氧基或視情況經取代之吩基甲氧基，或R5為視情況經取代之苯基、視情況經取代之吩基或視情況經取代之基，其中R5意義之視情況經取代之苯基與吩基環係視情況被一、二或三個取代基取代，選自鹵基、羥基、巰基、C1–4烷基、C2–4烯基、C2–4炔基、C1–4烷氧基、C2–4烯氧基、C2–4炔氧基、鹵基(C1–4)烷基、鹵基(C1–4)烷氧基、C1–4烷硫基、鹵基(C1–4@ eB!)烷硫基、羥基(C1–4)烷基、C1–4烷氧基(C1–4)烷基、C3–6環烷基、C3–6環烷基(C1–4)烷基、苯氧基、氧基、苯甲醯氧基、氰基、異氰基、氰硫基、異硫氰基、硝基、–NR^mR^n、–NHCOR^m、–NHCONR^mR^n、–CONR^mR^n、–SO2R^m、–OSO2R^m、–COR^m、–CR^m＝NR^n或–N＝CR^mR^n，其中R^m與R^n係獨立為氫、C1–4烷基、鹵基(C1–4)烷基、C1–4烷氧基、鹵基–(C1–4)烷氧基、C1–4烷硫基、C3–6環烷基、C3–6環烷基(C1–4)烷基、苯基或基，該苯基與基係視情況被鹵素、C1–4烷基或C1–4烷氧基取代。092132750p01.bmp
    • 通式(1)杀真菌化合物：092132750p01.bmp其中X与Y之一为N或N–氧化物，而另一个为CR，或X与Y两者均为N；Z为H，卤基，C1–6烷基，视情况被卤基或C1–4烷氧基取代，C3–6环烷基，视情况被卤基或C1–4烷氧基取代，C2–4烯基，视情况被卤基取代，C2–4炔基，视情况被卤基取代，C1–6烷氧基，视情况被卤基或C1–4烷氧基取代，C2–4烯氧基，视情况被卤基取代，C2–4炔氧基，视情况被卤基取代，氰基、硝基、C1–4烷氧羰基、–OSO2R’、S(O)nR’、–COR”、–CONR”R”’、–CR”＝NOR’、NR”R”’、NR”COR’、NR”CO2R’，其中n为0,1或2，R’为C1–6烷基，视情况被卤素取代，且R”与R”’系独立为H或C1–6烷基，或在–CONR”R”’之情况中，可接合而形成5–或6–员环，含有单一氮原子、饱和碳原子及选用之单一氧原子；R为H、卤基、C1–8烷基、C3–6环烷基、C2–8烯基、C2–8炔基、C1–8烷氧基、C1–8烷硫基、硝基、胺基、单–或二–(C1–6)烷胺基、单–或二–(C2–6)烯基–胺基、单–或二–(C2–6)炔基胺基、甲酰胺基、C1–4烷基(甲酰基)胺基、C1–4烷羰基胺基、C1–4烷氧羰基胺基、C1–4烷基(C1–4烷基–羰基)胺基、氰基、甲酰基、C1–4烷羰基、C1–4烷氧羰基、胺基–羰基、单–或二–(C1–4)烷基胺基羰基、羧基、C1–4烷羰基氧基、芳基(C1–4)烷羰基氧基、C1–4烷基亚磺酰基、C1–4烷基磺酰基或C1–4烷基–磺酰基氧基；R1为C1–4烷基、C2–4烯基或 C2–4炔基，其中烷基、烯基及炔基系视情况在其末端碳原子上被一、二或三个卤原子，被氰基，被C1–4烷羰基，被C1–4烷氧羰基，或被羟基取代，或R1为烷氧烷基、烷基硫基烷基、烷基亚磺酰基烷基或烷基磺酰基烷基，其中碳原子总数为2或3，或R1为直链C1–4烷氧基；R2为H、C1–4烷基、C1–4烷氧基甲基或氧基甲基，其中基部份基团之苯环系视情况被C1–4烷氧基取代；R3与R4系独立为H、C1–3烷基、C2–3烯基或C2–3炔基，其条件是，两者不同时为H，且当两者为H以外者时，其合并之碳原子总数不超过4，或R3与R4和彼等所连接之碳原子一起接合，以形成3或4员碳环，视情况含有一个O、S或N原子，且视情况被卤基或C1–4烷基取代；及R5为H、C1–4@e B!烷基或C3–6环烷基，其中烷基或环烷基系视情况被以下基团取代，卤基、羟基、C1–6烷氧基、氰基、C1–4烷羰基–氧基、胺基羰基氧基、单–或二(C1–4)烷胺基羰基氧基、–S(O)n(C1–6)–烷基，其中n为0,1或2，三唑基(例如1,2,4–三唑–1–基)、三(C1–4)烷基硅烷基氧基、视情况经取代之苯氧基、视情况经取代之吩基氧基、视情况经取代之氧基或视情况经取代之吩基甲氧基，或R5为视情况经取代之苯基、视情况经取代之吩基或视情况经取代之基，其中R5意义之视情况经取代之苯基与吩基环系视情况被一、二或三个取代基取代，选自卤基、羟基、巯基、C1–4烷基、C2–4烯基、C2–4炔基、C1–4烷氧基、C2–4烯氧基、C2–4炔氧基、卤基(C1–4)烷基、卤基(C1–4)烷氧基、C1–4烷硫基、卤基(C1–4@ eB!)烷硫基、羟基(C1–4)烷基、C1–4烷氧基(C1–4)烷基、C3–6环烷基、C3–6环烷基(C1–4)烷基、苯氧基、氧基、苯甲酰氧基、氰基、异氰基、氰硫基、异硫氰基、硝基、–NR^mR^n、–NHCOR^m、–NHCONR^mR^n、–CONR^mR^n、–SO2R^m、–OSO2R^m、–COR^m、–CR^m＝NR^n或–N＝CR^mR^n，其中R^m与R^n系独立为氢、C1–4烷基、卤基(C1–4)烷基、C1–4烷氧基、卤基–(C1–4)烷氧基、C1–4烷硫基、C3–6环烷基、C3–6环烷基(C1–4)烷基、苯基或基，该苯基与基系视情况被卤素、C1–4烷基或C1–4烷氧基取代。092132750p01.bmp
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    • 89. 发明专利
      TW200305368A 基於7-唑基苯并噁唑之除草混合物 HERBICIDAL MIXTURES BASED ON 7-PYRAZOLYLBENZOXAZOLES 审中-公开
    • 基於7-唑基苯并噁唑之除草混合物 HERBICIDAL MIXTURES BASED ON 7-PYRAZOLYLBENZOXAZOLES
    • 基于7-唑基苯并恶唑之除草混合物 HERBICIDAL MIXTURES BASED ON 7-PYRAZOLYLBENZOXAZOLES
    • TW200305368A
    • 2003-11-01
    • TW091136432
    • 2002-12-17
    • 巴地斯顏料化工廠 BASF AKTIENGESELLSCHAFT
    • 奎爾 查格 CYRILL ZAGAR , 柏納 希維尼許 BERND SIEVERNICHQ , 尤里屈 雪夫爾 ULRICH SCHOFL , 凱爾 歐特 衛斯芬藍 KARL-OTTO WESTPHALEN , 渡邊昭英 AKIHIDE WATANABE , 馬斯 藍德 MAX LANDES , 安卓斯 藍德 ANDREAS LANDES , 馬修斯 衛特雪爾 MATTHIAS WITSCHEL
    • A01N
    • A01N43/76 , A01N57/20 , A01N47/38 , A01N47/34 , A01N47/36 , A01N47/30 , A01N43/88 , A01N43/82 , A01N43/80 , A01N43/70 , A01N43/50 , A01N43/42 , A01N43/40 , A01N43/18 , A01N43/16 , A01N43/10 , A01N41/10 , A01N39/04 , A01N37/40 , A01N37/22 , A01N37/18 , A01N33/18 , A01N25/32 , A01N61/00 , A01N2300/00
    • 本發明係有關除草活性組合物，其包含:A）至少一種式I7–基苯并噁唑化合物091136432p01.bmp其中代號R^1–R^5如本申請專利範圍中之定義，與／或其至少一種農業上可接受之鹽；與至少另一種選自下列之活性化合物：bl）脂質生合成抑制劑；b2）乙醯基乳酸酯合成抑制劑（ALS抑制劑）；b3）光合作用抑制劑；b4）原還原–IX氧化抑制劑；b5）漂白劑除草劑；b6）烯醇丙酮醯基莽草酸鹽3–磷酸合成抑制劑（EPSP抑制劑）；b7）麩醯胺合成抑制劑；b8）7，8–二氫蝶酸鹽合成抑制劑（DHP抑制劑）；b9）有絲分裂抑制劑；bl0）長鏈脂肪酸之合成抑制劑（VLCFA抑制劑）；bll）纖維素生合成抑制劑；bl2）去偶合劑除草劑；bl3）植物生長素除草劑；bl4）植物生長素傳送抑制劑；bl5）選自下列各物組成之群中之其他除草劑:苯索普（benzoylprop）、伏爛普（flamprop）、伏爛普–M、溴汰（bromobutide）、氯伏諾（chlorflurenol）、喜滅靈（cinmethylin）、美達龍（methyldymuron）、抑本賽（et obenzanid）、福賽明（fosamine）、滅丹（metam）、必汰卡（pyributicarb）、樂克芬（oxaziclomefone）、達索（dazomet）、達姆龍（daimuron（dymron））、枯有龍（cumyluron）、三伏爛（triaziflam）與甲基溴化物；及C）選自下列之安全劑：本賽克（benoxacor）、克昆賽（cloquintocet）、賽滅寧（cyometrinil）、二氯滅（dichlormid）、二環能（dicyclonon）、二狄烈（dietholate）、芬克唑（fenchlorazole）、芬克靈（fenclorim）、魯拉唑（flurazole）、伏芬寧（fluxofenim）、伏拉唑（furilazole）、抑得芬（isoxadifen）、米芬比（mefenpyr）、米芬能（mephenate）、酸酐（naphthalicanhydride）、2，2，5–三甲基–3–（二氯乙醯基）–1，3–噁唑啶、4–（二氯乙醯基）–1–氧雜–4–氮雜螺環〔4，5〕癸烷與咢本尼（oxabetrinil）），活性化合物B與C之農業上可接受之鹽及當活性活合物B與C具有羧基時，則包括活性化合物B與C之農業上可接受之衍生物。
    • 本发明系有关除草活性组合物，其包含:A）至少一种式I7–基苯并恶唑化合物091136432p01.bmp其中代号R^1–R^5如本申请专利范围中之定义，与／或其至少一种农业上可接受之盐；与至少另一种选自下列之活性化合物：bl）脂质生合成抑制剂；b2）乙酰基乳酸酯合成抑制剂（ALS抑制剂）；b3）光合作用抑制剂；b4）原还原–IX氧化抑制剂；b5）漂白剂除草剂；b6）烯醇丙酮酰基莽草酸盐3–磷酸合成抑制剂（EPSP抑制剂）；b7）麸酰胺合成抑制剂；b8）7，8–二氢蝶酸盐合成抑制剂（DHP抑制剂）；b9）有丝分裂抑制剂；bl0）长链脂肪酸之合成抑制剂（VLCFA抑制剂）；bll）纤维素生合成抑制剂；bl2）去偶合剂除草剂；bl3）植物生长素除草剂；bl4）植物生长素发送抑制剂；bl5）选自下列各物组成之群中之其他除草剂:苯索普（benzoylprop）、伏烂普（flamprop）、伏烂普–M、溴汰（bromobutide）、氯伏诺（chlorflurenol）、喜灭灵（cinmethylin）、美达龙（methyldymuron）、抑本赛（et obenzanid）、福赛明（fosamine）、灭丹（metam）、必汰卡（pyributicarb）、乐克芬（oxaziclomefone）、达索（dazomet）、达姆龙（daimuron（dymron））、枯有龙（cumyluron）、三伏烂（triaziflam）与甲基溴化物；及C）选自下列之安全剂：本赛克（benoxacor）、克昆赛（cloquintocet）、赛灭宁（cyometrinil）、二氯灭（dichlormid）、二环能（dicyclonon）、二狄烈（dietholate）、芬克唑（fenchlorazole）、芬克灵（fenclorim）、鲁拉唑（flurazole）、伏芬宁（fluxofenim）、伏拉唑（furilazole）、抑得芬（isoxadifen）、米芬比（mefenpyr）、米芬能（mephenate）、酸酐（naphthalicanhydride）、2，2，5–三甲基–3–（二氯乙酰基）–1，3–恶唑啶、4–（二氯乙酰基）–1–氧杂–4–氮杂螺环〔4，5〕癸烷与咢本尼（oxabetrinil）），活性化合物B与C之农业上可接受之盐及当活性活合物B与C具有羧基时，则包括活性化合物B与C之农业上可接受之衍生物。
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