专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

81. 发明专利

TWI278599B 多軸干涉儀 MULTI-AXIS INTERFEROMETER 失效
简体标题：多轴干涉仪 MULTI-AXIS INTERFEROMETER
公开(公告)号：TWI278599B
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：TW092101677
申请日：2003-01-27
申请人：賽格股份有限公司 ZYGO CORPORATION
发明人：亨利A. 希爾 HENRY A. HILL
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02061 , G01B9/02003 , G01B9/02018 , G01B9/02019 , G01B2290/45 , G01B2290/70
摘要：一種多軸干涉儀，用以量測一量測件的位置變化。該干涉儀被設置為接收一原始輸入光束，將從該原始輸入光束所接收到的一第一角度量測光束引導經過該量測件上的一第一點，將從該原始輸入光束所接收到的一第二角度量測光束引導經過該量測件上的一第二點，並結合該第一角度量測光束以及該第二角度量測光束以產生一角度量測輸出光束，其中，該第一角度量測光束以及該第二角度量測光束於被結合成該角度量測輸出光束前，僅經過該量測件一次，且該干涉儀更被設置為引導沿不同的路徑從該原始輸入光束接收的一另一組光束，並將其結合以產生一另一輸出光束，其包括有關於該量測件位置變化的資訊。
简体摘要：一种多轴干涉仪，用以量测一量测件的位置变化。该干涉仪被设置为接收一原始输入光束，将从该原始输入光束所接收到的一第一角度量测光束引导经过该量测件上的一第一点，将从该原始输入光束所接收到的一第二角度量测光束引导经过该量测件上的一第二点，并结合该第一角度量测光束以及该第二角度量测光束以产生一角度量测输出光束，其中，该第一角度量测光束以及该第二角度量测光束于被结合成该角度量测输出光束前，仅经过该量测件一次，且该干涉仪更被设置为引导沿不同的路径从该原始输入光束接收的一另一组光束，并将其结合以产生一另一输出光束，其包括有关于该量测件位置变化的信息。

82. 发明专利

TW200700694A 有關薄膜結構資訊之低同調干涉信號的分析方法及系統 METHOD AND SYSTEM FOR ANALYZING LOW-COHERENCE INTERFEROMETRY SIGNALS FOR INFORMATION ABOUT THIN FILM STRUCTURES 审中-公开
简体标题：有关薄膜结构信息之低同调干涉信号的分析方法及系统 METHOD AND SYSTEM FOR ANALYZING LOW-COHERENCE INTERFEROMETRY SIGNALS FOR INFORMATION ABOUT THIN FILM STRUCTURES
公开(公告)号：TW200700694A
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW095117603
申请日：2006-05-18
申请人：賽格股份有限公司 ZYGO CORPORATION
发明人：彼得J. DE 古魯特 DE GROOT, PETER J.
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02084 , G01B9/02087 , G01B9/02088 , G01B9/0209 , G01N21/8422
摘要：方法及系統被揭露,用以分析一掃瞄干涉信號。步驟包括:對於一測試物體(例如,具有一薄膜的一樣品)的一第一位置提供由一掃瞄干涉儀產生的一掃瞄干涉信號;提供由掃瞄干涉儀產生的掃瞄干涉信號之模型函數,其中模型函數被一或多個參數値參數化;經由改變參數値,對於在模型函數與掃瞄干涉信號間的掃瞄位置中之一系統移位之各個移位,將模型函數適配至掃瞄干涉信號;及根據適配決定在第一位置之有關測試物體的資訊(例如,測試物體中的薄膜之表面高度或高度輪廓、及/或厚度或厚度輪廓)。
简体摘要：方法及系统被揭露,用以分析一扫瞄干涉信号。步骤包括:对于一测试物体(例如,具有一薄膜的一样品)的一第一位置提供由一扫瞄干涉仪产生的一扫瞄干涉信号;提供由扫瞄干涉仪产生的扫瞄干涉信号之模型函数,其中模型函数被一或多个参数値参数化;经由改变参数値,对于在模型函数与扫瞄干涉信号间的扫瞄位置中之一系统移位之各个移位,将模型函数适配至扫瞄干涉信号;及根据适配决定在第一位置之有关测试物体的信息(例如,测试物体中的薄膜之表面高度或高度轮廓、及/或厚度或厚度轮廓)。

83. 发明专利

TWI269022B 相位移干涉術之方法與系統 PHASE-SHIFTING INTERFEROMETRY METHOD AND SYSTEM 有权
简体标题：相位移干涉术之方法与系统 PHASE-SHIFTING INTERFEROMETRY METHOD AND SYSTEM
公开(公告)号：TWI269022B
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：TW091135414
申请日：2002-12-06
申请人：賽格股份有限公司 ZYGO CORPORATION
发明人：萊思禮L. 迪克 LESLIE L. DECK
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B11/06 , G01B9/02004 , G01B9/0201 , G01B9/02021 , G01B9/02028 , G01B9/02057 , G01B9/02081 , G01B11/2441 , G01B2290/45 , G01B2290/70
摘要：一種干涉術之方法包括：i)藉由將反射自複數表面之一光波前之不同部位結合，形成一光學干涉影像；ii)隨著改變上述光波前特性，其引起具有不同光路徑分離之複數表面對提供不同的上述干涉訊號，記錄上述光學干涉影像之不同位置的一干涉訊號；iii)對於至少一上述位置轉換該干涉訊號，以便於光譜座標上，對應於該等複數表面對之每一對，產生具有一峰值的一光譜；以及iv)鑑別對應於該等複數表面對之一被選擇對的該峰值之光譜座標。
简体摘要：一种干涉术之方法包括：i)借由将反射自复数表面之一光波前之不同部位结合，形成一光学干涉影像；ii)随着改变上述光波前特性，其引起具有不同光路径分离之复数表面对提供不同的上述干涉信号，记录上述光学干涉影像之不同位置的一干涉信号；iii)对于至少一上述位置转换该干涉信号，以便于光谱座标上，对应于该等复数表面对之每一对，产生具有一峰值的一光谱；以及iv)鉴别对应于该等复数表面对之一被选择对的该峰值之光谱座标。

84. 发明专利

TW200634288A 干涉術系統及方法 INTERFEROMETRY SYSTEMS AND METHODS 失效
简体标题：干涉术系统及方法 INTERFEROMETRY SYSTEMS AND METHODS
公开(公告)号：TW200634288A
公开(公告)日：2006-10-01
申请号：TW094108007
申请日：2005-03-16
申请人：賽格股份有限公司 ZYGO CORPORATION
发明人：彼得J. DE 古魯特 DE GROOT, PETER J.
IPC分类号： G01B
摘要：本發明之第一特點在於裝置中包括了一干涉儀，此干涉儀，包括一主空腔與一輔助參考表面，主空腔包括一局部反射表面，局部反射表面是用以定義一主要參考表面與一測試表面，干涉儀是設計用以將輸入電磁輻射之一主要部分導引至主空腔、對於輸入電磁輻射之一輔助部分進行導引下而可經由輔助參考表面所反射，其中，於主空腔中之主要部分之一第一部分是經由主要參考表面所反射，於主空腔中之主要部分之一第二部分是通過主要參考表面且由測試表面所反射：干涉儀更設計用以將測試表面、主要參考表面、輔助參考表面所反射之電磁輻射導引至一多元件偵測器，藉此與另一電磁輻射導引之間產生干涉而形成了一干涉圖案。
简体摘要：本发明之第一特点在于设备中包括了一干涉仪，此干涉仪，包括一主空腔与一辅助参考表面，主空腔包括一局部反射表面，局部反射表面是用以定义一主要参考表面与一测试表面，干涉仪是设计用以将输入电磁辐射之一主要部分导引至主空腔、对于输入电磁辐射之一辅助部分进行导引下而可经由辅助参考表面所反射，其中，于主空腔中之主要部分之一第一部分是经由主要参考表面所反射，于主空腔中之主要部分之一第二部分是通过主要参考表面且由测试表面所反射：干涉仪更设计用以将测试表面、主要参考表面、辅助参考表面所反射之电磁辐射导引至一多组件侦测器，借此与另一电磁辐射导引之间产生干涉而形成了一干涉图案。

85. 发明专利

TWI259898B 補償干涉儀中隨時間改變之氣體特性的方法與裝置 METHOD AND APPARATUS FOR COMPENSATION OF TIME-VARYING OPTICAL PROPERTIES OF GAS IN INTERFEROMETRY 失效
简体标题：补偿干涉仪中随时间改变之气体特性的方法与设备 METHOD AND APPARATUS FOR COMPENSATION OF TIME-VARYING OPTICAL PROPERTIES OF GAS IN INTERFEROMETRY
公开(公告)号：TWI259898B
公开(公告)日：2006-08-11
申请号：TW092101447
申请日：2003-01-23
申请人：賽格股份有限公司 ZYGO CORPORATION
发明人：亨利A. 希爾 HENRY A. HILL
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02019 , G01B9/02003 , G01B9/02027 , G01B9/0207 , G01B9/02098 , G01B2290/45 , G01B2290/70
摘要：一種補償干涉儀中氣體隨時變光學性質之方法與其裝置，基於透過一量測光線傳遞方向之方式，藉以量測一光徑長。
简体摘要：一种补偿干涉仪中气体随时变光学性质之方法与其设备，基于透过一量测光线传递方向之方式，借以量测一光径长。

86. 发明专利

TW200305005A 多軸干涉儀 MULTI-AXIS INTERFEROMETER 失效
简体标题：多轴干涉仪 MULTI-AXIS INTERFEROMETER
公开(公告)号：TW200305005A
公开(公告)日：2003-10-16
申请号：TW092101677
申请日：2003-01-27
申请人：賽格股份有限公司 ZYGO CORPORATION
发明人：亨利A 希爾 HENRY A. HILL
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02061 , G01B9/02003 , G01B9/02018 , G01B9/02019 , G01B2290/45 , G01B2290/70
摘要：一種多軸干涉儀，用以量測一量測件的位置變化。該干涉儀被設置為接收一原始輸入光束，將從該原始輸入光束所接收到的一第一角度量測光束引導經過該量測件上的一第一點，將從該原始輸入光束所接收到的一第二角度量測光束引導經過該量測件上的一第二點，並結合該第一角度量測光束以及該第二角度量測光束以產生一角度量測輸出光束，其中，該第一角度量測光束以及該第二角度量測光束於被結合成該角度量測輸出光束前，僅經過該量測件一次，且該干涉儀更被設置為引導沿不同的路徑從該原始輸入光束接收的一另一組光束，並將其結合以產生一另一輸出光束，其包括有關於該量測件位置變化的資訊。
简体摘要：一种多轴干涉仪，用以量测一量测件的位置变化。该干涉仪被设置为接收一原始输入光束，将从该原始输入光束所接收到的一第一角度量测光束引导经过该量测件上的一第一点，将从该原始输入光束所接收到的一第二角度量测光束引导经过该量测件上的一第二点，并结合该第一角度量测光束以及该第二角度量测光束以产生一角度量测输出光束，其中，该第一角度量测光束以及该第二角度量测光束于被结合成该角度量测输出光束前，仅经过该量测件一次，且该干涉仪更被设置为引导沿不同的路径从该原始输入光束接收的一另一组光束，并将其结合以产生一另一输出光束，其包括有关于该量测件位置变化的信息。

87. 发明专利

TW468032B 用於量測角度及距離且具有動態光束操縱總成之干涉測量系統失效
简体标题：用于量测角度及距离且具有动态光束操纵总成之干涉测量系统
公开(公告)号：TW468032B
公开(公告)日：2001-12-11
申请号：TW089108509
申请日：2000-05-16
申请人：賽格股份有限公司
发明人：亨利A 希爾
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02019 , G01B9/02003 , G01B9/02068 , G01B9/02081 , G01B2290/70 , G03F7/70775
摘要：本發明說明干涉測量系統的特徵，干涉測量系統量測在量測物件的角度方向中的變化並且也包括至少一動態光束操縱總成。動態光束操縱總成重新指引在干涉測量系統內部的一或者更多光束以作為對在量測物件的角度方向中的變化的反應。在許多實施例中，動態光束操縱總成的存在允許干涉測量系統使用僅單一量測光束接觸量測物件而量測量測物件的角度方向。此外，在許多實施例中，從接觸量測物件的量測光束所推導得到的控制信號導致動態光束操縱總成重新指引量測光束垂直入射地接觸量測物件。當在此類垂直入射時，根據一或者更多從量測光束所推導得到的控制信號或是根據動態光束操縱總成本身的方位，干涉測量系統可以計算量測物件的角度方向。
简体摘要：本发明说明干涉测量系统的特征，干涉测量系统量测在量测对象的角度方向中的变化并且也包括至少一动态光束操纵总成。动态光束操纵总成重新指引在干涉测量系统内部的一或者更多光束以作为对在量测对象的角度方向中的变化的反应。在许多实施例中，动态光束操纵总成的存在允许干涉测量系统使用仅单一量测光束接触量测对象而量测量测对象的角度方向。此外，在许多实施例中，从接触量测对象的量测光束所推导得到的控制信号导致动态光束操纵总成重新指引量测光束垂直入射地接触量测对象。当在此类垂直入射时，根据一或者更多从量测光束所推导得到的控制信号或是根据动态光束操纵总成本身的方位，干涉测量系统可以计算量测对象的角度方向。

88. 发明专利

TW421708B 用以描述及修訂在距離量測及色散干涉測定中之循環式錯誤的系統與方法失效
简体标题：用以描述及修订在距离量测及色散干涉测定中之循环式错误的系统与方法
公开(公告)号：TW421708B
公开(公告)日：2001-02-11
申请号：TW089104558
申请日：2000-03-15
申请人：賽格股份有限公司
发明人：亨利 A. 希爾
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G03F7/70716 , G01B9/02003 , G01B9/02018 , G01B9/02019 , G01B9/02059 , G01B9/02083 , G01B2290/70
摘要：本發明說明用於描述循環式錯誤的干涉測定系統之特徵。在一些實施例中，系統包括一個相位移動組件(例如一個相位或頻率移動器)，其用以在一個干涉計的參考與量測光束之間產生一個可變且被控制的相位。藉由分析干涉計的距離量測作為導入相位的一個函數，在干涉測定系統中的一個分析器可以描繪在干涉計中之循環性錯誤的特性。一旦循環性錯誤的特性被描繪，分析器可以直接地修訂距離量測以移除來自循環性錯誤的貢獻。二者擇一地，或另外，包括相位移動組件，干涉測定系統可以在量測物件的多重位置上完成在量測臂中氣體的色散量測以及分析器可以基於色散量測而決定在系統中的循環性錯誤。本發明也描寫用以製作積體電路之彫像(lithography)系統的特徵，其中彫像系統包括至少一個的上述干涉測定系統。
简体摘要：本发明说明用于描述循环式错误的干涉测定系统之特征。在一些实施例中，系统包括一个相位移动组件(例如一个相位或频率移动器)，其用以在一个干涉计的参考与量测光束之间产生一个可变且被控制的相位。借由分析干涉计的距离量测作为导入相位的一个函数，在干涉测定系统中的一个分析器可以描绘在干涉计中之循环性错误的特性。一旦循环性错误的特性被描绘，分析器可以直接地修订距离量测以移除来自循环性错误的贡献。二者择一地，或另外，包括相位移动组件，干涉测定系统可以在量测对象的多重位置上完成在量测臂中气体的色散量测以及分析器可以基于色散量测而决定在系统中的循环性错误。本发明也描写用以制作集成电路之雕像(lithography)系统的特征，其中雕像系统包括至少一个的上述干涉测定系统。

89. 发明专利

TW201809590A 利用可調波長雷射之精確定位系統审中-公开
简体标题：利用可调波长激光之精确定位系统
公开(公告)号：TW201809590A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106118824
申请日：2017-06-07
申请人：美商賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：迪克萊斯利L , DECK, LESLIE L.
IPC分类号： G01B9/02 , G01N21/45 , G01J3/45
CPC分类号： G01B11/14 , G01B9/02 , G01B9/02004 , G01B9/02091 , H01S5/06
摘要：一種用於決定測試腔特性的方法，該方法包括針對可調雷射的頻寬內的多個光學頻率中的每一個，測量來自測試腔與具有已知特性的參考腔的干涉訊號。該方法包括根據來自參考腔與已知特性參考腔的測得的干涉訊號，決定多個光學頻率的值，以及使用多個光學頻率的已定值來決定測試腔的特性。
简体摘要：一种用于决定测试腔特性的方法，该方法包括针对可调激光的带宽内的多个光学频率中的每一个，测量来自测试腔与具有已知特性的参考腔的干涉信号。该方法包括根据来自参考腔与已知特性参考腔的测得的干涉信号，决定多个光学频率的值，以及使用多个光学频率的已定值来决定测试腔的特性。

90. 发明专利

TW201712770A 變形體之位移測量审中-公开
简体标题：变形体之位移测量
公开(公告)号：TW201712770A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105114837
申请日：2016-05-13
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：巴達米微微克G , BADAMI, VIVEK G.
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/027 , B29C59/02
CPC分类号： G01B11/16 , G01B11/14 , G03F1/42 , G03F7/0002
摘要：一種測量一物體之一位置的方法，上述方法包括探測佈置在一基板上一第一平面的一感測記號，以判斷上述物體的上述位置，而上述基底之一部分由上述感測記號連接至上述物體。上述物體的一邊緣足夠接近上述感測記號的一邊緣，以減少由上述基板的一變形所造成在上述物體之上述位置的測量誤差。
简体摘要：一种测量一物体之一位置的方法，上述方法包括探测布置在一基板上一第一平面的一传感记号，以判断上述物体的上述位置，而上述基底之一部分由上述传感记号连接至上述物体。上述物体的一边缘足够接近上述传感记号的一边缘，以减少由上述基板的一变形所造成在上述物体之上述位置的测量误差。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式