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81. 发明专利

TW200617945A 安替比林系偶氮金屬錯合物染料、及使用彼等於光學資料記錄之應用 ANTIPYRINE BASED AZO METAL COMPLEX DYES AND THEIR USE IN OPTICAL LAYERS FOR OPTICAL DATA RECORDING 审中-公开
简体标题：安替比林系偶氮金属错合物染料、及使用彼等于光学数据记录之应用 ANTIPYRINE BASED AZO METAL COMPLEX DYES AND THEIR USE IN OPTICAL LAYERS FOR OPTICAL DATA RECORDING
公开(公告)号：TW200617945A
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：TW094126297
申请日：2005-08-03
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：帕斯可史帝芬奴 STEFFANUT, PASCAL
IPC分类号： G11B , C09B
CPC分类号： G11B7/2492 , C09B45/14 , G11B7/2467 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B2007/24612
摘要：本發明係關於安替比林(antipyrine)系偶氮金屬錯合物染料及其用於光學資料記錄用之光學層中的用途，較好是用於使用波長高達450奈米之雷射的光學資料記錄用者。本發明尚關於一種能夠以藍色雷射光來記錄和重製資料的單寫複讀(WORM)式光學資料記錄媒體，其在光學層中使用了一種安替比林系偶氮金屬錯合物染料。
简体摘要：本发明系关于安替比林(antipyrine)系偶氮金属错合物染料及其用于光学数据记录用之光学层中的用途，较好是用于使用波长高达450奈米之激光的光学数据记录用者。本发明尚关于一种能够以蓝色激光光来记录和重制数据的单写复读(WORM)式光学数据记录媒体，其在光学层中使用了一种安替比林系偶氮金属错合物染料。

82. 发明专利

TWI239987B 一種顏料黃色180之製法 PROCESS FOR PRODUCING THE PIGMENT YELLOW 180 有权
简体标题：一种颜料黄色180之制法 PROCESS FOR PRODUCING THE PIGMENT YELLOW 180
公开(公告)号：TWI239987B
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：TW090130504
申请日：2001-12-10
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：橋本勳 , 津田昇 , 大澤浩 , 岡崎知典 , 志賀學 , 大槻浩平
IPC分类号： C09D , C08K
CPC分类号： C08K5/3447 , C09B35/033 , C09B35/22 , C09B41/001 , G03G9/091
摘要：使1,2-雙(2-胺基苯氧)乙烷進行重氮化，將製得的重氮成份和5-乙醯乙醯胺基-苯并咪唑酮進行偶合而製造顏料黃色180時，使用5-乙醯乙醯胺基-苯并咪唑酮作為偶合的成分可製得透明性優越的顏料黃色180。
简体摘要：使1,2-双(2-胺基苯氧)乙烷进行重氮化，将制得的重氮成份和5-乙酰乙酰胺基-苯并咪唑酮进行偶合而制造颜料黄色180时，使用5-乙酰乙酰胺基-苯并咪唑酮作为偶合的成分可制得透明性优越的颜料黄色180。

83. 发明专利

TWI227375B 負型感光性樹脂組成物及用它之顯示裝置 Negative Photosensitive Resin Composition and Display Device Using It 有权
简体标题：负型感光性树脂组成物及用它之显示设备 Negative Photosensitive Resin Composition and Display Device Using It
公开(公告)号：TWI227375B
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：TW091104801
申请日：2002-03-14
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：小林聰 KOBAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0007 , G03F7/0382
摘要：本發明係提供一種耐熱性、感度、解像性、圖案形狀優異、適合使用於蝕刻光阻劑或離子注入光阻劑、間隔片等 LCD面板構造材料及有機EL顯示裝置等電極隔壁材料之工程範圍廣泛的負型感光性樹脂組成物。
本發明的感光性樹脂組成物包含鹼可溶性酚醛清漆樹脂、交聯劑及光酸發生劑，其特徵為該鹼可溶性酚醛清漆樹脂係經分別處理者、具有以聚苯乙烯換算之重量平均分子量為1,000~10,000、且分子量500以下之比率佔全體之5%以下。
简体摘要：本发明系提供一种耐热性、感度、解像性、图案形状优异、适合使用于蚀刻光阻剂或离子注入光阻剂、间隔片等 LCD皮肤构造材料及有机EL显示设备等电极隔壁材料之工程范围广泛的负型感光性树脂组成物。本发明的感光性树脂组成物包含碱可溶性酚醛清漆树脂、交联剂及光酸发生剂，其特征为该碱可溶性酚醛清漆树脂系经分别处理者、具有以聚苯乙烯换算之重量平均分子量为1,000~10,000、且分子量500以下之比率占全体之5%以下。

84. 发明专利

TW200504458A 感光性樹脂組成物密著性改善劑及含有它之感光性樹脂組成物 ADHESION-IMPROVING AGENT FOR PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME 审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物密着性改善剂及含有它之感光性树脂组成物 ADHESION-IMPROVING AGENT FOR PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME
公开(公告)号：TW200504458A
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：TW093116290
申请日：2004-06-07
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD
发明人：小林聰 KOBAYASHI, SATOSHI , 申東明 SHIN, DONG-MYUNG , 武田貴志 TAKEDA, TAKASHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/085
摘要：本發明之課題係為不會使感光性樹脂組成物之保存安定性降低，且可改善感光性樹脂組成物對基板之密著性。本發明之解決方法係在含有鹼可溶性樹脂與感光劑之感光性樹脂組成物中，添加含有下述通式(1)～(5)所示之磺醯基取代氮化合物或下述通式(6)～(8)所示之二唑化合物，例如1– 基磺醯基–1，2，4-三唑、4，5–二苯基–1，2，3–二唑，且塗覆於基板上。093116290-p01.bmp093116290-p02.bmp
简体摘要：本发明之课题系为不会使感光性树脂组成物之保存安定性降低，且可改善感光性树脂组成物对基板之密着性。本发明之解决方法系在含有碱可溶性树脂与感光剂之感光性树脂组成物中，添加含有下述通式(1)～(5)所示之磺酰基取代氮化合物或下述通式(6)～(8)所示之二唑化合物，例如1– 基磺酰基–1，2，4-三唑、4，5–二苯基–1，2，3–二唑，且涂覆于基板上。093116290-p01.bmp093116290-p02.bmp

85. 发明专利

TW200504417A 面光源裝置 SURFACE LIGHT SOURCE DEVICE 审中-公开
简体标题：面光源设备 SURFACE LIGHT SOURCE DEVICE
公开(公告)号：TW200504417A
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：TW093118949
申请日：2004-06-29
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD
发明人：原田隆正 HARADA, TAKAMASA , 北文雄 KITA, FUMIO
IPC分类号： G02F , H05B
CPC分类号： G02B6/0051 , G02B6/0038 , G02B6/0061
摘要：【課題】提供一種在使用一個燈的點光源作為光源的面光源裝置中，在觀察基於點光源的指向性的面光源裝置的亮斑、尤其是從傾斜方向觀察液晶顯示面板等的顯示影像的情況，其可辨視的亮斑少，且在畫面正面方向更為明亮、並可進行高效率的光照射的面光源裝置。【解決手段】一種面光源裝置，係具有點光源組成的發光部11及導光板12，在導光板的背面側設有反射面13，另外還具有稜鏡圖案15的面光源裝置，其特徵為：在導光板的出射面側配置指向性光擴散薄膜14，其中，該光擴散薄膜係由讓光散射的折射率各異的二相所構成，且包含使折射率大的一相沿薄膜的厚度方向延伸的具有柱狀構造的多數區域，且，該柱狀構造與薄膜的法線方向垂直，最大散射角為10度～40度。
简体摘要：【课题】提供一种在使用一个灯的点光源作为光源的面光源设备中，在观察基于点光源的指向性的面光源设备的亮斑、尤其是从倾斜方向观察液晶显示皮肤等的显示影像的情况，其可辨视的亮斑少，且在画面正面方向更为明亮、并可进行高效率的光照射的面光源设备。【解决手段】一种面光源设备，系具有点光源组成的发光部11及导光板12，在导光板的背面侧设有反射面13，另外还具有棱镜图案15的面光源设备，其特征为：在导光板的出射面侧配置指向性光扩散薄膜14，其中，该光扩散薄膜系由让光散射的折射率各异的二相所构成，且包含使折射率大的一相沿薄膜的厚度方向延伸的具有柱状构造的多数区域，且，该柱状构造与薄膜的法线方向垂直，最大散射角为10度～40度。

86. 发明专利

TW200502693A 感光性樹脂組成物塗布性提昇劑及含有它之感光性樹脂組成物 COATABILITY-IMPROVEMENT AGENT FOR PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物涂布性提升剂及含有它之感光性树脂组成物 COATABILITY-IMPROVEMENT AGENT FOR PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW200502693A
公开(公告)日：2005-01-16
申请号：TW092132491
申请日：2003-11-20
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD
发明人：渡部順一郎 WATANABE, JUNICHIRO , 武田貴志 TAKEDA, TAKASHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0226 , G03F7/0757
摘要：本發明之課題係為同時改善於大型基板上塗覆感光性樹脂組成物時產生的鱗狀塗覆斑及基板端部隆起(波紋(bead))之問題。本發明係有關一種在含有酚醛清漆樹脂等鹼可溶性樹脂及含二疊氮基之感光劑的感光性樹脂組成物中，對感光性樹脂組成物之全部固體成分而言含有50～5,000ppm以下述通式所示矽油。092132491-p01.bmp(其中，R1、R2、R3、R4、R5及R6係各表示獨立的氫原子、羥基、碳數1～4之烷基、或芳基，m係表示1～40、n係表示1～40之整數)。
简体摘要：本发明之课题系为同时改善于大型基板上涂覆感光性树脂组成物时产生的鳞状涂覆斑及基板端部隆起(波纹(bead))之问题。本发明系有关一种在含有酚醛清漆树脂等碱可溶性树脂及含二叠氮基之感光剂的感光性树脂组成物中，对感光性树脂组成物之全部固体成分而言含有50～5,000ppm以下述通式所示硅油。092132491-p01.bmp(其中，R1、R2、R3、R4、R5及R6系各表示独立的氢原子、羟基、碳数1～4之烷基、或芳基，m系表示1～40、n系表示1～40之整数)。

87. 发明专利

TWI226351B 安定聚合物用含磷化合物之增效混合物 SYNERGISTIC MIXTURES OF PHOSPHORUS-CONTAINING COMPOUNDS FOR STABILIZING POLYMERS 失效
公开(公告)号：TWI226351B
公开(公告)日：2005-01-11
申请号：TW090116960
申请日：2001-07-11
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：彼得史坦尼克 STANIEK, PETER
IPC分类号： C08K , C07F
CPC分类号： C08K5/51 , C08K5/50 , C09K15/322 , C09K15/324
摘要：本發明乃有關增效混合物，包含 a)至少一種化合物選自式(I)至(V)之亞磷酸酯，式(VI)至(IX)及(XV)之亞膦酸酯，式(X)至(XI)之二聚/寡聚亞膦酸酯及式(XII)至(XIV)之次膦酸酯， b)至少一種化合物選自式(XVI)之磷烷，式(XVII)及(XVIII)之二聚/寡聚磷烷，以及式(XIX)之環磷烷；
本發明亦有關利用此型之增效混合物安定化聚合物以防止熱氧化降解之方法。
简体摘要：本发明乃有关增效混合物，包含 a)至少一种化合物选自式(I)至(V)之亚磷酸酯，式(VI)至(IX)及(XV)之亚膦酸酯，式(X)至(XI)之二聚/寡聚亚膦酸酯及式(XII)至(XIV)之次膦酸酯， b)至少一种化合物选自式(XVI)之磷烷，式(XVII)及(XVIII)之二聚/寡聚磷烷，以及式(XIX)之环磷烷；本发明亦有关利用此型之增效混合物安定化聚合物以防止热氧化降解之方法。

88. 发明专利

TW200500397A 色素聚合物粒子之改良長期二維安定性 IMPROVED LONG TERM DIMENSIONAL STABILITY OF PIGMENTED POLYMER ARTICLES 审中-公开
简体标题：色素聚合物粒子之改良长期二维安定性 IMPROVED LONG TERM DIMENSIONAL STABILITY OF PIGMENTED POLYMER ARTICLES
公开(公告)号：TW200500397A
公开(公告)日：2005-01-01
申请号：TW093108057
申请日：2004-03-25
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD
发明人：克魯奇崔特伯 KRHNKE, CHRISTOPH , 蕭德利禮路山 SOURDRILLE, ROZENN , 杜吉歐巴尼耶涅斯托 DONGIOVANNI, ERNESTO
IPC分类号： C08J
CPC分类号： C08K5/0041 , C08K5/3435 , C08L23/02
摘要：本發明係關於將位阻啶衍生物(HA(L)S)於著色的聚烯烴聚合物中之用途，以減少由光引發的翹曲效應。較佳的是，此種位阻的啶衍生物／胺(HA(L)S)可以與常用來改善耐光度和改善機械性質的UV吸收劑、加工安定劑、酚型抗氧化劑和酸性清除劑做各種不同方式的組合來加以使用。特別是，本發明關於一種降低光在聚烯烴聚合物中引發之翹曲效應的方法，其包括將至少一種有機顏料和至少一種位阻啶衍生物(HA(L)S)結合至聚烯烴聚合物中的步驟
简体摘要：本发明系关于将位阻啶衍生物(HA(L)S)于着色的聚烯烃聚合物中之用途，以减少由光引发的翘曲效应。较佳的是，此种位阻的啶衍生物／胺(HA(L)S)可以与常用来改善耐光度和改善机械性质的UV吸收剂、加工安定剂、酚型抗氧化剂和酸性清除剂做各种不同方式的组合来加以使用。特别是，本发明关于一种降低光在聚烯烃聚合物中引发之翘曲效应的方法，其包括将至少一种有机颜料和至少一种位阻啶衍生物(HA(L)S)结合至聚烯烃聚合物中的步骤

89. 发明专利

TW200428166A 微細圖案形成助劑及其製法 AUXILIARY FOR FINE PATTERN-FORMATION AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：微细图案形成助剂及其制法 AUXILIARY FOR FINE PATTERN-FORMATION AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200428166A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW093108220
申请日：2004-03-26
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：西川雅人 NISHIKAWA, MASATO , 高橋清久 TAKAHASHI, KIYOHISA
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/40 , C08F8/28 , C08F8/30 , C08F8/44 , C08F2810/20 , C08F16/06
摘要：本發明之課題在於提供過濾性良好，沒有塗布缺陷、顯影缺陷且經時安定性極佳的一種微細圖案形成助劑，使用於該助劑之原料聚合物及其製法。本發明解決問題之技術手段係藉由離子交換處理，將乙縮醛化聚乙烯醇(PVA)等之水溶性改質PVA予以脫金屬離子、去氧之後，進行80℃以上之加熱處理。藉此，減低改質PVA中之具有重量平均分子量25萬以上之高分子量體成分量。將含有加熱處理後之改質PVA與交聯劑之微細圖案形成助劑，塗布於光阻圖案3上而形成被覆層4之後，藉由加熱光阻圖案3與被覆層4，酸從光阻圖案3擴散至被覆層。藉由擴散之酸，使光阻圖案表面附近之被覆層交聯與硬化。藉由將被讀層4予以顯影，於光阻圖案表面具有交聯．硬化層 5，且形成具有曝光波長解析度界限以下尺寸之無顯影缺陷的孔洞圖案。
简体摘要：本发明之课题在于提供过滤性良好，没有涂布缺陷、显影缺陷且经时安定性极佳的一种微细图案形成助剂，使用于该助剂之原料聚合物及其制法。本发明解决问题之技术手段系借由离子交换处理，将乙缩醛化聚乙烯醇(PVA)等之水溶性改质PVA予以脱金属离子、去氧之后，进行80℃以上之加热处理。借此，减低改质PVA中之具有重量平均分子量25万以上之高分子量体成分量。将含有加热处理后之改质PVA与交联剂之微细图案形成助剂，涂布于光阻图案3上而形成被覆层4之后，借由加热光阻图案3与被覆层4，酸从光阻图案3扩散至被覆层。借由扩散之酸，使光阻图案表面附近之被覆层交联与硬化。借由将被读层4予以显影，于光阻图案表面具有交联．硬化层 5，且形成具有曝光波长分辨率界限以下尺寸之无显影缺陷的孔洞图案。

90. 发明专利

TW200428165A 水溶性樹脂組成物、圖案形成方法及光阻圖案檢查方法 WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND RESIST PATTERN INSPECTION METHOD 审中-公开
简体标题：水溶性树脂组成物、图案形成方法及光阻图案检查方法 WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND RESIST PATTERN INSPECTION METHOD
公开(公告)号：TW200428165A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW093103585
申请日：2004-02-16
申请人：克拉瑞國際股份有限公司 CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：高野祐輔 TAKANO, YUSUKE , 洪聖恩 HONG, SUNGEUN
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/40 , Y10S430/115 , Y10S430/165
摘要：【課題】由於在光阻圖案上施予被覆層，對光阻圖案附近之被覆層作改性，而使得在光阻圖案表面上形成經改性的被覆層時，即在ArF對應的感放射線性樹脂組成物等拒水性大的光阻圖案中，仍可尺寸控制性良好地來形成充分膜厚之改性膜，且藉此可有效地使光阻圖案變粗大，使光阻圖案之分離尺寸或孔開口尺寸微細化成臨界解像以下，或防止在長測SEM之電子線照射時光阻長測(即長度測量)變化。【解決手段】於基板上所形成的光阻圖案3上，塗佈含有水溶性樹脂與酸發生劑所成的水溶性樹脂組成物以形成被覆層4。藉由對光阻圖案3及被覆層4作加熱處理，而在光阻圖案3表面上形成顯像液不溶性之改性層5，且藉由顯像而得到在光阻圖案表面上具有改性層5之圖案。改性層5於電子線照射時具有作為光阻圖案之保護膜的功能。
简体摘要：【课题】由于在光阻图案上施予被覆层，对光阻图案附近之被覆层作改性，而使得在光阻图案表面上形成经改性的被覆层时，即在ArF对应的感放射线性树脂组成物等拒水性大的光阻图案中，仍可尺寸控制性良好地来形成充分膜厚之改性膜，且借此可有效地使光阻图案变粗大，使光阻图案之分离尺寸或孔开口尺寸微细化成临界解像以下，或防止在长测SEM之电子线照射时光阻长测(即长度测量)变化。【解决手段】于基板上所形成的光阻图案3上，涂布含有水溶性树脂与酸发生剂所成的水溶性树脂组成物以形成被覆层4。借由对光阻图案3及被覆层4作加热处理，而在光阻图案3表面上形成显像液不溶性之改性层5，且借由显像而得到在光阻图案表面上具有改性层5之图案。改性层5于电子线照射时具有作为光阻图案之保护膜的功能。

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