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    • 71. 发明专利
    • 有機薄膜製造方法
    • 有机薄膜制造方法
    • TW201615375A
    • 2016-05-01
    • TW104132610
    • 2015-10-02
    • 日本曹達股份有限公司NIPPON SODA CO., LTD.
    • 芝田大幹SHIBATA, HIROMOTO
    • B29C33/60B05D3/10B05D7/24B05D5/00
    • B05D3/06B05D3/10B05D7/24B32B9/00C23C26/00
    • 本發明之課題在於提供一種有機薄膜製造方法,其於僅利用紫外線/臭氧處理使以金屬系界面活性作為主要原料之有機薄膜形成用溶液與各種材質之基材接觸之情形時,可形成緻密之有機薄膜。 本發明進行以下步驟:步驟(A),其使用封入有Xe氣體之準分子燈之光及藉由封入有Xe氣體之準分子燈之光所生成之臭氧,對基材表面進行表面處理;及其次之步驟(B),其使上述基材與含有具有至少一個以上之水解性基之金屬系界面活性劑、及可與該金屬系界面活性劑相互作用之化合物之有機溶劑溶液接觸。
    • 本发明之课题在于提供一种有机薄膜制造方法,其于仅利用紫外线/臭氧处理使以金属系界面活性作为主要原料之有机薄膜形成用溶液与各种材质之基材接触之情形时,可形成致密之有机薄膜。 本发明进行以下步骤:步骤(A),其使用封入有Xe气体之准分子灯之光及借由封入有Xe气体之准分子灯之光所生成之臭氧,对基材表面进行表面处理;及其次之步骤(B),其使上述基材与含有具有至少一个以上之水解性基之金属系界面活性剂、及可与该金属系界面活性剂相互作用之化合物之有机溶剂溶液接触。