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71. 发明专利

TWI615425B 增進含有上及下表面的壓力敏感性黏著劑層之黏著強度的方法有权
简体标题：增进含有上及下表面的压力敏感性黏着剂层之黏着强度的方法
公开(公告)号：TWI615425B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW101116163
申请日：2012-05-07
申请人：特薩股份有限公司 , TESA SE
发明人：紐哈斯史坦梅茲赫曼 , NEUHAUS-STEINMETZ, HERMANN , 修曼烏維 , SCHUEMANN, UWE , 庫斯艾尼 , KOOPS, ARNE , 舒伯特湯瑪斯 , SCHUBERT, THOMAS , 克皮西諾克歐佳 , KIRPICENOK, OLGA , 威蘭德柯斯丁 , WEILAND, KIRSTIN , 普羅貝屈丹尼斯 , PERLBACH, DENNIS , 瑞屈沙拉 , REICH, SARAH
IPC分类号： C08J3/00 , C09J7/02
CPC分类号： C09J5/00 , C09J5/02 , C09J7/10 , C09J133/08 , C09J2201/134 , C09J2433/00 , C09J2433/008

72. 发明专利

TW201801939A 用於製備由乙烯／α－烯烴互聚物製成之發泡製品之方法审中-公开
简体标题：用于制备由乙烯／α－烯烃互聚物制成之发泡制品之方法
公开(公告)号：TW201801939A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106108210
申请日：2017-03-13
申请人：陶氏全球科技有限責任公司 , DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
发明人：余海洋 , YU, HAIYANG , 劉曉春 , LIU, XIAOCHUN , 陳永春 , CHEN, YONGCHUN
IPC分类号： B32B37/14 , B32B27/32 , B32B5/18 , C09D4/02 , C09D123/28 , C09D153/02 , C08F297/02 , C09D7/12 , C09J175/04 , C09J7/02
CPC分类号： C08F279/02 , B32B7/12 , C08F2222/1013 , C09D123/28 , C09J5/02 , C09J7/26 , C09J7/50 , C09J2205/31 , C09J2423/046 , C09J2427/003 , C09J2453/003 , C09J2475/00 , C08F210/16 , C08F210/14 , C08F210/02 , C08F218/08
摘要：本發明係針對一種用於製備包括至少一種乙烯/α-烯烴互聚物之發泡製品的方法，及所述發泡製品在諸如鞋類應用之各種應用中之用途。本發明之乙烯/α-烯烴互聚物為包括至少一個軟嵌段及至少一個硬嵌段之多嵌段共聚物。
简体摘要：本发明系针对一种用于制备包括至少一种乙烯/α-烯烃互聚物之发泡制品的方法，及所述发泡制品在诸如鞋类应用之各种应用中之用途。本发明之乙烯/α-烯烃互聚物为包括至少一个软嵌段及至少一个硬嵌段之多嵌段共聚物。

73. 发明专利

TW201712084A 黏著非極性表面用之反應性膠膜系統审中-公开
简体标题：黏着非极性表面用之反应性胶膜系统
公开(公告)号：TW201712084A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105123663
申请日：2016-07-27
申请人：特薩股份有限公司 , TESA SE
发明人：克雷特艾瑪 , CLARET, ELMA , 戴特茲謝巴斯汀 , DIETZE, SEBASTIAN , 漢納曼法蘭克 , HANNEMANN, FRANK , 庫斯艾尼 , KOOPS, ARNE , 修曼烏維 , SCHUEMANN, UWE
IPC分类号： C09J7/00 , C09J5/02 , C09J175/00 , C09J4/00
CPC分类号： C09J5/02 , C08L33/10 , C09J4/06 , C09J5/04 , C09J7/10 , C09J175/04 , C09J2201/606 , C09J2433/00 , C09J2475/00
摘要：本發明關於一種反應性膠膜系統，其包含一第一反應性膠膜(A)與一第二反應性膠膜(B)；一種此處所述的反應性膠膜系統之用途，其係用於具非極性表面的材料之黏合；一種複合體，其係包含該反應性膠膜系統；以及一種該反應性膠膜系統之製造方法。此外，還說明一種提高反應性膠膜系統對非極性基底的黏附特性之方法。
简体摘要：本发明关于一种反应性胶膜系统，其包含一第一反应性胶膜(A)与一第二反应性胶膜(B)；一种此处所述的反应性胶膜系统之用途，其系用于具非极性表面的材料之黏合；一种复合体，其系包含该反应性胶膜系统；以及一种该反应性胶膜系统之制造方法。此外，还说明一种提高反应性胶膜系统对非极性基底的黏附特性之方法。

74. 发明专利

TW201628047A 用於表面電漿處理之裝置及以電漿處理表面之方法审中-公开
简体标题：用于表面等离子处理之设备及以等离子处理表面之方法
公开(公告)号：TW201628047A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104134297
申请日：2015-10-20
申请人：特薩股份有限公司 , TESA SE
发明人：海納爾馬西爾 , HAEHNEL, MARCEL
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32568 , B05D3/144 , B29C59/14 , C09J5/02 , H01J37/3244 , H01J37/32541 , H01J2237/3322 , H01J2237/336 , H05H1/2406 , H05H2001/2418 , H05H2001/2431
摘要：一種用於表面(2)電漿處理之裝置具有一第一電極(4)和一第二電極(7)，和一在該第一電極(4)與該第二電極(7)之間的交流電壓電源(6)，及一至少在該第一電極(4)與該第二電極(7)之間形成的電場，一有效面積(9)被定位在該第一電極(4)的前面，以使該有效面積(9)的該表面(2)位於被處理位置，且該第二電極(7)的配置比該第一電極(4)更接近該有效面積(9)，其中，在該第一電極(4)中至少提供一個用於至少一個製程氣體流的製程氣體通道(3)，該製程氣體通道(3)具有至少一個出口(5)，且該至少一個出口(5)指向該有效面積(9)的方向，而該至少一個製程氣體流在該電場上撞擊，且該電場將該至少一個製程氣體流轉化成一電漿流，及該電漿流在該有效面積(9)上撞擊。
简体摘要：一种用于表面(2)等离子处理之设备具有一第一电极(4)和一第二电极(7)，和一在该第一电极(4)与该第二电极(7)之间的交流电压电源(6)，及一至少在该第一电极(4)与该第二电极(7)之间形成的电场，一有效面积(9)被定位在该第一电极(4)的前面，以使该有效面积(9)的该表面(2)位于被处理位置，且该第二电极(7)的配置比该第一电极(4)更接近该有效面积(9)，其中，在该第一电极(4)中至少提供一个用于至少一个制程气体流的制程气体信道(3)，该制程气体信道(3)具有至少一个出口(5)，且该至少一个出口(5)指向该有效面积(9)的方向，而该至少一个制程气体流在该电场上撞击，且该电场将该至少一个制程气体流转化成一等离子流，及该等离子流在该有效面积(9)上撞击。

75. 发明专利

TWI525217B 鋁合金物品，鋁合金構件及其製造方法有权
简体标题：铝合金物品，铝合金构件及其制造方法
公开(公告)号：TWI525217B
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW099129909
申请日：2010-09-03
申请人：新技術研究所股份有限公司 , ADVANCED TECHNOLOGIES, INC.
发明人：平井勤二 , HIRAI, KINJI , 古川宗也 , FURUKAWA, MUNEYA , 秋山勇 , AKIYAMA, ISAMU
IPC分类号： C23C22/66 , B32B15/08
CPC分类号： C23C22/83 , B05D7/52 , B05D2202/25 , B29C66/02245 , B29C66/026 , B29C66/1122 , B29C66/45 , B29C66/7422 , B32B15/08 , B32B15/20 , B32B2255/06 , B32B2255/20 , B32B2255/24 , B32B2255/28 , C09D1/00 , C09D7/63 , C09J5/02 , C09J2400/163 , C09J2400/166 , C23C22/08 , C23C2222/20 , Y10T428/31663

76. 发明专利

TW201606031A 接著劑組成物以及使用接著劑組成物之構件的暫時固定方法审中-公开
简体标题：接着剂组成物以及使用接着剂组成物之构件的暂时固定方法
公开(公告)号：TW201606031A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104118373
申请日：2015-06-05
申请人：電氣化學工業股份有限公司 , DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA
发明人：石田泰則 , ISHIDA, YASUNORI , 栗村啓之 , KURIMURA, HIROYUKI , 宇野弘基 , UNO, HIROKI , 關上浩 , SEKIGAMI, HIROSHI , 玉井希 , TAMAI, NOZOMI , 宮崎隼人 , MIYAZAKI, HAYATO
IPC分类号： C09J4/02 , C09J11/06 , C09J11/04 , C09J7/02 , B32B27/00 , C09J5/00 , B28D5/00 , B28D7/04 , C30B33/00 , H01L21/683 , H01L21/30
CPC分类号： B05D7/24 , B24B27/06 , B24B41/06 , B28D5/04 , B28D7/04 , B32B7/12 , B32B27/30 , C09J5/00 , C09J5/02 , C09J11/06 , C09J11/08 , H01L21/02 , H01L21/304
摘要：本發明的目的為提供一種暫時固定用接著劑組成物，係在加工時構件不會脫落、在加工後的洗淨步驟中構件不會剝離，並含有(1)透過酯鍵結而具有羥基與非環式飽和烴之單官能(甲基)丙烯酸酯單體、(2)透過酯鍵結而具有環式烴之單官能(甲基)丙烯酸酯單體、(3)不具有乙二醇構造之多官能(甲基)丙烯酸酯單體、(4)熱自由基聚合起始劑、以及(5)還元劑，且(1)、(2)、(3)合計100質量分中，(1)的使用量為50~98質量分，(2)的使用量為1~40質量分，(3)的使用量為1~30質量分。
简体摘要：本发明的目的为提供一种暂时固定用接着剂组成物，系在加工时构件不会脱落、在加工后的洗净步骤中构件不会剥离，并含有(1)透过酯键结而具有羟基与非环式饱和烃之单官能(甲基)丙烯酸酯单体、(2)透过酯键结而具有环式烃之单官能(甲基)丙烯酸酯单体、(3)不具有乙二醇构造之多官能(甲基)丙烯酸酯单体、(4)热自由基聚合起始剂、以及(5)还元剂，且(1)、(2)、(3)合计100质量分中，(1)的使用量为50~98质量分，(2)的使用量为1~40质量分，(3)的使用量为1~30质量分。

77. 发明专利

TW201542380A 具有黏著劑層之光學構件層合體及其製造方法审中-公开
简体标题：具有黏着剂层之光学构件层合体及其制造方法
公开(公告)号：TW201542380A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104101566
申请日：2015-01-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：梅本徹 , UMEMOTO, TORU , 形見普史 , KATAMI, HIROFUMI , 鷹尾寛行 , TAKAO, HIROYUKI , 野中崇弘 , NONAKA, TAKAHIRO , 保井淳 , YASUI, ATSUSHI , 疋田貴巳 , HIKITA, TAKAMI
IPC分类号： B32B7/02 , B32B7/12 , B32B5/14 , G02B1/11 , B32B37/12 , G06F3/041
CPC分类号： G02B1/111 , B29D11/00663 , B29D11/00682 , B29D11/0073 , B32B7/02 , B32B7/12 , B32B27/06 , B32B27/08 , B32B27/36 , B32B37/12 , B32B2255/26 , B32B2264/102 , B32B2307/202 , B32B2307/412 , B32B2307/418 , B32B2309/105 , B32B2457/00 , B32B2457/20 , B32B2457/202 , B32B2457/206 , C09J5/02 , C09J7/38 , C09J11/02 , C09J11/04 , C09J2201/60 , C09J2201/606 , C09J2400/10 , Y10T428/1036 , Y10T428/105 , Y10T428/1059 , Y10T428/1077
摘要：本發明係提供使用可容易且廉價製造之黏著劑層，可有效抑制光學構件層合體中之內部反射之層合體的構成。由黏著劑層之表面至厚度方向之某範圍，含有形成具有比黏著劑層之基底材料(base materials)高之折射率的折射率調整區分，抑制光學構件層合體之內部反射。本發明提供具備具有使透明之第1光學構件與第2光學構件接合用之透明、特定之構成之黏著劑層的光學構件層合體。具有特定之構成的該黏著劑層含有由面向第1光學構件之側之第1主面至厚度方向，本質上藉由透明之黏著劑基底材料形成的基底黏著劑區分與由面向該黏著劑層之第2光學構件之側之第2主面至厚度方向所形成之透明之黏著性的折射率調整用區分。此外，該折射率調整用區分具有比黏著劑基底材料之折射率高的折射率。
简体摘要：本发明系提供使用可容易且廉价制造之黏着剂层，可有效抑制光学构件层合体中之内部反射之层合体的构成。由黏着剂层之表面至厚度方向之某范围，含有形成具有比黏着剂层之基底材料(base materials)高之折射率的折射率调整区分，抑制光学构件层合体之内部反射。本发明提供具备具有使透明之第1光学构件与第2光学构件接合用之透明、特定之构成之黏着剂层的光学构件层合体。具有特定之构成的该黏着剂层含有由面向第1光学构件之侧之第1主面至厚度方向，本质上借由透明之黏着剂基底材料形成的基底黏着剂区分与由面向该黏着剂层之第2光学构件之侧之第2主面至厚度方向所形成之透明之黏着性的折射率调整用区分。此外，该折射率调整用区分具有比黏着剂基底材料之折射率高的折射率。

78. 发明专利

TW201540490A 金屬樹脂複合體审中-公开
简体标题：金属树脂复合体
公开(公告)号：TW201540490A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW103142335
申请日：2014-12-05
申请人：住友電木股份有限公司 , SUMITOMO BAKELITE CO., LTD.
发明人：瀧花吉広 , TAKIHANA, YOSHIHIRO , 小泉浩二 , KOIZUMI, KOJI , 渡邉佑典 , WATANABE, YUSUKE
IPC分类号： B32B15/08 , B32B37/14 , B32B37/30
CPC分类号： B32B3/30 , B29C45/14311 , B32B15/08 , B32B27/16 , B32B2307/538 , C08L61/04 , C09J5/02 , C09J5/06 , C09J2400/163 , C09J2400/166 , C09J2421/006
摘要：本發明之金屬樹脂複合體(100)係將樹脂構件(101)與金屬構件(102)接合而成。樹脂構件(101)係使含有熱硬化性樹脂(A)及彈性體(D)之熱硬化性樹脂組成物(P)硬化而成。金屬構件(102)於至少與樹脂構件(101)接合之接合面(103)具有由微細凹凸構成之粗化層(104)。於構成粗化層(104)之上述凹凸之凹部之內部存在彈性體(D)之一部分。
简体摘要：本发明之金属树脂复合体(100)系将树脂构件(101)与金属构件(102)接合而成。树脂构件(101)系使含有热硬化性树脂(A)及弹性体(D)之热硬化性树脂组成物(P)硬化而成。金属构件(102)于至少与树脂构件(101)接合之接合面(103)具有由微细凹凸构成之粗化层(104)。于构成粗化层(104)之上述凹凸之凹部之内部存在弹性体(D)之一部分。

79. 发明专利

TW201537431A 導電膜層疊體以及使用該導電膜層疊體的觸控面板审中-公开
简体标题：导电膜层叠体以及使用该导电膜层叠体的触摸皮肤
公开(公告)号：TW201537431A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW104110087
申请日：2015-03-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：清都尚治 , KIYOTO, NAOHARU , 三田村康弘 , MITAMURA, YASUHIRO , 樋口令史 , HIGUCHI, REIJI , 白崎裕一 , SHIRASAKI, YUUICHI
IPC分类号： G06F3/044 , B32B7/12
CPC分类号： C09J9/02 , B32B7/12 , B32B15/02 , B32B2307/202 , B32B2457/208 , C09J5/02 , C09J7/29 , C09J133/08 , C09J2201/128 , C09J2201/602 , C09J2203/318 , C09J2467/006 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112
摘要：一種導電膜層疊體，其用於觸控面板，依次具有第1粘接劑層、第1導電層、基材、第2導電層和第2粘接劑層，其中，基材、第1粘接劑層和第2粘接劑層的合計含水量為1.0g/m2以下，由此提供即使在高溫高濕這樣的嚴酷的環境下兩層導電膜間的靜電電容的變化小，且能夠維持高靈敏度，並能夠防止動作不良和錯誤動作的導電膜層疊體以及使用該導電膜層疊體的觸控面板。
简体摘要：一种导电膜层叠体，其用于触摸皮肤，依次具有第1粘接剂层、第1导电层、基材、第2导电层和第2粘接剂层，其中，基材、第1粘接剂层和第2粘接剂层的合计含水量为1.0g/m2以下，由此提供即使在高温高湿这样的严酷的环境下两层导电膜间的静电电容的变化小，且能够维持高灵敏度，并能够防止动作不良和错误动作的导电膜层叠体以及使用该导电膜层叠体的触摸皮肤。

80. 发明专利

TW201533081A 水性聚胺酯分散液审中-公开
公开(公告)号：TW201533081A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103140018
申请日：2014-11-19
申请人：羅門哈斯公司 , ROHM AND HAAS COMPANY , 陶氏全球科技責任有限公司 , DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
发明人：白晨豔 , BAI, CHENYAN , 曲朝暉 , QU, ZHAOHUI , 張洪亮 , ZHANG, HONG LIANG , 貝哈塔奇爾迪庫瑪 , BHATTACHARJEE, DEBKUMAR
IPC分类号： C08G18/32 , C08G18/76 , C08L75/04 , C08J3/02 , C09J175/04
CPC分类号： C08J5/127 , B32B37/12 , B32B37/14 , C08G18/12 , C08G18/3206 , C08G18/4018 , C08G18/4236 , C08G18/4247 , C08G18/4277 , C08G18/4833 , C08G18/4862 , C08G18/6607 , C08G18/7657 , C08G18/7671 , C08G2170/80 , C08J2375/08 , C08L75/08 , C08L2201/54 , C09J5/02 , C09J175/08 , C08G18/3228 , C08G18/792
摘要：本發明提供包括包含聚胺酯之分散粒子之水性組成物，其中該聚胺酯為反應物群組(GR1)之反應產物，其中GR1包括一種或多種芳香族多異氰酸酯和多元醇組分，其中該多元醇組分包括：(a)以該多元醇組分之重量為基準計之50重量%至99重量%之一種或多種聚酯多元醇，(b)以該多元醇組分之重量為基準計之0.1重量%至10重量%之一種或多種具有親水性側鏈之二醇，以及(c)以該多元醇組分之重量為基準計之0.9重量%至40重量%之一種或多種與(a)和(b)不同之多元醇。本發明亦提供使用此水性組成物將金屬箔與聚合物膜黏合之方法。
简体摘要：本发明提供包括包含聚胺酯之分散粒子之水性组成物，其中该聚胺酯为反应物群组(GR1)之反应产物，其中GR1包括一种或多种芳香族多异氰酸酯和多元醇组分，其中该多元醇组分包括：(a)以该多元醇组分之重量为基准计之50重量%至99重量%之一种或多种聚酯多元醇，(b)以该多元醇组分之重量为基准计之0.1重量%至10重量%之一种或多种具有亲水性侧链之二醇，以及(c)以该多元醇组分之重量为基准计之0.9重量%至40重量%之一种或多种与(a)和(b)不同之多元醇。本发明亦提供使用此水性组成物将金属箔与聚合物膜黏合之方法。

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