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71. 发明专利

TW200708863A 液晶配向劑及液晶顯示元件 LIQUID CRYSTAL ORIENTATION AGENT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE 审中-公开
简体标题：液晶配向剂及液晶显示组件 LIQUID CRYSTAL ORIENTATION AGENT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
公开(公告)号：TW200708863A
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：TW095125000
申请日：2006-07-10
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：川口貴之 KAWAGUCHI, TAKAYUKI , 熊谷勉 KUMAGAI, TSUTOMU , 西川通則 NISHIKAWA, MICHINORI , 高橋敦也 TAKAHASHI, ATSUYA
IPC分类号： G02F
摘要：提供電壓保持率高,並且像保護膜等有機膜的印刷性良好的液晶配向膜以及具有該膜的橫電場式液晶顯示元件。是一種含有具有聚醯胺酸重複單元及其醯亞胺化重複單元的聚合物、分子內具有4個環氧基的化合物以及矽烷偶合劑的液晶配向劑,和一種具有由其形成的液晶配向膜的液晶顯示元件。
简体摘要：提供电压保持率高,并且像保护膜等有机膜的印刷性良好的液晶配向膜以及具有该膜的横电场式液晶显示组件。是一种含有具有聚酰胺酸重复单元及其酰亚胺化重复单元的聚合物、分子内具有4个环氧基的化合物以及硅烷偶合剂的液晶配向剂,和一种具有由其形成的液晶配向膜的液晶显示组件。

72. 发明专利

TWI266889B 感放射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及微透鏡、及此等之製造方法有权
简体标题：感放射线性树脂组成物、层间绝缘膜及微透镜、及此等之制造方法
公开(公告)号：TWI266889B
公开(公告)日：2006-11-21
申请号：TW093104802
申请日：2004-02-25
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：高本英司 TAKAMOTO, EIJI , 佐野公康 SANO, KIMIYASU , 西川通則 NISHIKAWA, MICHINORI
IPC分类号： G02B
摘要：本發明係揭示一種感放射線性樹脂組成物，其為，含有(A)具有縮醛構造及/或縮酮構造與環氧構造，且凝膠滲透色譜法所測得之聚苯乙烯換算重量平均分子量為2,000以上的高分子量物，及(B)照射放射線會產生pKa4.0以下之酸的化合物。又，該組成物具有高感放射線靈敏度、良好保存安定性及顯像步驟中既使超過最佳顯像時間下仍能形成良好圖型形狀之顯像界限，且易形成密合性優良之圖型狀薄膜，及可形成高透光率、低電容率之層間絕緣膜與具有高透光率、良好熔體形狀之微透鏡。
简体摘要：本发明系揭示一种感放射线性树脂组成物，其为，含有(A)具有缩醛构造及/或缩酮构造与环氧构造，且凝胶渗透色谱法所测得之聚苯乙烯换算重量平均分子量为2,000以上的高分子量物，及(B)照射放射线会产生pKa4.0以下之酸的化合物。又，该组成物具有高感放射线灵敏度、良好保存安定性及显像步骤中既使超过最佳显像时间下仍能形成良好图型形状之显像界限，且易形成密合性优良之图型状薄膜，及可形成高透光率、低电容率之层间绝缘膜与具有高透光率、良好熔体形状之微透镜。

73. 发明专利

TW200630413A 液晶配向劑及液晶顯示元件 LIQUID CRYSTAL ORIENTATION AGENT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT 审中-公开
简体标题：液晶配向剂及液晶显示组件 LIQUID CRYSTAL ORIENTATION AGENT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
公开(公告)号：TW200630413A
公开(公告)日：2006-09-01
申请号：TW095101142
申请日：2006-01-12
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：六鹿泰顯 MUTSUGA, YASUAKI , 松本貴博 MATSUMOTO, TAKAHIRO , 栗山敬祐 KURIYAMA, KEISUKE , 西川通則 NISHIKAWA, MICHINORI
IPC分类号： C08G , G02F
摘要：提供一種液晶配向劑，其可以形成能夠穩定地表現高預傾角的液晶配向膜，並且對階段差較大的基板也具有優良的印刷性。一種含有聚醯胺酸或者其醯亞胺化聚合物的液晶配向劑，所述聚醯胺酸採用例如膽甾烷氧基甲基二胺基苯之類的具有類固醇骨架的二胺基苯製得。095101142-p01.bmp095101142-p02.bmp
简体摘要：提供一种液晶配向剂，其可以形成能够稳定地表现高预倾角的液晶配向膜，并且对阶段差较大的基板也具有优良的印刷性。一种含有聚酰胺酸或者其酰亚胺化聚合物的液晶配向剂，所述聚酰胺酸采用例如胆甾烷氧基甲基二胺基苯之类的具有类固醇骨架的二胺基苯制得。095101142-p01.bmp095101142-p02.bmp

74. 发明专利

TW200617481A 垂直液晶配向劑及具有反射電極之垂直液晶顯示元件 VERTICAL LIQUID CRYCTAL ALIGNMENT AGENT AND VERTICAL LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT WITH REFLECTIVE ELECTRODE 审中-公开
简体标题：垂直液晶配向剂及具有反射电极之垂直液晶显示组件 VERTICAL LIQUID CRYCTAL ALIGNMENT AGENT AND VERTICAL LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT WITH REFLECTIVE ELECTRODE
公开(公告)号：TW200617481A
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：TW094120366
申请日：2005-06-20
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：六鹿泰顯 MUTSUGA, YASUAKI , 栗山敬祐 KURIYAMA, KEISUKE , 西川通則 NISHIKAWA, MICHINORI
IPC分类号： G02F
摘要：本發明提供一種液晶配向劑，其在與反射電極一起使用時，也能製得印相特性和可靠性優良的垂直液晶配向膜。其為一種垂直液晶配向劑，包括100重量份具有醯胺酸重複單元和／或醯亞胺重複單元的聚合物以及至少5重量份分子內至少具有2個環氧基的化合物。
简体摘要：本发明提供一种液晶配向剂，其在与反射电极一起使用时，也能制得印相特性和可靠性优良的垂直液晶配向膜。其为一种垂直液晶配向剂，包括100重量份具有酰胺酸重复单元和／或酰亚胺重复单元的聚合物以及至少5重量份分子内至少具有2个环氧基的化合物。

75. 发明专利

TW200517778A 對輻射敏感而折射率改變的組成物、形成圖案之方法及光學材料 RADIATION SENSITIVE REFRACTIVE INDEX CHANGING COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND OPTICAL MATERIAL 失效
简体标题：对辐射敏感而折射率改变的组成物、形成图案之方法及光学材料 RADIATION SENSITIVE REFRACTIVE INDEX CHANGING COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND OPTICAL MATERIAL
公开(公告)号：TW200517778A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：TW093118651
申请日：2004-06-25
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：花村政曉 HANAMURA, MASAAKI , 西川通則 NISHIKAWA, MICHINORI , 熊野厚司 KUMANO, ATSUSHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G02B1/045 , G02B1/04 , G02B6/02038 , G02B6/02138 , G02B6/1221 , G02B6/124 , G02B2006/12102 , G02B2006/12107 , G02B2006/12116 , G03F7/001 , G03F7/0047 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0388 , G03F7/0757
摘要：本發明提供對輻射敏感而折射率改變的組成物，其含無機氧化物粒子、可聚合的化合物、對輻射敏感性分解劑及可逃脫的化合物，該對輻射敏感性的分解劑暴露至輻射後分解而形成酸、鹼或基團，且此分解產物增加可聚合的化合物之分子量。
简体摘要：本发明提供对辐射敏感而折射率改变的组成物，其含无机氧化物粒子、可聚合的化合物、对辐射敏感性分解剂及可逃脱的化合物，该对辐射敏感性的分解剂暴露至辐射后分解而形成酸、碱或基团，且此分解产物增加可聚合的化合物之分子量。

76. 发明专利

TW200516347A 敏輻射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及微透鏡审中-公开
简体标题：敏辐射线性树脂组成物、层间绝缘膜及微透镜
公开(公告)号：TW200516347A
公开(公告)日：2005-05-16
申请号：TW093132623
申请日：2004-10-27
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：佐野公康 SANO, KIMIYASU , 西川通則 NISHIKAWA, MICHINORI , 蓑輪貴樹 MINOWA, TAKAKI , 高本英司 TAKAMOTO, EIJI
IPC分类号： G03F
摘要：本發明係提供，對活體無安全顧慮，在大型基板具有良好塗布性，在高感度，具有充分顯影界限，具有高耐溶劑性，高耐熱性及高光透過率，尤其是對層間絕緣膜及微透鏡之形成為有用之敏輻射線性樹脂組成物，該組成物所形成層間絕緣膜及微透鏡與該等形成方法。敏輻射線性樹脂組成物係含有，(A)鹼可溶性樹脂，(B)敏輻射線性酸產生劑及(C)1-甲氧基-2-(2-甲氧丙氧)丙烷、丙酸1-甲基-2-甲氧乙酯、乙酸2-正丙氧丙酯等所代表之有機溶劑。層間絕緣膜及微透鏡之形成方法係，至少含有，(1)使前述組成物之塗膜在基板上形成之步驟，(ii)輻射線之曝光步驟，(iii)顯影處理步驟及(iv)加熱處理步驟。
简体摘要：本发明系提供，对活体无安全顾虑，在大型基板具有良好涂布性，在高感度，具有充分显影界限，具有高耐溶剂性，高耐热性及高光透过率，尤其是对层间绝缘膜及微透镜之形成为有用之敏辐射线性树脂组成物，该组成物所形成层间绝缘膜及微透镜与该等形成方法。敏辐射线性树脂组成物系含有，(A)碱可溶性树脂，(B)敏辐射线性酸产生剂及(C)1-甲氧基-2-(2-甲氧丙氧)丙烷、丙酸1-甲基-2-甲氧乙酯、乙酸2-正丙氧丙酯等所代表之有机溶剂。层间绝缘膜及微透镜之形成方法系，至少含有，(1)使前述组成物之涂膜在基板上形成之步骤，(ii)辐射线之曝光步骤，(iii)显影处理步骤及(iv)加热处理步骤。

77. 发明专利

TWI227264B 疊層膜,疊層膜之形成方法,絕緣膜及半導體用基板 STACKED FILM, METHOD FOR THE FORMATION OF STACKED FILM, INSULATING FILM, AND SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR 失效
简体标题：叠层膜,叠层膜之形成方法,绝缘膜及半导体用基板 STACKED FILM, METHOD FOR THE FORMATION OF STACKED FILM, INSULATING FILM, AND SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR
公开(公告)号：TWI227264B
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：TW091121756
申请日：2002-09-23
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：西川通則 NISHIKAWA, MICHINORI , 關口學 SEKIGUCHI, MANABU , 鹽田淳 SHIOTA, ATSUSHI , 山田欣司 YAMADA, KINJI
IPC分类号： C09D
CPC分类号： B05D1/60 , B05D7/52 , C09D183/04 , C09D183/14 , H01L21/02126 , H01L21/0214 , H01L21/022 , H01L21/02211 , H01L21/02216 , H01L21/02271 , H01L21/02282 , H01L21/3122 , Y10T428/24942 , Y10T428/31663
摘要：一種疊層膜，一種疊層膜之製造方法，一種包含疊層膜之絕緣膜，以及一種使用絕緣膜之半導體用基板。疊層膜包含兩種或兩種以上具有平均迴旋半徑差異為5奈米或以上之烷氧矽烷水解縮合產物薄膜，或具有介電常數差0.3或以上之烷氧矽烷水解縮合產物薄膜。疊層膜之獲得方式係經由使用一種包含(B)具有平均迴旋半徑小於10奈米之化合物之塗覆溶液，以及然後施用一種包含具有平均迴旋半徑10至30奈米之化合物之塗覆溶液，接著加熱製備。疊層膜提供一種對CVD薄膜具有優異黏著性之介電膜(用於半導體之基板)。
简体摘要：一种叠层膜，一种叠层膜之制造方法，一种包含叠层膜之绝缘膜，以及一种使用绝缘膜之半导体用基板。叠层膜包含两种或两种以上具有平均回旋半径差异为5奈米或以上之烷氧硅烷水解缩合产物薄膜，或具有介电常数差0.3或以上之烷氧硅烷水解缩合产物薄膜。叠层膜之获得方式系经由使用一种包含(B)具有平均回旋半径小于10奈米之化合物之涂覆溶液，以及然后施用一种包含具有平均回旋半径10至30奈米之化合物之涂覆溶液，接着加热制备。叠层膜提供一种对CVD薄膜具有优异黏着性之介电膜(用于半导体之基板)。

78. 发明专利

TW200428021A 感放射線性樹脂組成物、層間絕緣膜及微透鏡、及此等之製造方法审中-公开
简体标题：感放射线性树脂组成物、层间绝缘膜及微透镜、及此等之制造方法
公开(公告)号：TW200428021A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW093104802
申请日：2004-02-25
申请人： JSR股份有限公司 JSR CORPORATION
发明人：高本英司 TAKAMOTO, EIJI , 佐野公康 SANO, KIMIYASU , 西川通則 NISHIKAWA, MICHINORI
IPC分类号： G02B
摘要：本發明係揭示一種感放射線性樹脂組成物，其為，含有(A)具有縮醛構造及／或縮酮構造與環氧構造，且凝膠滲透色譜法所測得之聚苯乙烯換算重量平均分子量為2,000以上的高分子量物，及(B)照射放射線會產生pKa4.0以下之酸的化合物。又，該組成物具有高感放射線靈敏度、良好保存安定性及顯像步驟中既使超過最佳顯像時間下仍能形成良好圖型形狀之顯像界限，且易形成密合性優良之圖型狀薄膜，及可形成高透光率、低電容率之層間絕緣膜與具有高透光率、良好熔體形狀之微透鏡。
简体摘要：本发明系揭示一种感放射线性树脂组成物，其为，含有(A)具有缩醛构造及／或缩酮构造与环氧构造，且凝胶渗透色谱法所测得之聚苯乙烯换算重量平均分子量为2,000以上的高分子量物，及(B)照射放射线会产生pKa4.0以下之酸的化合物。又，该组成物具有高感放射线灵敏度、良好保存安定性及显像步骤中既使超过最佳显像时间下仍能形成良好图型形状之显像界限，且易形成密合性优良之图型状薄膜，及可形成高透光率、低电容率之层间绝缘膜与具有高透光率、良好熔体形状之微透镜。

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