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71. 发明专利

TW200530600A 液晶基板檢查裝置 LIQUID CRYSTAL SUBSTRATE INSPECTION APPARATUS 失效
简体标题：液晶基板检查设备 LIQUID CRYSTAL SUBSTRATE INSPECTION APPARATUS
公开(公告)号：TW200530600A
公开(公告)日：2005-09-16
申请号：TW094103561
申请日：2005-02-04
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION
发明人：田中岳 TANAKA, GAKU , 寺本晃 TERAMOTO, AKIRA , 篠原真 SHINOHARA, MAKOTO
IPC分类号： G01R
CPC分类号： G09G3/006
摘要：本發明提供一種液晶基板檢查裝置，省去由人工進行探測器更換作業的勞力，縮短因檢查液晶基板而使檢查線停止的時間。而且，還省去用以保管探測器的支架的設置空間。液晶基板檢查裝置1包括檢查裝置和探測器更換裝置。檢查裝置(裝載固定箱11)用以檢查基板30，而探測器更換裝置10則和檢查裝置並排而設，並在探測器更換裝置10中設置保管探測器6的支架2。由於檢查裝置和探測器更換裝置位置相鄰，液晶基板的檢查時間縮短，且由於用探測器更換裝置作為保管探測器的支架，而省去為另行設置支架所佔的空間。
简体摘要：本发明提供一种液晶基板检查设备，省去由人工进行探测器更换作业的劳力，缩短因检查液晶基板而使检查线停止的时间。而且，还省去用以保管探测器的支架的设置空间。液晶基板检查设备1包括检查设备和探测器更换设备。检查设备(装载固定箱11)用以检查基板30，而探测器更换设备10则和检查设备并排而设，并在探测器更换设备10中设置保管探测器6的支架2。由于检查设备和探测器更换设备位置相邻，液晶基板的检查时间缩短，且由于用探测器更换设备作为保管探测器的支架，而省去为另行设置支架所占的空间。

72. 发明专利

TW200527981A 表面波激發電漿之化學氣相沈積系統 SURFACE WAVE EXCITATION PLASMA CVD SYSTEM 失效
简体标题：表面波激发等离子之化学气相沉积系统 SURFACE WAVE EXCITATION PLASMA CVD SYSTEM
公开(公告)号：TW200527981A
公开(公告)日：2005-08-16
申请号：TW093133332
申请日：2004-11-02
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION
发明人：鈴木正康 MASAYASU SUZUKI
IPC分类号： H05H
CPC分类号： C23C16/45508 , C23C16/45563 , C23C16/45565 , C23C16/45589 , C23C16/511
摘要：一種表面波激發電漿之化學氣相沉積系統，除了將一含有矽元素之原料氣體自一上方表面氣體輸導管與一側邊表面氣體輸導管之至少一者而注入至腔室1中，並以一表面波激發電漿活化此原料氣體，且自一製程氣體輸導管5而將一製程氣體注入至腔室1中，此製程氣體乃於上述原料氣體中起始化學反應。上述上方表面氣體輸導管及／或側邊表面氣體輸導管之氣體供應孔乃位於相對上述製程氣體輸導管之氣體供應孔而言距離基板較近的位置。
简体摘要：一种表面波激发等离子之化学气相沉积系统，除了将一含有硅元素之原料气体自一上方表面气体输导管与一侧边表面气体输导管之至少一者而注入至腔室1中，并以一表面波激发等离子活化此原料气体，且自一制程气体输导管5而将一制程气体注入至腔室1中，此制程气体乃于上述原料气体中起始化学反应。上述上方表面气体输导管及／或侧边表面气体输导管之气体供应孔乃位于相对上述制程气体输导管之气体供应孔而言距离基板较近的位置。

73. 发明专利

TWI232299B X射線透視裝置失效
简体标题： X射线透视设备
公开(公告)号：TWI232299B
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：TW092121020
申请日：2003-07-31
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION
发明人：太田勝啓 KATSUHIRO OTA , 小山康夫 YASUO KOYAMA
IPC分类号： G01N
摘要：本發明係提供一種X射線透視裝置，其藉由利用產業用機器人可以獲得來自檢查對象物之任意位置及方向之X射線透視影像，並且透視點之變更等之機器人之動作等變更容易，加之X射線之輸出以及影像處理條件亦可配合機器人之動作而使其自動變化。
本發明構成如下：將X射線控制器3與影像處理裝置4，及控制機器人8之機器人控制器9連接於共同之電腦6，在設定於機器人控制器9之全部各示教點匯總管理機器人之動作條件、X射線條件及影像處理條件，用電腦6可實施這些條件之變更及刪除，並且構成如下：藉由電腦6之控制使機器人控制器9、X射線控制器3及影像處理裝置4相互同步動作。
简体摘要：本发明系提供一种X射线透视设备，其借由利用产业用机器人可以获得来自检查对象物之任意位置及方向之X射线透视影像，并且透视点之变更等之机器人之动作等变更容易，加之X射线之输出以及影像处理条件亦可配合机器人之动作而使其自动变化。本发明构成如下：将X射线控制器3与影像处理设备4，及控制机器人8之机器人控制器9连接于共同之电脑6，在设置于机器人控制器9之全部各示教点汇总管理机器人之动作条件、X射线条件及影像处理条件，用电脑6可实施这些条件之变更及删除，并且构成如下：借由电脑6之控制使机器人控制器9、X射线控制器3及影像处理设备4相互同步动作。

74. 发明专利

TW200514999A 醫療用影像診斷裝置 MEDICAL IMAGING DIAGNOSTIC EQUIPMENT 失效
简体标题：医疗用影像诊断设备 MEDICAL IMAGING DIAGNOSTIC EQUIPMENT
公开(公告)号：TW200514999A
公开(公告)日：2005-05-01
申请号：TW093120940
申请日：2004-07-14
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION
发明人：天野昌治 AMANO, MASAHARU
IPC分类号： G01T
CPC分类号： A61B6/037 , A61B6/032 , A61B6/5235 , G01T1/1611 , G01T1/2985
摘要：活用對於癌之發現的有效性及不起放射性曝露問題之PET檢查的優點，將X射線CT檢查的X射線曝露問題最小化，高正確度且安全地進行早期之癌症發現。其解決手段為相對於共同之檢查台10，使PET機座20與CT機座30依序並置，由控制台40內之控制部控制檢查台10、PET機座20及CT機座30，在最初使載置於檢查台10之床板11之被檢查者13移入於PET機座20之隧道部21，以收集PET資料來再架構出PET影像，將其PET影像顯示於控制台40所具有之影像監視裝置，仰賴醫師之判斷，等待接下來是否進行使被檢查者13送進CT機座30之隧道部31以執行CT檢查之指示的輸入，進行對應該指示的動作。
简体摘要：活用对于癌之发现的有效性及不起放射性曝露问题之PET检查的优点，将X射线CT检查的X射线曝露问题最小化，高正确度且安全地进行早期之癌症发现。其解决手段为相对于共同之检查台10，使PET机座20与CT机座30依序并置，由控制台40内之控制部控制检查台10、PET机座20及CT机座30，在最初使载置于检查台10之床板11之被检查者13移入于PET机座20之隧道部21，以收集PET数据来再架构出PET影像，将其PET影像显示于控制台40所具有之影像监视设备，仰赖医师之判断，等待接下来是否进行使被检查者13送进CT机座30之隧道部31以运行CT检查之指示的输入，进行对应该指示的动作。

75. 发明专利

TW200510746A 基板測試裝置及基板測試方法 SUBSTRATE TESTING DEVICE AND SUBSTRATE TESTING METHOD 失效
简体标题：基板测试设备及基板测试方法 SUBSTRATE TESTING DEVICE AND SUBSTRATE TESTING METHOD
公开(公告)号：TW200510746A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：TW093111144
申请日：2004-04-21
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION
发明人：田島啓樹 HATAJIMA, HIROKI
IPC分类号： G01R , G02F
CPC分类号： H01J37/28 , G01R31/2808 , G09G3/006 , G09G3/3208 , G09G3/3648 , G09G2300/08 , G09G2330/10 , H01J2237/2811 , H01J2237/2817
摘要：在一種基板測試裝置中，一測試單元藉由一電子束之掃描獲取一基板之測試結果。一對準標示檢測單元光學地檢測一位於該基板上之對準標示。一基板位置計算單元根據該對準標示之一位置計算位於該基板測試裝置中之一基板位置。一位置對準單元將該測試結果之一位置與該計算出之基板位置對準。
简体摘要：在一种基板测试设备中，一测试单元借由一电子束之扫描获取一基板之测试结果。一对准标示检测单元光学地检测一位于该基板上之对准标示。一基板位置计算单元根据该对准标示之一位置计算位于该基板测试设备中之一基板位置。一位置对准单元将该测试结果之一位置与该计算出之基板位置对准。

76. 外观设计

TWD103133S 原子吸光分光光度計 ATOMIC ABSORPTION SPECTROMETER 失效
简体标题：原子吸光分光光度计 ATOMIC ABSORPTION SPECTROMETER
公开(公告)号：TWD103133S
公开(公告)日：2005-02-21
申请号：TW092305444
申请日：2003-09-04
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION
设计人：本多晃 AKIRA HONDA
摘要：【物品用途】
本物品係原子吸光分光光度計。【創作特點】
本創作具有以下特徵點：
˙為使看起來較為簡潔，對主體上面前側施以大片切角。
˙將操作開關類集中於主體前面右側處，顧及到了操作性。
˙於主體右側配置光源室之門，且使右側大大地開放，故容易進行光源之交換。
˙將自動取樣器設於主體左側，在機能面而言不會影響必要之動作，使全體具有一致感。
˙可於主體上面之罩內收容4時石墨燈，於使用火焰噴霧器時亦不會窮於保管場所。
˙該罩具有隱藏石墨燈之電線、配管類之機能，具有使外觀清爽之效果。
本創作為新穎獨特之樣式，不僅可顯出先前技藝所未有之美觀外型及視覺美感，並可給予觀察者如同精巧品般之印象。
简体摘要：【物品用途】本物品系原子吸光分光光度计。【创作特点】本创作具有以下特征点： ˙为使看起来较为简洁，对主体上面前侧施以大片切角。 ˙将操作开关类集中于主体前面右侧处，顾及到了操作性。 ˙于主体右侧配置光源室之门，且使右侧大大地开放，故容易进行光源之交换。 ˙将自动采样器设于主体左侧，在机能面而言不会影响必要之动作，使全体具有一致感。 ˙可于主体上面之罩内收容4时石墨灯，于使用火焰喷雾器时亦不会穷于保管场所。 ˙该罩具有隐藏石墨灯之电线、配管类之机能，具有使外观清爽之效果。本创作为新颖独特之样式，不仅可显出先前技艺所未有之美观外型及视觉美感，并可给予观察者如同精巧品般之印象。

77. 发明专利

TW200936801A 電漿成膜方法以及電漿CVD裝置 PLASMA FILM-FORMING METHOD AND PLASMA CVD DEVICE 审中-公开
简体标题：等离子成膜方法以及等离子CVD设备 PLASMA FILM-FORMING METHOD AND PLASMA CVD DEVICE
公开(公告)号：TW200936801A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097140683
申请日：2008-10-23
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION
发明人：鈴木正康 SUZUKI, MASAYASU
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： H01L21/318 , C23C16/345 , C23C16/515 , C23C16/52
摘要：於利用電容耦合型電漿CVD裝置的成膜過程中,藉由對低頻RF電源進行脈衝控制而在產生電弧放電之前週期性地抑制高溫電子的密度,藉此,可抑制電弧放電的產生。脈衝控制中,將實施電力供給的接通時間與停止電力供給的斷開時間作為一個期間,以週期性地反覆實施電力供給。脈衝控制中,將停止電力供給之後的電漿中的電子密度的下降過程中、電子密度自停止電力供給起直至達到產生電弧放電的殘留電漿臨限値為止的時間,與停止電力供給之後的電漿中的高溫電子的密度下降過程中、自停止電力供給起直至達到特定的電漿狀態為止的時間之間的時間間隔,作為停止電力供給的斷開時間,並將開始電力供給之後電漿中的高溫電子密度的上升過程中的飽和時間作為電力供給的接通時間的上限,於上述條件下間斷地供給電力。
简体摘要：于利用电容耦合型等离子CVD设备的成膜过程中,借由对低频RF电源进行脉冲控制而在产生电弧放电之前周期性地抑制高温电子的密度,借此,可抑制电弧放电的产生。脉冲控制中,将实施电力供给的接通时间与停止电力供给的断开时间作为一个期间,以周期性地反复实施电力供给。脉冲控制中,将停止电力供给之后的等离子中的电子密度的下降过程中、电子密度自停止电力供给起直至达到产生电弧放电的残留等离子临限値为止的时间,与停止电力供给之后的等离子中的高温电子的密度下降过程中、自停止电力供给起直至达到特定的等离子状态为止的时间之间的时间间隔,作为停止电力供给的断开时间,并将开始电力供给之后等离子中的高温电子密度的上升过程中的饱和时间作为电力供给的接通时间的上限,于上述条件下间断地供给电力。

78. 发明专利

TWI309225B 基板搬送裝置和配置有這種基板搬送裝置的真空處理裝置 SUBSTRATE MOVLING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING APPARATUS WITH THEREOF 有权
简体标题：基板搬送设备和配置有这种基板搬送设备的真空处理设备 SUBSTRATE MOVLING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING APPARATUS WITH THEREOF
公开(公告)号：TWI309225B
公开(公告)日：2009-05-01
申请号：TW094127119
申请日：2005-08-10
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION
发明人：田口大 TAGUCHI, TATSUHIRO
IPC分类号： B65G , B65H , H01L
摘要：一種能夠使搬送動作簡單化、從而能夠在短時間裏進入至搬送作業狀態的基板搬送裝置。真空處理裝置100由真空預備加熱腔室10和電漿處理腔室20連接構成,在真空預備加熱腔室10內的上下兩個部分處配置著基板搬送裝置11、13,而且在電漿處理腔室20內設置有基板搬送裝置21。基板搬送裝置11、13、21可以分別繞狀態切換軸T1、T2、T3轉動,以位於水平位置和傾斜位置處。當被處理基板需要由基板搬送裝置11搬送至基板搬送裝置21處時,可以使基板搬送裝置11、21的搬送面按照分別與搬送線L2保持一致的方式實施搬送。當被處理基板需要由基板搬送裝置21搬送至基板搬送裝置13處時,可以使基板搬送裝置13、21的搬送面按照分別與搬送線L3保持一致的方式實施搬送。
简体摘要：一种能够使搬送动作简单化、从而能够在短时间里进入至搬送作业状态的基板搬送设备。真空处理设备100由真空预备加热腔室10和等离子处理腔室20连接构成,在真空预备加热腔室10内的上下两个部分处配置着基板搬送设备11、13,而且在等离子处理腔室20内设置有基板搬送设备21。基板搬送设备11、13、21可以分别绕状态切换轴T1、T2、T3转动,以位于水平位置和倾斜位置处。当被处理基板需要由基板搬送设备11搬送至基板搬送设备21处时,可以使基板搬送设备11、21的搬送面按照分别与搬送线L2保持一致的方式实施搬送。当被处理基板需要由基板搬送设备21搬送至基板搬送设备13处时,可以使基板搬送设备13、21的搬送面按照分别与搬送线L3保持一致的方式实施搬送。

79. 发明专利

TW200920118A 固態攝影元件及其驅動方法审中-公开
简体标题：固态摄影组件及其驱动方法
公开(公告)号：TW200920118A
公开(公告)日：2009-05-01
申请号：TW097134048
申请日：2008-09-05
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION , 國立大學法人東北大學 TOHOKU UNIVERSITY
发明人：須川成利 SUGAWA, SHIGETOSHI , 近藤泰志 KONDO, YASUSHI , 富永秀樹 TOMINAGA, HIDEKI
IPC分类号： H04N
CPC分类号： H04N5/35572 , H04N5/3559 , H04N5/3575 , H04N5/3742 , H04N5/37452 , H04N5/378
摘要：本發明係於像素區域(2a)內依排列成二維狀之各像素(10)設置獨立之像素輸出線(14),並將複數個記憶部連接於各像素輸出線(14)。在連續讀取模式中,係以全像素同時執行光電荷儲存,並從各像素(10)通過像素輸出線(14)同時將訊號儲存於記憶部之後,逐次讀取儲存於各記憶部之訊號並予以輸出。另一方面,在叢發讀取模式中,係對複數個記憶部依序執行以下動作,亦即以全像素(10)同時執行光電荷儲存,並從各像素(10)通過像素輸出線(14)同時將訊號儲存於記憶部,藉此儲存複數個圖框之訊號。接到攝影停止之指示即停止新的訊號之儲存,並在該時點逐次讀取儲存於記憶部之複數個圖框分的影像訊號並予以輸出。藉此,即可進行圖框數雖受限但非常高速之攝影與相較於前者速度雖下降但無圖框數之限制的攝影。
简体摘要：本发明系于像素区域(2a)内依排列成二维状之各像素(10)设置独立之像素输出线(14),并将复数个记忆部连接于各像素输出线(14)。在连续读取模式中,系以全像素同时运行光电荷存储,并从各像素(10)通过像素输出线(14)同时将信号存储于记忆部之后,逐次读取存储于各记忆部之信号并予以输出。另一方面,在丛发读取模式中,系对复数个记忆部依序运行以下动作,亦即以全像素(10)同时运行光电荷存储,并从各像素(10)通过像素输出线(14)同时将信号存储于记忆部,借此存储复数个图框之信号。接到摄影停止之指示即停止新的信号之存储,并在该时点逐次读取存储于记忆部之复数个图框分的影像信号并予以输出。借此,即可进行图框数虽受限但非常高速之摄影与相较于前者速度虽下降但无图框数之限制的摄影。

80. 发明专利

TWI307409B 總有機碳測定方法、總氮量測定方法以及用於該些測定方法之測定裝置 MEASURING METHOD OF TOTAL ORGANIC CARBON, MEASURING METHOD OF TOTAL NITROGEN, MEASURING APPARATUS FOR THE MEASURING METHODS 失效
简体标题：总有机碳测定方法、总氮量测定方法以及用于该些测定方法之测定设备 MEASURING METHOD OF TOTAL ORGANIC CARBON, MEASURING METHOD OF TOTAL NITROGEN, MEASURING APPARATUS FOR THE MEASURING METHODS
公开(公告)号：TWI307409B
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：TW094145765
申请日：2005-12-22
申请人：島津製作所股份有限公司 SHIMADZU CORPORATION
发明人：藤山陽一 FUJIYAMA, YOICHI , 森田洋造 MORITA, YOZO , 片所功 KATASHO, ISAO
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N33/1846 , G01N27/06 , G01N31/005 , Y10T436/176152 , Y10T436/235
摘要：本發明提供一種去除氮成分之影響而測定總有機碳量之方法。其藉由:(1)將樣品水中之氫離子濃度調整至pH値4至6之範圍,(2)將樣品水中所含有之有機物氧化分解為二氧化碳,且將氮化合物氧化分解為亞硝酸,(3)通過氣體透過部5a使二氧化碳透過至測定水,(4)測定該測定水之電導率,而求出總有機碳量。
简体摘要：本发明提供一种去除氮成分之影响而测定总有机碳量之方法。其借由:(1)将样品水中之氢离子浓度调整至pH値4至6之范围,(2)将样品水中所含有之有机物氧化分解为二氧化碳,且将氮化合物氧化分解为亚硝酸,(3)通过气体透过部5a使二氧化碳透过至测定水,(4)测定该测定水之电导率,而求出总有机碳量。

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