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61. 发明专利

TW200907602A 光微影系統 PHOTOLITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
简体标题：光微影系统 PHOTOLITHOGRAPHY SYSTEM
公开(公告)号：TW200907602A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097130030
申请日：2008-08-07
申请人：奧克製作所股份有限公司 ORC MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：奧山隆志 TAKASHI OKUYAMA , 小林義則 YOSHINORI KOBAYASHI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70508 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/704
摘要：光微影系統包括了至少一空間光調製器、一掃描機構、複數記憶體、一資料處理器與一曝光控制器。至少一空間光調製器包括了規則排列之複數光調製元件。掃描機構係規劃用以相對於一目標物件而沿著一給定掃描方向移動至一曝光區域,曝光區域被定義為空間光調製器之一投影區域。複數記憶體係規劃用以對應於複數空間曝光區域,複數空間曝光區域係經由區分曝光區域而定義,複數記憶體係指定為第一記憶體至第N記憶體。資料處理器係根據一曝光之時序而連續地將曝光資料寫入各記憶體之中。曝光控制器係基於曝光區域之相對位置而控制複數光調製元件。舉例而言,複數記憶體係以串聯方式而彼此相互連接。資料處理器係將最新產生曝光資料寫入第一記憶體且將儲存在第一記憶體至第N-1記憶體中之曝光資料分別轉移至第二記憶體至第N記憶體。
简体摘要：光微影系统包括了至少一空间光调制器、一扫描机构、复数内存、一数据处理器与一曝光控制器。至少一空间光调制器包括了守则排列之复数光调制组件。扫描机构系规划用以相对于一目标对象而沿着一给定扫描方向移动至一曝光区域,曝光区域被定义为空间光调制器之一投影区域。复数内存系规划用以对应于复数空间曝光区域,复数空间曝光区域系经由区分曝光区域而定义,复数内存系指定为第一内存至第N内存。数据处理器系根据一曝光之时序而连续地将曝光数据写入各内存之中。曝光控制器系基于曝光区域之相对位置而控制复数光调制组件。举例而言,复数内存系以串联方式而彼此相互连接。数据处理器系将最新产生曝光数据写入第一内存且将存储在第一内存至第N-1内存中之曝光数据分别转移至第二内存至第N内存。

62. 发明专利

TW200848951A 使用單一資料處理單元之多重工具 MULTIPLE TOOLS USING A SINGLE DATA PROCESSING UNIT 审中-公开
简体标题：使用单一数据处理单元之多重工具 MULTIPLE TOOLS USING A SINGLE DATA PROCESSING UNIT
公开(公告)号：TW200848951A
公开(公告)日：2008-12-16
申请号：TW097112684
申请日：2008-04-08
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：林本堅 LIN, BURNJENG
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70991 , G03F7/70383 , G03F7/70508
摘要：一種用以經由影像束製程而同時處理多片基材的方法與系統,此系統包括多重曝光模組,此些曝光模組可直接寫入基材,配置此些曝光模組以自資料處理單元接收寫入指令。本發明之系統與方法採用多重曝光模組,多重曝光模組自單一資料處理單元接收寫入指令。
简体摘要：一种用以经由影像束制程而同时处理多片基材的方法与系统,此系统包括多重曝光模块,此些曝光模块可直接写入基材,配置此些曝光模块以自数据处理单元接收写入指令。本发明之系统与方法采用多重曝光模块,多重曝光模块自单一数据处理单元接收写入指令。

63. 发明专利

TWI300308B 平版印刷系統 LITHOGRAPHY SYSTEM 有权
简体标题：平版印刷系统 LITHOGRAPHY SYSTEM
公开(公告)号：TWI300308B
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：TW092129694
申请日：2003-10-24
申请人：瑪珀平版印刷股份有限公司 MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人：馬可尚嘉歌衛蘭 MARCO JAN-JACO WIELAND , 連歌嘉格 REMCO JAGER , 强斯克莉斯丁凡史必克 JOHANNES CHRISTIAAN VAN'T SPIJKER , 比得克魯特 PIETER KRUIT
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G03F7/70383 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/52 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70825 , G03F7/70991 , H01J37/045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0432 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/2482
摘要：本發明是有關一種將一模式傳送至一個目標表面之無
光罩式平版印刷系統,其包含有至少一個用以產生許多小
光束之光束產生器;包含許多調變器用以調變小光束量之
調變裝置;以及一個用以控制各調變器之控制裝置,其中
該控制裝置會產生並傳送模式資料給用以控制各小光束量
之前述調變裝置。該控制裝置包括至少一個用以儲存模式
資料之資料儲存器;至少一個用以從資料儲存裝置讀出模
式資料之讀取單元;至少一個用以將讀出模式資料從資料
儲存裝置轉換為至少一個調變光束之資料轉換器;至少一
個用以將前述至少一個調變光束傳送至前述調變裝置之光
傳送器。
简体摘要：本发明是有关一种将一模式发送至一个目标表面之无光罩式平版印刷系统,其包含有至少一个用以产生许多小光束之光束产生器;包含许多调制器用以调制小光束量之调制设备;以及一个用以控制各调制器之控制设备,其中该控制设备会产生并发送模式数据给用以控制各小光束量之前述调制设备。该控制设备包括至少一个用以存储模式数据之数据存储器;至少一个用以从数据存储设备读出模式数据之读取单元;至少一个用以将读出模式数据从数据存储设备转换为至少一个调制光束之数据转换器;至少一个用以将前述至少一个调制光束发送至前述调制设备之光发送器。

64. 发明专利

TWI299438B 微影裝置,控制系統及器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS, CONTROL SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备,控制系统及器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS, CONTROL SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI299438B
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW094110498
申请日：2005-04-01
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：漢斯巴特 BUTLER, HANS
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70533 , G03F7/70508 , G03F7/70525
摘要：本發明揭示一種微影裝置,其包括配置成提供一輻射光束之一照明系統;配置成支撐一圖案化裝置之一支撐物,將該圖案化裝置配置成賦予該光束一斷面圖案;配置成固定一基板之一基板台;配置成將該圖案化光束投射至該基板之一目標部分上的一投影系統;配置成產生一資訊信號之一測量系統,該資訊信號包括關於該圖案化裝置、該基板、該投影系統及其中組件之至少一項的位置之資訊;以及配置成控制該等位置之一控制系統。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备,其包括配置成提供一辐射光束之一照明系统;配置成支撑一图案化设备之一支撑物,将该图案化设备配置成赋予该光束一断面图案;配置成固定一基板之一基板台;配置成将该图案化光束投射至该基板之一目标部分上的一投影系统;配置成产生一信息信号之一测量系统,该信息信号包括关于该图案化设备、该基板、该投影系统及其中组件之至少一项的位置之信息;以及配置成控制该等位置之一控制系统。

65. 发明专利

TW200827682A 用於實行用於量測資料之通用座標系統的方法及設備 METHOD AND APPARATUS FOR IMPLEMENTING A UNIVERSAL COORDINATE SYSTEM FOR METROLOGY DATA 审中-公开
简体标题：用于实行用于量测数据之通用座标系统的方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR IMPLEMENTING A UNIVERSAL COORDINATE SYSTEM FOR METROLOGY DATA
公开(公告)号：TW200827682A
公开(公告)日：2008-07-01
申请号：TW096136703
申请日：2007-10-01
申请人：高級微裝置公司 ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
发明人：馬克印提瑞邁克G MCINTYRE, MICHAEL G. , 宗竹青 ZONG, ZHUQING , 菲曼都達安卓 DROZDA-FREEMAN, ANDREW , 聖卡倫薇怡 SANKARAN, VIJAY
IPC分类号： G01D
CPC分类号： G03F9/7003 , G03F7/70508 , G03F7/70616
摘要：一種方法包含接收量測報告(metrology report),該量測報告包含由量測工具所收集之量測資料、關聯於該量測資料之位置資料、和關聯於該量測工具之背景資料(context data)。由該量測工具所使用的第一座標系統係根據該背景資料來決定。該位置資料係從該第一座標系統轉換至第二座標系統,以產生轉換之位置資料。該轉換之位置資料係關聯於該量測資料。
简体摘要：一种方法包含接收量测报告(metrology report),该量测报告包含由量测工具所收集之量测数据、关联于该量测数据之位置数据、和关联于该量测工具之背景数据(context data)。由该量测工具所使用的第一座标系统系根据该背景数据来决定。该位置数据系从该第一座标系统转换至第二座标系统,以产生转换之位置数据。该转换之位置数据系关联于该量测数据。

66. 发明专利

TW200723852A 繪圖裝置及圖像資料的製作方法 APPARATUS FOR IMAGE RECORDING AND METHOD OF GENERATING IMAGE DATA 审中-公开
简体标题：绘图设备及图像数据的制作方法 APPARATUS FOR IMAGE RECORDING AND METHOD OF GENERATING IMAGE DATA
公开(公告)号：TW200723852A
公开(公告)日：2007-06-16
申请号：TW095136144
申请日：2006-09-29
申请人：富士軟片股份有限公司 FUJI CORPORATION
发明人：武者野滿 MUSHANO, MITSURU , 柏井有里 KASHIWAI, YURI
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70508
摘要：在形成於基板之像素間距和微反射鏡的讀出間距相異之情況,將影像資料200作為記憶體位址連續之預先分割的分割影像資料(200A、200B)而預先儲存於記憶體。由記憶體所儲存之分割影像資料(200A、200B)分別利用記憶體讀出手段高速(短時間)地讀出資料,可製作反射鏡資料(202A、202B)。
简体摘要：在形成于基板之像素间距和微反射镜的读出间距相异之情况,将影像数据200作为内存位址连续之预先分割的分割影像数据(200A、200B)而预先存储于内存。由内存所存储之分割影像数据(200A、200B)分别利用内存读出手段高速(短时间)地读出数据,可制作反射镜数据(202A、202B)。

67. 发明专利

TW200712792A 利用用於FPD之多重辭典壓縮方法之微影裝置及元件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD UTILIZING A MULTIPLE DICTIONARY COMPRESSION METHOD FOR FPD 审中-公开
简体标题：利用用于FPD之多重辞典压缩方法之微影设备及组件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD UTILIZING A MULTIPLE DICTIONARY COMPRESSION METHOD FOR FPD
公开(公告)号：TW200712792A
公开(公告)日：2007-04-01
申请号：TW095130345
申请日：2006-08-18
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：派翠西斯阿若瑟斯約克伯提那曼斯 TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 蓮博特絲姫德絲馬莉雅凱瑟絲 KESSELS, LAMBERTUS GERARDUS MARIA , 瑞米可喬漢那凡英葛 VAN ENGELEN, REMCO JOHANNES
IPC分类号： G03F , H01L , G11C , G02F
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70508
摘要：本發明提供一種微影裝置,其包含:一陣列之個別可控制器件,其調變一輻射光束;一壓縮圖案記憶體,其儲存將藉由經調變之光束形成於一基板上之一所需劑量之圖案的一壓縮圖像;及一辭典解壓縮器,其至少部分解壓縮該壓縮圖像。該辭典解壓縮器包含:一外部辭典記憶體;一第一辭典解碼器,其藉由自該外部辭典記憶體擷取該壓縮圖像中含有的對應於對該外部辭典記憶體之參考的圖案資料之部分而至少部分解壓縮該壓縮圖像之至少一部分;及一第二辭典解碼器,其具有一內部辭典記憶體,該第二辭典解碼器藉由自該內部辭典記憶體擷取該壓縮圖像中含有的對應於對該內部辭典記憶體之參考的圖案資料之部分而至少部分解壓縮該壓縮圖像之至少一部分。
简体摘要：本发明提供一种微影设备,其包含:一数组之个别可控制器件,其调制一辐射光束;一压缩略图案内存,其存储将借由经调制之光束形成于一基板上之一所需剂量之图案的一压缩略图像;及一辞典解压缩器,其至少部分解压缩该压缩略图像。该辞典解压缩器包含:一外部辞典内存;一第一辞典译码器,其借由自该外部辞典内存截取该压缩略图像中含有的对应于对该外部辞典内存之参考的图案数据之部分而至少部分解压缩该压缩略图像之至少一部分;及一第二辞典译码器,其具有一内部辞典内存,该第二辞典译码器借由自该内部辞典内存截取该压缩略图像中含有的对应于对该内部辞典内存之参考的图案数据之部分而至少部分解压缩该压缩略图像之至少一部分。

68. 发明专利

TW200704146A 描畫方法、描畫裝置、描畫系統及修正方法 PLOTTING METHOD, PLOTTING DEVICE, PLOTTING SYSTEM AND CORRECTION METHOD 审中-公开
简体标题：描画方法、描画设备、描画系统及修正方法 PLOTTING METHOD, PLOTTING DEVICE, PLOTTING SYSTEM AND CORRECTION METHOD
公开(公告)号：TW200704146A
公开(公告)日：2007-01-16
申请号：TW095105620
申请日：2006-02-20
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：平島卓哉 HIRASHIMA, TAKUYA
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G03F9/00 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70783
摘要： [課題]在曝光位置對準功能中,使對感光材料的變形之修正,比對感光材料的位置與姿勢之修正更早先執行,以提供一種可提高處理能力的曝光裝置及其校正方法。[解決手段]感光材料12的形狀.尺寸精度誤差,對個別每一枚的感光材料12皆係固有的,預先以CCD照相機26或其他檢測手段檢測3個以上的對準標示(alignment mark)13的位置,則可事先取得用以預先修正感光材料12的尺寸精度誤差.變形等資料。藉此,可將曝光所必要的修正資料的算出量予以分割,可減少曝光裝置10上在曝光前算出所需要的修正資料量。因此,在曝光裝置10的工作台14上感光材料12被搬送至曝光位置的階段,算出所需要的資料量變少,同提高曝光裝置10的處理能力。
简体摘要： [课题]在曝光位置对准功能中,使对感光材料的变形之修正,比对感光材料的位置与姿势之修正更早先运行,以提供一种可提高处理能力的曝光设备及其校正方法。[解决手段]感光材料12的形状.尺寸精度误差,对个别每一枚的感光材料12皆系固有的,预先以CCD照相机26或其他检测手段检测3个以上的对准标示(alignment mark)13的位置,则可事先取得用以预先修正感光材料12的尺寸精度误差.变形等数据。借此,可将曝光所必要的修正数据的算出量予以分割,可减少曝光设备10上在曝光前算出所需要的修正数据量。因此,在曝光设备10的工作台14上感光材料12被搬送至曝光位置的阶段,算出所需要的数据量变少,同提高曝光设备10的处理能力。

69. 发明专利

TWI266961B 連續直接寫入光學微影平版印刷技術 CONTINUOUS DIRECT-WRITE OPTICAL LITHOGRAPHY 有权
简体标题：连续直接写入光学微影平版印刷技术 CONTINUOUS DIRECT-WRITE OPTICAL LITHOGRAPHY
公开(公告)号：TWI266961B
公开(公告)日：2006-11-21
申请号：TW092123166
申请日：2003-08-22
申请人：威廉D. 米斯伯格 WILLIAM DANIEL MEISBURGER
发明人：威廉D. 米斯伯格 WILLIAM DANIEL MEISBURGER
IPC分类号： G03F , G03B
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/70383 , G03F7/70466 , G03F7/70508 , G03F7/70558
摘要：一種光學微影平版印刷技術系統，其係包括一光源、一空間式調光器、一成像光學裝置、和一可相對於其空間式調光器連續移動一感光性基體之器具。其空間式調光器，係包括至少一可個別交換之元件的陣列。其空間式調光器係受到連續之照射，以及此空間式調光器之影像，係使連續投射至其基體上面；結果，其影像係持續地移動橫越其基體之表面。正當該影像移動橫越其表面之際，其空間式調光器之元件將會被交換，以致上述基體之表面上的一個圖素，將會串列地接收其空間式調光器之多重元件所出的能量之劑量，因而會在其基體表面上形成一潛像。其成像光學裝置在配置上，可將其空間式調光器之一模糊影像，投射至其基體上面，而促成其子圖素解析度特徵側緣安置。
简体摘要：一种光学微影平版印刷技术系统，其系包括一光源、一空间式调光器、一成像光学设备、和一可相对于其空间式调光器连续移动一感光性基体之器具。其空间式调光器，系包括至少一可个别交换之组件的数组。其空间式调光器系受到连续之照射，以及此空间式调光器之影像，系使连续投射至其基体上面；结果，其影像系持续地移动横越其基体之表面。正当该影像移动横越其表面之际，其空间式调光器之组件将会被交换，以致上述基体之表面上的一个图素，将会串行地接收其空间式调光器之多重组件所出的能量之剂量，因而会在其基体表面上形成一潜像。其成像光学设备在配置上，可将其空间式调光器之一模煳影像，投射至其基体上面，而促成其子图素分辨率特征侧缘安置。

70. 发明专利

TW200628999A 微影裝置及器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备及器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200628999A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：TW094144280
申请日：2005-12-14
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：馬歇爾邦特克 BONTEKOE, MARCEL , 派翠西斯阿若瑟斯約克伯提那曼斯 TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 蓮博特絲姫德絲馬莉雅凱瑟絲 KESSELS, LAMBERTUS GERARDUS MARIA , 馬可康尼爾司賈古柏司凡海瑟 VAN HASSEL, MARCO CORNELIS JACOBUS MARTINUS , 沃特法蘭司威廉穆可其司 MULCKHUYSE, WOUTER FRANS WILLEM
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70283 , G03F7/70508
摘要：本發明揭示一種微影裝置，其包括：一投影系統，其經組態以將一輻射光束作為一輻射子光束陣列投影；及一可分別控制元件陣列，其經組態以調變該等輻射子光束，以於一基板上形成一所要求之劑量圖案。該所要求之劑量圖案係隨著時間的進行自一局部曝光陣列形成，在該局部曝光陣列中，至少相鄰之局部曝光係在明顯不同之時刻成像，且其中每一局部曝光皆係由其中一個輻射子光束形成。該微影裝置亦包括一光柵化器件，該光柵化器件設置成將規定該所要求劑量圖案之資料變換成一資料序列，該資料序列代表在該圖案內一對應的點序列處之所要求劑量圖案，且該微影裝置亦包括一資料調處器件，該資料調處器件設置成接收該資料序列並構成一適於控制該可分別控制元件陣列之控制信號。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备，其包括：一投影系统，其经组态以将一辐射光束作为一辐射子光束数组投影；及一可分别控件数组，其经组态以调制该等辐射子光束，以于一基板上形成一所要求之剂量图案。该所要求之剂量图案系随着时间的进行自一局部曝光数组形成，在该局部曝光数组中，至少相邻之局部曝光系在明显不同之时刻成像，且其中每一局部曝光皆系由其中一个辐射子光束形成。该微影设备亦包括一光栅化器件，该光栅化器件设置成将规定该所要求剂量图案之数据变换成一数据串行，该数据串行代表在该图案内一对应的点串行处之所要求剂量图案，且该微影设备亦包括一数据调处器件，该数据调处器件设置成接收该数据串行并构成一适于控制该可分别控件数组之控制信号。

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