专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

51. 发明专利

TW201802453A 堆疊差異之判定及使用堆疊差異之校正审中-公开
简体标题：堆栈差异之判定及使用堆栈差异之校正
公开(公告)号：TW201802453A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106113243
申请日：2017-04-20
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE
IPC分类号： G01N21/47 , G01N21/956 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70133 , G01N21/4788 , G01N21/956 , G03F7/70625 , G03F7/70633
摘要：一種方法，其包括：獲得使用一圖案化程序而處理之一基板上之一度量衡目標之一量測，該量測已使用量測輻射而獲得；及自該量測導出該圖案化程序之一所關注參數，其中該所關注參數係藉由一堆疊差異參數予以校正，該堆疊差異參數表示該目標之鄰近週期性結構之間的實體組態之一非設計差異或該基板上之該度量衡目標與另一鄰近目標之間的實體組態之一非設計差異。
简体摘要：一种方法，其包括：获得使用一图案化进程而处理之一基板上之一度量衡目标之一量测，该量测已使用量测辐射而获得；及自该量测导出该图案化进程之一所关注参数，其中该所关注参数系借由一堆栈差异参数予以校正，该堆栈差异参数表示该目标之邻近周期性结构之间的实体组态之一非设计差异或该基板上之该度量衡目标与另一邻近目标之间的实体组态之一非设计差异。

53. 发明专利

TW201708984A 對準系統审中-公开
简体标题：对准系统
公开(公告)号：TW201708984A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105109907
申请日：2016-03-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 保羅亞歷山卓 , POLO, ALESSANDRO , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 謝萊肯思安卓那斯裘漢斯漢德利克斯 , SCHELLEKENS, ADRIANUS JOHANNES HENDRIKUS , 亞甘尼基達斯特蓋瑞迪艾歐兒 , YEGANEGI DASTGERDI, ELAHE , 蔻妮威樂馬力朱立亞麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL , 寶賈特艾瑞克威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 休斯曼賽門雷納德 , HUISMAN, SIMON REINALD
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F7/70141
摘要：本發明提供一種用於判定一對準標記之位置之對準系統、方法及微影裝置，該對準系統包含：一第一系統，其經組態以產生該對準標記之相對於彼此旋轉大約180度的兩個重疊影像；及一第二系統，其經組態以自該兩個重疊影像之一強度之一空間分佈判定該對準標記之該位置。
简体摘要：本发明提供一种用于判定一对准标记之位置之对准系统、方法及微影设备，该对准系统包含：一第一系统，其经组态以产生该对准标记之相对于彼此旋转大约180度的两个重叠影像；及一第二系统，其经组态以自该两个重叠影像之一强度之一空间分布判定该对准标记之该位置。

54. 发明专利

TW201706721A 度量衡方法及設備、電腦程式及微影系統审中-公开
简体标题：度量衡方法及设备、电脑进程及微影系统
公开(公告)号：TW201706721A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105112484
申请日：2016-04-21
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：曾思翰 , ZENG, SI HAN , 彭玥霖 , PENG, YUE LIN , 方仁宇 , FANG, JEN YU , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 斯特傑亞力山德 , STRAAIJER, ALEXANDER , 洪敬懿 , HUNG, CHING YI , 華那爾派翠克 , WARNAAR, PATRICK
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/24 , G01B11/27
CPC分类号： G03F7/70633 , G01B11/24 , G01B11/272
摘要：本發明揭示一種用於量測一微影程序之一參數之方法、電腦程式及關聯設備。該方法包含如下步驟：獲得第一量測，該等第一量測包含關於複數個第一結構之結構不對稱性之量測，結構不對稱性之該複數個量測中之每一者對應於量測輻射及用於至少一第一參數之一值之一不同量測組合；獲得關於複數個目標之目標不對稱性之複數個第二量測，目標不對稱性之該複數個量測中之每一者對應於該等不同量測組合中之一者，針對該等量測組合中之每一者判定描述該等第一量測與該等第二量測之間的關係之一關係函數；自該關係函數判定一經校正疊對值，該經校正疊對值針對歸因於至少該第一結構中之結構不對稱性之結構貢獻予以校正。
简体摘要：本发明揭示一种用于量测一微影进程之一参数之方法、电脑进程及关联设备。该方法包含如下步骤：获得第一量测，该等第一量测包含关于复数个第一结构之结构不对称性之量测，结构不对称性之该复数个量测中之每一者对应于量测辐射及用于至少一第一参数之一值之一不同量测组合；获得关于复数个目标之目标不对称性之复数个第二量测，目标不对称性之该复数个量测中之每一者对应于该等不同量测组合中之一者，针对该等量测组合中之每一者判定描述该等第一量测与该等第二量测之间的关系之一关系函数；自该关系函数判定一经校正叠对值，该经校正叠对值针对归因于至少该第一结构中之结构不对称性之结构贡献予以校正。

55. 发明专利

TW201506551A 對準感測器、微影裝置及對準方法审中-公开
简体标题：对准传感器、微影设备及对准方法
公开(公告)号：TW201506551A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103116295
申请日：2014-05-07
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/12
CPC分类号： G03F7/70141 , G01B11/272 , G03F9/7069 , G03F9/7088 , G03F9/7092
摘要：本發明揭示一種對準感測器及關聯方法，該對準感測器及該關聯方法包含：一照明源，諸如，一白光源，其具有可操作而以取決於波長之一角度來繞射高階輻射之一照明光柵；及照明光學件，其用以將該繞射輻射自至少兩個相對方向上遞送至一對準光柵上。對於入射於該對準光柵上之每一分量波長且對於每一方向，自該兩個相對方向中之一者入射的輻射之零繞射階與自另一方向入射的輻射之一高繞射階重疊。此情形用該等重疊零階來光學地放大該等高繞射階。
简体摘要：本发明揭示一种对准传感器及关联方法，该对准传感器及该关联方法包含：一照明源，诸如，一白光源，其具有可操作而以取决于波长之一角度来绕射高级辐射之一照明光栅；及照明光学件，其用以将该绕射辐射自至少两个相对方向上递送至一对准光栅上。对于入射于该对准光栅上之每一分量波长且对于每一方向，自该两个相对方向中之一者入射的辐射之零绕射阶与自另一方向入射的辐射之一高绕射阶重叠。此情形用该等重叠零阶来光学地放大该等高绕射阶。

56. 发明专利

TW201312294A 用於判定疊對誤差之方法及裝置审中-公开
简体标题：用于判定叠对误差之方法及设备
公开(公告)号：TW201312294A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101131232
申请日：2012-08-28
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01L23/544 , G03F7/70633 , H01L2223/5442 , H01L2223/54426 , H01L2223/54453 , H01L2223/5446 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明揭示一種判定由諸如不對稱性之結構缺陷引起之一疊對誤差的方法及其關聯裝置。該方法包含：量測包含一第一結構及一第二結構之一第一目標之散射屬性；使用該等測定散射屬性來建構該第一結構之一模型，該模型包含對應於該第一結構之一第一模型結構；藉由使該第一模型結構與一中間模型結構疊對來修改該模型；藉由用對應於該第二結構之一第二模型結構替換該中間模型結構來進一步修改該模型；演算該第一模型結構與該第二模型結構之間的一第二缺陷誘發性疊對誤差，該第一模型結構及該第二模型結構在該經進一步修改模型中相對於彼此而疊對；及使用該經演算之第二缺陷誘發性疊對誤差來判定一第二目標中之一疊對誤差。
简体摘要：本发明揭示一种判定由诸如不对称性之结构缺陷引起之一叠对误差的方法及其关联设备。该方法包含：量测包含一第一结构及一第二结构之一第一目标之散射属性；使用该等测定散射属性来建构该第一结构之一模型，该模型包含对应于该第一结构之一第一模型结构；借由使该第一模型结构与一中间模型结构叠对来修改该模型；借由用对应于该第二结构之一第二模型结构替换该中间模型结构来进一步修改该模型；演算该第一模型结构与该第二模型结构之间的一第二缺陷诱发性叠对误差，该第一模型结构及该第二模型结构在该经进一步修改模型中相对于彼此而叠对；及使用该经演算之第二缺陷诱发性叠对误差来判定一第二目标中之一叠对误差。

57. 发明专利

TWI613528B 度量衡方法及設備、電腦程式及微影系統有权
简体标题：度量衡方法及设备、电脑进程及微影系统
公开(公告)号：TWI613528B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW105112484
申请日：2016-04-21
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：曾思翰 , ZENG, SI HAN , 彭玥霖 , PENG, YUE LIN , 方仁宇 , FANG, JEN YU , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 斯特傑亞力山德 , STRAAIJER, ALEXANDER , 洪敬懿 , HUNG, CHING YI , 華那爾派翠克 , WARNAAR, PATRICK
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/24 , G01B11/27
CPC分类号： G03F7/70633 , G01B11/24 , G01B11/272

58. 发明专利

TW201716883A 檢查方法、微影裝置、光罩及基板审中-公开
简体标题：检查方法、微影设备、光罩及基板
公开(公告)号：TW201716883A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105140546
申请日：2014-12-09
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：凡多姆倫尤瑞喬漢那勞瑞提斯瑪利亞 , VAN DOMMELEN, YOURI JOHANNES LAURENTIUS MARI , 凱瑟絲蓮博特絲姬德絲馬莉雅 , KESSELS, LAMBERTUS GERARDUS MARIA , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 希尼保羅克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 英布隆彼得大衛 , ENGBLOM, PETER DAVID , 巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE , 彼得氏瑪可喬漢娜安瑪莉 , PIETERS, MARCO JOHANNES ANNEMARIE
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/38
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F7/70683
摘要：本發明揭示一種用於獲得與一微影程序相關之焦點資訊之方法及裝置。該方法包括：照明一目標，該目標具有交替之第一結構及第二結構，其中該等第二結構之形式係焦點相依的，而該等第一結構之形式不具有與該等第二結構之焦點相依性相同的焦點相依性；及偵測由該目標重導向之輻射以針對彼目標獲得表示該目標之一整體不對稱性的一不對稱性量測，其中該不對稱性量測指示形成該目標之光束之焦點。本發明揭示一種用於形成此目標之關聯光罩，及一種具有此目標之基板。
简体摘要：本发明揭示一种用于获得与一微影进程相关之焦点信息之方法及设备。该方法包括：照明一目标，该目标具有交替之第一结构及第二结构，其中该等第二结构之形式系焦点相依的，而该等第一结构之形式不具有与该等第二结构之焦点相依性相同的焦点相依性；及侦测由该目标重导向之辐射以针对彼目标获得表示该目标之一整体不对称性的一不对称性量测，其中该不对称性量测指示形成该目标之光束之焦点。本发明揭示一种用于形成此目标之关联光罩，及一种具有此目标之基板。

59. 发明专利

TWI558998B 用於設計度量目標之方法、具有度量目標之基板、用於度量疊對之方法、用於微影程序中之一對圖案化器件、量測微影程序之一效能參數之方法、電腦程式產品及器件製造方法有权
简体标题：用于设计度量目标之方法、具有度量目标之基板、用于度量叠对之方法、用于微影进程中之一对图案化器件、量测微影进程之一性能参数之方法、电脑进程产品及器件制造方法
公开(公告)号：TWI558998B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW103128501
申请日：2014-08-19
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE
IPC分类号： G01N21/956 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/705 , G03F7/70158 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/708 , H01L23/544

60. 发明专利

TWI537690B 對準感測器、微影裝置及對準方法有权
简体标题：对准传感器、微影设备及对准方法
公开(公告)号：TWI537690B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW103116295
申请日：2014-05-07
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 提那曼斯派翠西斯阿若瑟斯約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/12
CPC分类号： G03F7/70141 , G01B11/272 , G03F9/7069 , G03F9/7088 , G03F9/7092

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式